专利名称：：图案形成方法
技术领域：
：本发明涉及将利用空间光调制元件等光调制机构调制的光通过成像光学系成像于感光层的被曝光面上，从而进行该感光层的曝光的图案形成方法。10
背景技术：
以往，知道的有，具备基于图案信息(图像信号)调制入射的光，并形成二维图案的空间光调制机构等光调制机构，将所形成的二维图案投影在感光材料上进行曝光的曝光装置。15作为所述空间光调制机构，知道的有，二维状排列(1024X756像素)多个能够改变倾斜角度的数字'微反射镜，器件(DMD)(例如，参照专利文献1)。具备DMD作为光调制机构的曝光装置具备具有用于将二维图案成像的投影透镜的成像机构，该投影透镜构成为将DMD的各微反射镜中倾斜20为规定角度的微反射镜反射的光成像于感光材料上。g卩，使用该曝光装置的曝光中，形成在感光材料上投影的二维图案的各像素对应于各微反射镜。在以往的曝光装置中，使用构成所述成像机构的投影透镜的大致整个面区域，在感光材料上将二维图案成像。在这种情况下，需要在所述投影25透镜的所有区域抑制像面弯曲、像散、及畸变等，提高远心性，具有高透镜光学性能。然而，制造在大致整个面区域具有高透镜光学性能的投影透镜时，需要提高部件精度、挑选更良好的部件等，另外，制造自在整个区域具有高透镜光学性能的大口径的投影透镜起来困难，不能进行大面积的曝光，导30致曝光速度的降低。从而，在使用具备大致整个面区域具有高透镜光学性能的投影透镜的曝光装置形成图案时，降低图案形成效率，进而，导致成本增加的问题。另一方面，若投影透镜的透镜光学性能变差，则束位置精度变差，因此，例如，需要通过增加多重曝光的次数等的方法，减化位置精度变差的5影响，因此，使用具备光学性能变差的投影透镜的曝光装置形成图案的情况下，存在曝光速度降低引起的图案形成效率降低或析像度的降低等问题。从而，还未提供通过在不导致装置的成本增加或曝光速度的降低的情况下提高曝光性能，能够高精细且效率良好地形成配线图案等永久图案的10图案形成方法，现状是需要进一步的改进开发。专利文献l:特开2001—305663号公报
发明内容本发明是鉴于上述现状而做出的，其以解决以往的所述各问题，实现15以下的目的为课题。即，本发明的目的在于提供通过在不导致装置的成本增加或曝光速度的降低的情况下提高曝光性能，能够高精细且效率良好地形成配线图案等永久图案的图案形成方法。为了解决所述课题的方案，如下所述，艮P:<1>一种图案形成方法，其特征在于，20将在支撑体上具有感光层的图案形成材料中的该感光层层叠在被处理基体上，然后至少包括对该感光层进行的如下所述的步骤，艮口利用接受来自光照射机构的光且基于图案信息进行调制的光调制机构，将来自所述光照射机构的光进行调制，将利用所述光调制机构调制的光经由成像机构和焦点调节机构成像于所述感光层的被曝光面上，从而进25行曝光，所述曝光中，利用所述光调制机构调制的光仅成像于包括所述成像机构的中央部的大致矩形状的区域，成像于所述感光层的被曝光面上的大致矩形状的曝光区域的朝向如下所述，§卩该曝光区域的短边方向和所述感光层的弯曲方向所成的角小30于该曝光区域的长边方向和所述感光层的弯曲方向所成角。在该<1>所述的图案形成方法中，将利用所述光调制机构调制的光经由成像机构和焦点调节机构成像于所述感光层的被曝光面上，从而进行曝光。所述曝光中，利用所述光调制机构调制的光仅成像于包括所述成像机构的中央部的大致矩形状的区域，成像于所述感光层的被曝光面上的大致矩形状的曝光区5域的朝向如下所述，即该曝光区域的短边方向和所述感光层的弯曲方向所成的角小于该曝光区域的长边方向和所述感光层的弯曲方向所成角，因此，将所照射的光有选择地成像于光学性能良好的区域，将焦点位置调节在适当的位置。其结果，高精细地进行向所述感光层的曝光。例如，然后，通过将所述感光层显影，形成高精细的图案。10<2>所述<1>中所述的图案形成方法中，成像机构由在周边区域具有歪斜，减少包括中央部的区域的歪斜而制造的投影透镜构成。在该<2>所述的图案形成方法中，成像机构由在周边区域具有歪斜，减少包括中央部的区域的歪斜而制造的投影透镜构成，因此，将光有选择地向所述投影透镜的光学性能良好的区域照射，由此与使用投影透镜的整个区域的情况相5比，能够小型化焦点调节机构的光学系，另外，能够稳定保持调制的光的焦点位置的同时进行高精度的焦点位置调节。其结果，降低装置成本，并且极其高精细地进行向所述曝光层的曝光。<3>所述<1><2>中任一个所述的图案形成方法中，成像机构将利用光调制机构调制的光成像于长边的长度为短边的长度的两倍以上的大致20矩形状的区域。<4>所述<1><3>中任一个所述的图案形成方法中，焦点调节机构具有按照利用光调制机构调制的光的光轴方向的厚度变化的方式形成的楔型棱镜组，通过使构成所述楔型棱镜组的各楔型棱镜移动，调节在将利用所述光25调制机构调制的光成像于感光层的被曝光面上时的焦点。<5>所述<1><3>中任一个所述的图案形成方法中，焦点调节机构具有构成成像光学系的光学构件、和压电元件，利用所述压电元件使所述光学构件移动，由此调节在将利用所述光调制机构调制的光成像于感光层的被曝光面上时的焦点。在该<5〉中所述的30图案形成方法中，利用所述压电元件使所述光学构件移动，由此调节在将利用所述光调制机构调制的光成像于感光层的被曝光面上时的焦点，因此，能够抑制向与焦点方向垂直的方向的微小的位移，保持高束位置精度，同时极其高精度地调节焦点位置。<6>所述<1><5>中任一个所述的图案形成方法中，成像机构由相对5于光调制机构调制的光的光轴能够以所述光轴为中心旋转的透镜、和能够沿相对于所述光轴的垂直方向移动的透镜的任一个构成。<7>所述<1><6>中任一个所述的图案形成方法中，光调制机构具有二维状排列的n个(其中，n为1以上的自然数)扫描部。<8>所述<1><7>中任一个所述的图案形成方法中，光调制机构是空io间光调制元件。<9>所述<1><8>中任一个所述的图案形成方法中，光照射机构射出从半导体激光器元件发出的激光。<10>所述<9〉所述的图案形成方法中，光照射机构是将多条光纤捆扎的束状光纤光源，所述光纤从一端入射自半导体激光器元件发出的激光，15并从另一端射出所入射的激光。在该<10>所述的图案形成方法中，通过作为光纤束状的光源使用每单位面积的光量大的高亮度光源，能够提高光功率，同时减小延伸性(Etendue)，因此，能够减少所述光调制机构侧的开口数目，进而能够增大所述成像光学系的焦点深度。其结果，抑制在所述感光层的被曝光面上成像的图像的焦点偏移。20<11>所述<8><10>中任一个所述的图案形成方法中，光照射机构可以合成两种以上的光来照射。该<11>中记载的图案形成材料中，通过使所述光照射机构可以合成两种以上的光来照射，曝光中用焦点深度深的曝光光进行。其结果，极其高精细地进行向所述感光层的曝光。例如，然后，通过将所述感光层显影，形成极其高精细的图案。25<12>所述<8><11>中任一个所述的图案形成方法中，光照射机构具有多个激光器；多模光纤；光源聚光光学系，其将从所述多个激光器分别照射的激光束进行平行光化而聚光，使该光会聚在所述多模光纤的入射端面。该<12>所述的图案形成方法中，在该<12〉所述的图案形成方法中，将通过所述光照射机构的所述多个激光器分别照射的激光束聚光在所述30光源聚合光学系，使得能够与所述多模光纤耦合，由此，曝光中用焦点深度深的曝光光进行。其结果，极其高精细地进行向所述感光层的曝光。例如，然后，通过将所述感光层显影，形成极其高精细的图案。<13>所述<1><12>中任一个所述的图案形成方法中，在进行曝光后，进行感光层的显影。5<14>所述<1><13>中任一个所述的图案形成方法中，在进行显影后，形成永久图案。<15>所述<14>所述的图案形成方法中，永久图案是配线图案，该永久图案的形成是通过蚀刻处理及镀敷处理中的至少一种来进行。<16>所述<1><15>中任一个所述的图案形成方法中，感光层包含io粘合剂、聚合性化合物、和光聚合引发剂。<17>所述<16〉所述的图案形成方法中，粘合剂具有酸性基。<18>所述<16><17>中任一个所述的图案形成方法中，粘合剂是乙烯基共聚物。<19>所述<16><18>中任一个所述的图案形成方法中，粘合剂的酸15值是70250mgKOH/g。<20>所述<16><19>中任一个所述的图案形成方法中，聚合性化合物包含具有尿烷基及芳基中的至少任一个的单体。<21>所述<16><20>中任一个所述的图案形成方法中，光聚合引发剂包含选自卤化烃衍生物、六芳基联二咪唑、肟衍生物、有机过氧化物、20硫代化合物、酮化合物、芳香族鎗盐及芳环烯金属衍生物类的至少一种。<22>所述<1><21>中任一个所述的图案形成方法中，感光层含有1090质量％的粘合剂，含有590质量％的聚合性化合物。<23>所述<1><22>中任一个所述的图案形成方法中，感光层的厚度是1100pm。25<24>所述<1><231>中任一个所述的图案形成方法中，支撑体包含合成树脂，且透明。<25>所述<1><24〉中任一个所述的图案形成方法中，支撑体是长条状。<26>所述<1><25>中任一个所述的图案形成方法中，图案形成材料30是长条状，并巻绕成辊状而成。<27>所述<1><26>中任一个所述的图案形成方法中，在图案形成材料中的感光层上形成保护薄膜。根据本发明可知，解决以往的问题，提供通过在不导致装置的成本增加或曝光速度的降低的情况下提高曝光性能，能够高精细且效率良好地形5成配线图案等永久图案的图案形成方法。图l是曝光装置的概略外观图。图2是扫描器的概略外观图。io图3是表示曝光头的内部结构的图。图4是表示作为光照射机构的光源单元的结构的图。图5是表示光照射机构中的激光射出部的机构的图。图6是表示光照射机构中的LD模块的结构的图。图7是构成曝光头的光学要素的说明图。15图8A是表示投影透镜的俯视图。图8B是表示投影透镜的俯视图。图9是具备成像光学系的镜筒的概略侧面剖面图和镜筒的概略俯视图。图10作为光调制机构的DMD的概略立体图。20图llA是构成DMD的微反射镜(micromirror)的使用区域的说明图。图IIB是构成DMD的微反射镜的使用区域的说明图。图12是表示作为焦点调节机构的楔型棱镜组的结构的侧面图。图13是作为焦点调节机构的楔型棱镜组的概略立体图。图14是构成曝光头的光学要素的说明图。25图15A是表示作为焦点调节机构的其他一例的具备压电元件的微透镜阵列的机构的图。图15B是表示作为焦点调节机构的其他一例的具备压电元件的微透镜阵列的机构的图。图16A是表示作为焦点调节机构的其他一例的具备压电元件的微透30镜阵列的机构的图。图16B是表示作为焦点调节机构的其他一例的具备压电元件的微透镜阵列的机构的图。图17A是概略表示感光材料和DMD的位置关系的立体图。图17B是概略表示感光材料和DMD的位置关系的侧面图。具体实施方式本发明的图案形成方法只是要包括将图案形成材料中的感光层层叠在被处理基体上后，对该感光层进行曝光的曝光工序，还包括适当选择的其他工序。io[曝光工序]所述曝光工序至少包括利用接受来自光照射机构的光且基于图案信息进行调制的光调制机构，将来自所述光照射机构的光进行调制，将利用所述光调制机构调制的光经由成像机构和焦点调节机构成像于所述感光层的被曝光面上，从而进行曝光的工序，15所述曝光中，利用所述光调制机构调制的光仅成像于包括所述成像机构的中央部的大致矩形状的区域，成像于所述感光层的被曝光面上的大致矩形状的曝光区域的朝向如下所述，即该曝光区域的短边方向和所述感光层的弯曲方向所成的角小于该曝光区域的长边方向和所述感光层的弯曲方向所成角。20参照附图，对本发明的图案形成方法的曝光工序中的曝光装置的一例进行以下的说明。所述曝光工序中的曝光方法通过所述曝光装置的说明变得清楚。<曝光装置的结构><<曝光装置的外观>>25图1中表示本发明的图案形成方法的曝光工序中的曝光装置10的概略外观图。曝光装置10具备平板状移动载物台14，其将把所述图案形成材料中的所述感光层层叠于被处理基体上而成的片状的层叠体(以下，表示为"感光材料12")吸附在表面并将其保持。在由四条脚部16支撑的厚板状的设置台18的上面设置有沿载物台移动方向延伸的两条导轨20。30载物台14配置为其长度方向朝向载物台移动方向，并且，由导轨20支撑为能够做往返移动。进而，曝光装置IO具备沿导轨20驱动载物台14的载物台驱动装置(未图示)。还有，在设置台18的中央部设置有横跨载物台14的移动路径的"n"字状门22。该"3"字状门22的端部分别固定在设置台18的两侧面。夹5着门22，在一侧设置有扫描器24，另一侧设置有检测感光材料12的前端及后端的多个传感器26。扫描器24及传感器26分别固定在门22上，并分别固定在载物台14的移动路径的上方。还有，扫描器24及传感器26与控制器(未图示)电连接，通过控制器进行运行控制。在载物台14设置有曝光面测量传感器28，其检测在利用扫描器24io开始曝光时从扫描器24向感光材料12的被曝光面照射的激光的光量。曝光面测量传感器28沿与载物台移动方向正交的方向延设在载物台14中的感光材料12的设置面的曝光开始侧的端部。图2是扫描器24的概略外观图。如图2所示，扫描器24例如具备2行5列的大致矩阵状排列的1015个曝光头30。各曝光头30具备作为所述光调制机构的空间光调制机构即DMD,在感光材料12上通过该DMD形成的二维图案。曝光区域32表示从各曝光射出的二维图案投影在感光材料12上时的投影区域。另外，随着载物台14的移动，在感光材料12上利用曝光头3020形成带状的已曝光区域34。<<曝光头》图3是用于说明曝光头30的概略结构的概念图，图7是沿在曝光头30中传播的激光的光程说明构成曝光头30的光学要素的图。曝光头30具备作为所述光照射机构的光源单元60、DMD照射光学25系70、DMD80、作为所述成像机构的成像光学系50、和作为所述焦点调节机构的楔型棱镜组54。如图4所示，光源单元60具备多个(例如，14个)LD模块40，各LD模块40与第一多模光纤41的一端耦合。第一多模光纤41的另一端与具有比第一多模光纤小的包覆直径的第二多模光纤68耦合。30如图5详细所示，在第二多模光纤68的与第一多模光纤41相反一侧的端部沿与扫描方向正交的方向并列7个，且其排列成两列而构成激光射出部66。如图5所示，在第二多模光纤64的端部构成的激光射出部66被表面平坦的两片支撑板65夹持而被固定。另外，为了保护第二多模光纤64的光射出端面，优选该端面配置有玻璃等透明的保护板。第二多模光纤68的光射出端面由于光密度高，因此，容易集尘，容易劣化，但通过配置上述保护板，能够防止尘埃向端面的附着，能够延迟劣化。LD模块40通过如图6所示的合波激光光源构成。该合波光源包括在热块(heatblock)400上排列固定的多个(例如7个)作为半导体激光器元件的LD芯片LD1、LD2、LD3、LD4、LD5、LD6及LD7、分别与LD芯片LD1LD7对应设置的准直透镜401、402、403、404、405、406及407、一个聚光透镜90、和一条第一多模光纤41。还有，半导体激光器元件的个数不限于7个，可以采用其他的个数。另外，也可以代替上述7个准直透镜401407，而使用这些透镜一体化的准直透镜阵列。LD芯片1LD7是芯片状的横多模光纤或单模GaN系半导体激光器元件，振荡波长都相同(例如，405[nm]左右)，最大输出也都相同(例如，在多模激光的情况下为lOO[mW]，在单模激光的情况下为30[mW]。还有，若为350[nm]450[nm]的波长范围，则也可以使用具备上述405[nm]以外的振荡波长的半导体激光器元件作为LD芯片LD1LD7。这样，使从多个LD芯片LD1LD7发出的各激光入射一条第一多模光纤41进行合波，进而作为光纤束状的光源使用每单位面积的光量大的高亮度的光源，由此能够提高光功率，同时能够减小延伸性(etendue)。从而，仅在包含所述成像机构的中央部的区域用空间光调制机构进行空间光调制，由此即使对被照明体(光调制机构)侧照明的区域变小，也能够一直照明NA值。由此，即使在成像光学系配置于被照明体的下游侧的情况下，也能够增大该成像光学系的焦点深度，从而得到能够抑制成像的曝光图像的焦点偏移的效果。还有，对于延伸性和焦点深度的详细的关系在特开2005—018013号中有记载。在上述中，对通过将多个LD芯片LD1LD7合波来构成从光照射机构射出的光的情况进行了说明，但也可以不进行合波，按l对l耦合半导体激光器元件和光纤的一端，在光纤另一端耦合比该光纤的包覆直径小的光纤。在这种情况下，优选使用多模高输出激光作为半导体激光器元件，从而能够通过使用这样的高输出激光而实现高亮度的光源。5如图7所示，DMD照射光学系70具备准直透镜71、微鱼眼透镜(microfryeyelens)72及73、物镜74、反射镜75、棱镜76。准直透镜71是用于将从激光射出部61射出的多个激光概略平行光化的透镜。微鱼眼透镜72及73纵横配置有多个微笑透镜单元，是用于均匀化照io射在DMD80的激光的光量分布的透镜。透过微鱼眼透镜72及73的激光透过物镜74后被反射镜75反射，入射棱镜76。棱镜76是TIR棱镜(全反射棱镜)，将通过反射镜75反射的激光朝向DMD80全反射。对于DMD80的详细情况在后述。还有，DMD照射光学系70也可以具备柱积分仪作为光量分布的均匀15化机构。一成像机构一成像光学系50是将通过DMD80调制来自所述光照射机构的激光而形成的二维图案成像于感光材料12上，从而投影的成像机构。如图7所示，成像光学系50具备第一投影透镜51、第二投影透镜52、微透镜阵列55、20和光圈59。通过构成DMD80的各微反射镜反射而形成的二维图案透过第一投影透镜51，放大规定倍数(例如，3倍)而成像。在此，透过了第一投影透镜51的光束La通过基于第一投影透镜51的成像位置的附近配设的微透镜阵列55的各微透镜55a个别地聚光。该个别地聚光的光束通过光圈5925而成像。通过了微透镜阵列55及光圈59而成像的二维图案透过第二投影透镜52而进而放大为规定的倍数(例如，1.67倍)，透过楔型棱镜组54而成像于感光材料12上。最后，通过DMD80形成的二维图案以分别积算第一投影透镜51和第二投影投影52的放大倍率的倍率(例如，3倍X1.67倍=5倍)放大，投影在感光材料12上。30还有，成像光学系50也未必形成为具有第二投影透镜52的结构。图8A及图8B是表示构成第一投影透镜51、第二投影透镜52的投影透镜300的俯视图。为了提高所述曝光装置的曝光性能，需要具有高的透镜光学性能(抑制像面弯曲、像散、畸变等、高远心性)的投影透镜。然而，若欲在投影5透镜的整个区域提高透镜光学性能，则导致透镜的成本上升，大口径透镜的制造变得困难的问题。另一方面，为了提高投影透镜的任意区域的透镜光学性能，近年来的研究中明确了可以故意使规定的区域歪斜来制造投影透镜。因此，例如，使投影透镜的周边部分歪斜，使中央部的歪斜少，由此io提高包括投影透镜的中央部的区域的透镜光学性能，进而能够使通过DMD80形成的二维图案透过包括中央部的区域来成像。具体来说，如图8A所示，使作为投影透镜300的周边区域的区域320具有像面弯曲、区域特性，使区域330具有歪曲特性，相对于此减少包括该投影透镜300的中央部的区域的歪斜，由此能够使透镜光学性能变高地制造。15但是，例如，如图8A所示，通过DMD80形成的二维图案照射在投影透镜300的区域310而透过的情况下，二维图案的一部分透过包含像面弯曲或歪曲大的特性的区域，因此，二维图案需要照射在投影透镜300中的透镜光学性能良好的区域340。因此，为了选择投影透镜300的透镜光学性能良好的区域340照射二20维图案，例如，优选以二维图案的光的光轴为中心，将投影透镜300沿图8B所示的箭头A方向旋转。通过该旋转，使透镜性能良好的区域340和二维图案照射的区域310—致，从而能够使二维图案透过透镜光学性能良好的区域340。这样，通过使二维图案透过透镜光学性能良好的区域而成像，能够提25高二维图案投影于感光材料12上时的画质。另外，在使用大口径的投影透镜的情况下，若要在投影透镜的整个区域面得到充分的透镜光学性能，则制造困难，但通过减少包括中央部的区域的透镜歪斜，能够使其具有高透镜光学性能。通过使用这样的大口径的投影透镜，能够扩大曝光面积，提高曝光速度。30还有，为了在包括投影透镜的中央部的一部分的区域成像从DMD80反射的光，优选通过DMD80形成的二维图案如图8A及图8B所示的区域310—样，长边的长度是比短边的长度的两倍以上的长度的大致矩形状的图案。对于这个，在后述的关于DMD的说明中详细说明。为了向投影透镜300的透镜光学性能良好的区域340选择照射二维图5案，优选成像光学系优选是能够以二维图案的光的光轴为中心旋转的结构。图9的上图是具备成像光学系50的镜筒400的概略侧面剖视图，图9的下图是从上图中的箭头B的方向观察的镜筒400的概略俯视图。镜筒400在侧面具备护腕状凸缘410。在凸缘410按a[。]形成有螺io钉贯通孔412。在凸缘420上对应螺钉贯通孔按a[°]同样形成有内螺纹孑L(未图示)，将螺钉插通凸缘410的螺纹贯通孔412中，使其与托架420的对应的内螺纹孔螺合，由此固定凸缘410和托架420。通过该结构，镜筒400能够以第一投影透镜51及第二投影透镜52的光轴为中心按ci[°]旋转而在任意的角度位置固定。另外，通过螺栓固定凸缘410和托架42015时，也可以将螺栓插通螺栓贯通孔412中的所有的螺栓贯通孔412中而使其与托架420的对应的内螺纹孔螺合，也可以例如将螺栓插通位于对角线上的两处螺纹贯通孔412中使其与托架420的对应的内螺纹孔螺合。若使镜筒400旋转，则第一投影透镜51及投影透镜52共同旋转。还有，测量在感光材料12上投影的二维图案的焦点、画质(解析度)等曝20光性能的同时，在显示最良好的曝光性能的旋转位置固定凸缘410和托架420。这样，通过使镜筒400以二维图案的光的光轴为中心旋转，使第一投影透镜51及第二投影透镜52旋转，使得在构成第一投影透镜51及第二投影透镜52的投影透镜中透镜光学性能良好的区域、和通过光调制机构25形成的二维图案的照射区域能够一致。还有，构成第一投影透镜51及第二投影透镜52的投影透镜也可以构成为能够按各投影透镜独立旋转。另外，镜筒400也可以构成为能够在与二维图案的光轴垂直的方向上移动，也可以构成为构成第一投影透镜51及第二投影透镜52的各投影透30镜在二维图案的光轴的垂直方向上独立地移动。一光调制机构一作为所述光调制机构，只要能够基于图案信息(图像信息)能够形成二维图案的光，就不特别限制，可以根据需要适当选择，例如，可以举出具有排列为二维状的n个(其中，n为l以上的自然数)扫描部的光调制5机构，其中也优选空间光调制元件，具体来说，优选DMD。以下，作为所述光调制机构，对使用了DMD的情况进行说明。在图10中示出DMD80的概略立体图。DMD80是将从簡D照射光学系70入射的光基于图案信息(图像信号)进行空间光调制，形成二维图案的空间光调制机构。ioDMD80具有n个(例如，1024X757个)多个排列为二维状的作为扫描部(像素)的微反射镜81。进而，DMD80与具备数据处理部和镜驱动控制部的控制器(未图示)连接。数据处理部生成基于图案信息(图像信号)驱动配置在DMD80的各微反射镜81的驱动的控制信号。15镜驱动控制部基于由数据处理部生成的控制信号控制DMD80的各微反射镜81的反射面。通过所述数据处理部及所述镜驱动控制部，使微反射镜81的反射面倾斜规定角度，照射在DMD81的光中被倾斜为规定的角度的微反射镜81反射的光成为二维图案入射于成像光学系50。20然而，如上所述，通过使构成第一投影透镜51及第二投影透镜52的投影透镜的周边部分具有歪斜，减少中央部的歪斜来制造第一投影透镜51及第二投影透镜52，提高上述投影透镜的包括中央部的区域的透镜光学性能，使二维图案透过该包括中央部的区域而成像。这样，在包括投影透镜的中央部的一部分区域使二维图案成像，优选通过DMD80形成的二维图案25如图8B所示的区域310—样，是长边的长度比短边的长度长两倍以上的大致矩形状的图案。为了形成这样的大致矩形状的二维图案，优选驱动控制DMD80的一部分的微反射镜81，形成边的长度比短边的长度长两倍以上的大致矩形状二维图案。使用图IIA及图IIB详细说明大致矩形状二维图案。30DMD80中，例如，在曝光时的主扫描方向即行方向上1024像素，进而在曝光时的副扫描方向即列方向上756像素的微反射镜81以二维状配置，但使用列方向上的756像素排列的微反射镜81中的一部分微反射镜81(例如，240像素)，形成1024X240像素的二维图案。在此，在列方向排列的微反射镜81中使用的微反射镜81的数目优选5为行方向上排列的微反射镜81的数目的1/21/5左右的数目。另外，如图11A所示的区域80C—样，对于构成DMD80的所有微反射镜，使用占据DMD80的中央部的微反射镜，也可以如图11B所示，使用占据DMD80的端部附近的微反射镜。进而，在使用的微反射镜中发生缺陷的情况下，也可以通过使用未发io生缺陷的微反射镜的区域等来根据状况适当变更使用的微反射镜的区域。这样，通过使用在构成DMD80的微反射镜81中沿列方向排列的微反射镜81中的一部分微反射镜81，能够形成长边的长度比短边的长度长的大致矩形状的二维图案，仅在构成第一投影透镜51及第二投影透镜52的投影透镜的具有高透镜光学性能的区域容易地照射二维图案。15另外，DMD80的数据处理速度与控制微反射镜81的数目(像素数目)成比例，因此，通过使用在列方向上排列的微反射镜81中的一部分微反射镜81，能够提高数据处理速度，能够提高变更速度。进而，通过减小由DMD80形成的二维图案，能够小型化与微反射镜81分别对应的微透镜排列为阵列状而成的微透镜阵列55。所述微透镜阵列是20高价的光学构件，因此，能够减小曝光装置的成本。还有，为了形成长边的长度比短边的长度长的大致矩形状的二维图案，说明了使用DMD80中的沿列方向排列的微反射镜81中的一部分微反射镜81的情况，但也可以预先使用长边方向的微反射镜的数目比短边方向的微反射镜的数目多两倍以上的DMD。25—焦点调节机构一图12是表示楔型棱镜组54的结构的侧面图，图13是表示楔型棱镜组54的概略立体图。楔型棱镜组54是改变二维图案的光的光程长度，调节成像二维图案时的焦点的焦点调节机构。30楔型棱镜组54具备楔型棱镜540A及540B、分别固定楔型棱镜540A及540B的基底棱镜固定器541A及541B、包括配设在基底棱镜固定器541A的两端的滑动基底542A及在滑动基底542AA上移动的滑块542B的滑动部545、使滑动部545移动的驱动部546。如图13所示，楔型棱镜组54可以将把例如玻璃或压克力等透明材料构成的平行平板沿相对于该平行平板5的平行平面Hll及H22倾斜的平面Hk切断而得到的一对楔型棱镜A及B作为上述楔型棱镜540A及540B使用。如图12所示的楔型棱镜540A及540B经由宽度t(例如，lO[Wn])的空气层550固定在基底棱镜固定器541及541B。另外，通过滑动基底542A及滑块542B的组合，能够线性滑动，驱动部545按照楔型棱镜540A及540Bio的相互的位置确保空气层550的宽度t不变化的方式使滑动部545沿一个方向(图中箭头u方向)相对移动。通过该滑动部545的移动，改变楔型棱镜组54的二维图案的光轴方向的厚度(从平行平面板的厚度减去空气层550的宽度t的厚度)。g卩，通过楔型棱镜组54改变形成二维图案的光的光程长度。15这样，通过在第二投影透镜52和感光材料12间配设楔型棱镜组54，能够简单地调节二维图案的光的光程长度。从而，与以往相比，能够简单且短时间内进行将通过第二投影透镜52成像的二维图案成像于感光材料12上时的焦点调节。还有，如图14所示，也可以通过在微透镜阵列55和第二投影透镜5220间配置楔型棱镜组54，改变二维图案的光的光程长度，调节二维图案的焦点。作为所述焦点调节机构，说明了使用的楔型棱镜组54的情况，但所述焦点调节机构不限于这个，也可以为不改变构成的成像光学系50的投影透镜的位置而进行焦点调节的高束位置精度的焦点调节机构。25—利用构成成像光学系的光学构件及压电元件的焦点调节机构一作为所述焦点调节机构，例如，如图15A、图15B、图16A、及图16B所示，也可以使用压电元件600使作为构成成像光学系的光学构件的微透镜阵列55沿焦点方向(图中箭头X方向)移动来进行焦点调节。通过使用压电元件600，能够抑制微透镜阵列55的向与焦点方向垂直30的方向的位移，同时能够进行向焦点方向的微小移动，因此，能够保持稳定的束位置精度的同时，能够进行焦点调节。〈曝光方法〉对上述的曝光装置10的曝光方法进行说明。图17A是概略表示感光材料12和DMD80的位置关系的立体图。还有，5如图2所示，说明了曝光装置10具备10个具有DMD80的曝光头30的情况，但简化图17A及图17B，仅着眼于一个DMD80而图示及说明。如图17A所示，在相对于DMD80的所有的微反射镜81使用占据区域80T的微反射镜81的情况下，优选使区域80T的短边方向朝向感光材料12的弯曲方向，使感光材料12沿该弯曲方向移动(使区域80T的短边方io向朝向感光材料12的移动方向)，同时对感光材料12进行曝光。g卩，优选进行曝光时，使所述感光材料的被曝光面上成像的大致矩形状的曝光区域的的短边方向和所述感光层的弯曲方向大致平行。在图17A中，曝光区域18是使用DMD80的所有的微反射镜81形成二维图案时的曝光区域，曝光区域81T是使用在画D81中占据区域80T的微15反射镜81形成二维图案时的曝光区域。图17B是放大表示在图17A中用虚线框P包围的部分的侧面图。如图17B所示，使用DMD80的所有的微反射镜81形成二维图案的情况下，微反射镜81的相对感光材料12的最大深度差(微反射镜81内中感光材料12表面的最大高低差)是d2。20另一方面，在使用DMD80中占据区域80T的微反射镜81的情况下，曝光区域81T的相对感光材料12的最大深度差是dl。如图17B所示，dl<d2，深度差小的情况与深度差大的情况相比，二维图案内的感光材料12的弯曲的程度小。从而，能够将二维图案的焦点位置对位在更适当的位置。25另外，若结束一个帧(frame)的曝光，使载物台14沿扫描方向移动，由此使感光材料12移动，则曝光区域81T的位置变化，曝光区域81T内的感光材料12的弯曲程度变化，因此，焦点位置也变化，但通过楔型棱镜组54进行焦点调节，由此焦点位置被调节到当前位置。从而，能够进行应对感光材料12的弯曲的具有长焦点深度的曝光。30这样，在构成DMD80的微反射镜81中，使用沿列方向排列的微反射镜81中的一部分微反射镜81，形成大致矩形状二维图案时，使二维图案的短边方向朝向扫描器24的弯曲方向进行曝光，由此，能够减小曝光区域81T内的感光材料12的弯曲的程度。因此，能够将二维图案的焦点位置对位在适当的位置，与以往的曝光5装置相比，能够在外观上增大曝光装置10的焦点深度，其结果，能够提高曝光画质，从而进行高精细的图案曝光。还有，如图2所示，实际上曝光头30按照簡D80的像素列方向与扫描方向成规定的设定倾斜角度的方式安装在扫描器24。从而，利用各曝光头30的曝光区域32(相对于图17中的曝光区域81T)成为相对扫描方向io倾斜的矩形状的区域。为了最小限度地抑制利用曝光区域81T内的感光材料12的弯曲导致的影响的程度，理想的是使曝光区域81T的短边方向和感光材料12的弯曲方向完全一致，但即使曝光区域81T呈上述规定的设定倾斜角度，也只要曝光区域81T的短边方向从长边方向朝向感光材料12的弯曲方向，即15在所述感光材料的被曝光面上成像的大致矩形状的曝光区域的朝向为其短边方向和所述感光层的弯曲方向所成的角比其长边方向和所述感光层的弯曲方向所成的角小即可。如上所述，本发明的图案形成方法中的曝光中，通过使用具备使构成成像机构的投影透镜的周边区域的歪斜，相对于此减少包中央部的区域的20歪斜，提高包括该中央部的区域的光学性能的成像机构的曝光装置，在光学性能良好的区域将空间光调制的光成像，由此，能够提高该空间光调制的光投影在感光材料上时的画质。另外，通过使投影透镜的周边区域等任意区域具有透镜歪斜，减少包括中央部的区域的透镜歪斜，即使为大口径的投影透镜，也能够具有高透25镜光学性能，由此扩大曝光面积，加快曝光速度。还有，通过使所述曝光装置中的成像机构能够以空间光调制的曝光光的光轴为中心旋转，或能够沿相对光轴垂直的方向移动，向构成成像机构的投影透镜的光学性能的良好的区域选择照射空间光调制的光。另外，通过使投影透镜的周边区域等具有透镜倾斜，仅使用包括中央30部的透镜性能良好的区域，能够与使用所述投影透镜的整个面区域的情况相比小型化焦点调节机构的光学系，其结果，通过实现高精度的稳定保持及移动机构的曝光装置进行高精细的曝光。进而，稳定地保持空间光调制的曝光光的光位置的同时，高精度地调节焦点位置。另外，在使空间光调制的光通过微透镜阵列，使其聚光于小的点5(Spot)的情况下，能够小型化高价的微透镜阵列，因此，能够采用间距精度更高且成本更低的微透镜阵列。进而，作为焦点调节机构使用压电元件，由此，能够抑制向与焦点方向垂直的方向的微小位移，能够保持高的束位置精度的同时，能够高精度调节焦点位置。另外，通过使从多个半导体激光器元件发出的各激光入射一条光纤而10合波，进而作为光纤束状的光源使用每单位面积的光量大的高亮度的光照射机构，能够提高光功率，同时能够减小延伸性(entendue)，能够减小謹D侧的开口数目(NA)。由此，即使为仅在包括所述成像机构的中央部的大致矩形状的区域用空间光调制机构进行空间光调制的情况下，也能够减少服D侧的幵口数目，进而，即使在成像光学系配置于照明体的下游侧的15情况下，也能够增大其成像光学系的焦点深度，抑制成像的曝光图像的焦点偏移。进而，所述成像机构在长边的长度为短边的长度的两倍以上的大致矩形状区域将空间光调制的曝光光成像并将其投影在感光材料上时，在所述感光材料的被曝光面上成像的大致矩形状的曝光区域中，按照使其短边方20向和所述感光层的弯曲方向所成的角小于其长边方向和所述感光层的弯曲方向所成的角的方式进行曝光，由此减小投影的空间光调制的曝光光的投影区域内的感光材料的弯曲程度，能够调节被空间光调制的光的焦点位置。由此，与以往的曝光装置相比，能够在外观上增大焦点深度，能够提高解析度(曝光画质)。25<叠层体〉作为所述曝光的对象，只要是将在支撑体上具有感光层的图案形成材料中的该该感光层层叠于被处理基体上而成的层叠体中的感光层，就不特别限定，可以根据目的适当选择。作为所述叠层体，例如，也可以为所述图案形成材料中的感光层以外的其他的层的层叠体。30〈图案形成材料〉作为所述图案形成材料，只要在支撑体上具有感光层，就不特别限定，可以根据目的适当选择。作为所述感光层，不特别限定，可以从共知的图案形成材料中适当选择，但优选例如，包含粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂，以及适当5选择的其他成分。另外，作为感光层的层叠数，不特别限定，可以根据需要适当选择，例如，可以为一层，也可以为两层。《粘合剂》作为所述粘合剂，例如，优选对碱性水溶液为溶胀性，更优选对碱性10水溶液为可溶性。作为对碱性水溶液显示溶胀性或溶解性的粘合剂，例如，可以适当举出具有酸性基的粘合剂。作为所述酸性基，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可举出羧基、磺酸基、磷酸基等，其中也优选羧基。15作为具有羧基的粘合剂，例如，可以举出具有羧基的乙烯基共聚物、聚氨酯树脂、聚酰胺酸树脂、改性环氧树脂等，其中，从向涂敷溶剂的溶解性、向碱显影液的溶解性、合成适合性、膜物性的调节的容易度等的观点出发，优选具有羧基的乙烯基共聚物。另外，从显影性的观点出发，还优选苯乙烯及苯乙烯衍生物的至少任一种的共聚物。20所述具有羧基的乙烯基共聚物可以至少通过(1)具有羧基的乙烯基单体、及(2)与这些能够共聚的单体的共聚合来得到。作为所述具有羧基的乙烯基单体，例如，可以举出(甲基)丙烯酸、乙烯基安息香酸、马来酸、马来酸单烷基酯、富马酸、衣康酸、巴豆酸、桂皮酸、丙烯酸二聚物、具有羟基的单体(例如，2—羟基乙基(甲基丙25烯酸酯等)和环状酐(例如，马来酸酐或邻苯二甲酸酐、环己烷二羧酸酐)的加成反应物、CO—羧基一聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯等。其中，从聚合性或成本、溶解性等观点出发，特别优选(甲基)丙烯酸。另外，作为羧基的前体，也可以使用马来酸酐、衣康酸酐、柠康酸酐等具有酐的单体。30作为所述其他的能够共聚合的单体，不特别限制，可以根据目的适当选择，但例如，可以举出(甲基)丙烯酸酯类、巴豆酸酯类、乙烯基酯类、马来酸二酯类、富马酸二酯类、衣康酸二酯类、(甲基)丙烯酰胺类、乙烯基醚类、乙烯醇的酯类、苯乙烯类(例如，苯乙烯、苯乙烯衍生物等)、(甲基)丙烯腈、乙烯基取代的杂环式基(例如，乙烯基吡啶、乙烯基吡5咯烷酮、乙烯基咔唑等)、N—乙烯基甲酰胺、N—乙烯基乙酰胺、N—乙烯基咪唑、乙烯基己内酯、2—丙烯酰胺一2—甲基丙烷磺酸、磷酸单(2一丙烯酰氧基乙基酯)、磷酸单(l一甲基一2—丙烯酰氧基乙基酯)、具有官能团(例如，尿垸基、尿素基、磺酰胺、苯酚基、酰亚胺基)的乙烯基单体等。其中，从能够高精细形成配线图案等永久图案的方面、以及能够io提高所述图案的遮盖(tent)性的方面来说，优选所述苯乙烯类(苯乙烯及苯乙烯衍生物)。作为所述(甲基)丙烯酸酯类，例如，可以举出(甲基)丙烯酸甲酯酉旨、乙基(甲基)丙烯酸酯、正丙基(甲基)丙烯酸酯、异丙基(甲基)丙烯酸酯、正丁基(甲基)丙烯酸酯、异丁基(甲基)丙烯酸酯、叔丁基15(甲基)丙烯酸酯、正己基(甲基)丙烯酸酯、环己基(甲基)丙烯酸酯、叔丁基环己基(甲基)丙烯酸酯、2—乙基己基(甲基)丙烯酸酯、叔辛基(甲基)丙烯酸酯、癸基(甲基)丙烯酸酯、十八烷基(甲基)丙烯酸酯、乙酸基乙基(甲基)丙烯酸酯、苯基(甲基)丙烯酸酯、2—羟基乙基(甲基)丙烯酸酯、2—甲氧基(甲基)丙烯酸酯、2—乙氧基(甲基)20丙烯酸酯、2—乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2—(2—甲氧基乙氧基)乙基(甲基)丙烯酸酯、3—苯氧基一2—羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇单甲基醚(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇单乙基醚(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇单苯基醚(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇单甲基醚(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇单乙基醚(甲基)丙烯酸酯、聚25乙二醇单甲基醚(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇单乙基醚(甲基)丙烯酸酯、P—苯氧基乙氧基乙基丙烯酸酯、壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、二环戊基(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯基(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯基氧乙基(甲基)丙烯酸酯、三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、八氟戊基(甲基)丙烯酸酯、全氟辛基乙基(甲基)丙烯酸酯、三溴苯基(甲基)丙烯酸酯、30三溴苯基氧乙基(甲基)丙烯酸酯等。作为所述巴豆酸酯类，例如，可举出巴豆酸丁酯、巴豆酸己酯等。作为所述乙烯基酯类，例如，可以举出乙烯基乙酸酯、乙烯基丙酸酯、乙烯基丁酸酯、乙烯基甲氧基乙酸酯、安息香酸乙烯酯等。作为所述马来酸二酯类，例如，可以举出马来酸二甲酯、马来酸二乙马来酸二丁酯等。作为所述富马酸二酯类，例如，可以举出富马酸二甲酯、富马酸二乙马来酸二丁酯等。作为所述衣康酸二酯类，例如，可以举出衣康酸二甲酯、衣康酸二乙衣康酸二丁酯等。作为所述(甲基)丙烯酰胺类，例如，可以举出(甲基)丙烯酰胺、N—甲基(甲基)丙烯酰胺、N—(甲基)丙烯酰胺、N—丙基(甲基)丙烯酰胺、N—异丙基(甲基)丙烯酰胺、N—正丁基丙烯(甲基)酰胺、N一叔丁基(甲基)丙烯酰胺、N—环己基(甲基)丙烯酰胺、N—(2—甲氧基乙基)(甲基)丙烯酰胺、N，N—二甲基(甲基)丙烯酰胺、N，N15二乙基(甲基)丙烯酰胺、N—苯基(甲基)丙烯酰胺、N—苄基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酰基吗啉、二丙酮丙烯酰胺等。作为所述苯乙烯类，例如，可以举出苯乙烯、甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、异丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、羟基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、丁氧基苯乙烯、乙酸基苯乙烯、氯苯乙烯、二氯苯20乙烯、溴苯乙烯、氯甲基苯乙烯、被能够通过酸性物质脱离保护的基图(例如，t一Boc等)保护的羟基苯乙烯、乙烯基安息香酸甲酯、a—甲基苯乙烯等。作为所述乙烯基醚类，例如，可以举出甲基乙烯基醚、丁基乙烯基醚、己基乙烯基醚、甲氧基乙基乙烯基醚等。25作为具有所述官能团的乙烯基单体的合成方法，例如，可以举出异氰酸酯基和羟基或氨基的加成反应，具体来说，可以举出具有异氰酸酯的单体、和含有一个羟基的化合物或具有一个伯或仲氨基的化合物的加成反应、具有羟基的单体或具有伯或仲氨基的单体、和单异氰酸酯的加成反应。作为所述具有异氰酸酯基的单体，例如，可以举出下述结构式(1)30(3)表示的化合物。[化l]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage26</formula>结构式(i)[化2]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage26</formula>结构式(2)[化3]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage26</formula>结构式(3)其中，在所述结构式(1)(3)中，R'表示氢原子或甲基。作为所述单异氰酸酯，例如，可以举出环己基异氰酸酯、正丁基异氰25酸酯、甲(基)苯甲酰基异氰酸酯、苄基异氰酸酯、苯基异氰酸酯等。作为所述具有羟基的单体，例如，可以举出由下述结构式(4)(12)表示的化合物。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage27</formula>[化8]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage28</formula>]30<formula>formulaseeoriginaldocumentpage29</formula>结构式(12)其中，在所述结构式(4)(12)中，Rl表示氢原子或甲基，n表示1以上的整数。作为所述含有一个羟基的化合物，例如，可以举出醇类(例如，甲醇、io乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、仲丁醇、叔丁醇、正己醇、2—乙基己醇、2—乙基己醇、正癸醇、正十二垸醇、正十八垸醇、环戊醇、环己醇、苄基醇、苯基乙基醇等)、苯酚类(例如，苯酚、甲酚、萘酚等)、以及作为包含取代基的化合物的氟乙醇、三氟乙醇、甲氧基乙醇、苯氧基乙醇、氯苯酚、二氯苯酚、甲氧基苯酚、乙酸基苯酚等。15作为所述具有伯或仲氨基的单体，例如，可举出乙酰基苄基胺等。作为所述具有一个伯或仲氨基的化合物，例如，可以举出烷基胺(甲胺、乙胺、正丙基胺、异丙基胺、正丁基胺、仲丁基胺、叔丁基胺、己胺、2—乙基己基胺、癸胺、十八胺、二甲胺、二乙胺、二丁胺、二辛胺)、环状烷基胺(环戊基胺、环己基胺等)、芳烷基胺(苄基胺、苯乙胺等)、芳20胺(苯胺、甲(基)苯甲酰胺、二甲苯基胺、萘胺等)、以及这些的组合(N—甲基一N—节基胺等)、以及含有取代基的胺(三氟乙基胺、六氟异丙基胺、甲氧基苯胺、甲氧基丙基胺等)。另外，作为上述以外的所述其他的能够共聚合的单体，例如，可适当举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲25基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸2—乙基己基酯、苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、羟基苯乙烯等。作为所述其他的能够共聚合的单体可以单独使用一种，也可以合用两种以上。所述乙烯基共聚物可以通过分别将相应的单体用公知的方法按照常30规方法进行共聚合来配制。例如，可以通过利用将所述单体溶解于适当的溶剂中，并向其中添加自由基聚合引发剂，使其在溶液中聚合的方法(溶液聚合法)来配制。另外，通过在水性溶剂中分散所述单体的状态下利用所谓的乳化聚合等来配制。作为在所述溶液聚合法中使用的适当的溶剂，不特别限制，可以根据5使用的单体、生成的共聚物的溶解性等而适当选择，例如，可以举出甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、l一甲氧基一2—丙醇、丙酮、丁酮、甲基异丁基酮、甲氧基丙基乙酸酯、乳酸乙酯、醋酸乙酯、乙腈、四氢呋喃、二甲基甲酰胺、三氯甲烷、甲苯等。这些溶剂可以单独使用一种，也可以合用两种以上。io在所述自由基聚合引发剂，不特别限制，例如，可以举出2，2'—偶氮双(异丁腈)(AIBN)、2，2，一偶氮双一(2，4'一二甲基戊腈)等偶氮化合物、苯甲酰基过氧化物等过氧化物、过硫酸钾、过硫酸铵等过硫酸盐等。作为所述乙烯基共聚物中具有羧基的聚合性化合物的含有率，不特别15限制，可以根据需要适当选择，但例如，优选550摩尔％，更优选1040靡尔％，特别优选1535摩尔％。若所述含有率小于5摩尔％，则有时向碱水的显影性不足，若大于50摩尔5，则固化部(图像部)的显影液耐性不足。作为所述具有羧基的粘合剂的分子量，不特别限制，可以根据目的适20当选择，但例如，作为质均分子量，优选2，000300，000，更优选4，000150，000。若所述质均分子量小于2，000，则膜的强度容易不足，另外难以稳定地制造，若大于300，000，则有时显影性降低。所述具有羧基的粘合剂可以单独使用一种，也可以合用两种以上。作25为所述合用两种以上粘合剂的情况，例如，可以举出由不同的共聚合成分构成的两种以上的粘合剂、不同的质均分子量的两种以上的粘合剂、乙基不同的分散度的两种以上的粘合剂等组合。所述具有羧基的粘合剂的羧基的一部分或全部被碱性物质中和。另夕卜，所述粘合剂还可以合用聚酯树脂、聚酰胺树脂、聚氨酯树脂、环氧树X)脂、聚乙烯醇、明胶等结构不同的树脂。另外，作为所述粘合剂，可以使用在日本专利2873889号等中记载的碱水溶液中可溶的树脂等。作为所述感光层中的所述粘合剂的含量，不特别限定，可以根据目的适当选择，但例如，优选1090质量％，更优选2080质量％，特别优5选4080质量％。若所述含量小于10质量％，则有时与碱显影性或印刷电路板形成用基板(例如，铜箔层叠板)的粘附性降低，若大于90质量％，则有时对显影时间的稳定性或固化膜的(遮盖膜)的强度降低。还有，所述含量也可以为所述粘合剂和根据需要合用的高分子结合剂的总计含量。io在所述粘合剂为具有玻璃化温度(Tg)的物质的情况下，作为该玻璃化温度，不特别限制，可以根据需要适当选择，例如，从所述图案形成材料的粘着性及熔边(edgefosion)的抑制、及所述支撑体的剥离性提高方面的至少任一个观点出发，优选80'C以上，更优选10(TC以上，特别优选120。C以上。15若所述玻璃化温度小于8(TC，则所述图案形成材料的粘着性及熔边(edgefUsion)增加，或所述支撑体的剥离性变差。作为所述粘合剂的酸值，不特别限制，可以根据目的适当选择，但例如，优选70250(mgKOH/g)，更优选卯200(mgKOH/g)，特别优选100180(mgKOH/g)。20若所述酸值小于70(mgKOH/g)，则有时显影性不足、或析像性变差，不能高精细地得到配线图案等永久图案，若大于250(mgKOH/g)，则图案的耐显影液性及粘附性的至少任一种变差，有时不能高精细地得到配线图案等永久图案。<<聚合性化合物>>25作为所述聚合性化合物，不特别限制，可以根据目的适当选择，但例如，可以适当举出具有尿垸基及芳基的至少任一种的单体或寡聚物。另外，这些优选具有两种以上聚合性基。作为所述聚合性基团，例如，可以举出乙烯性不饱和键(例如，(甲基)丙烯酰基、(甲基)丙烯酰胺基、苯乙烯基、乙烯基酯或乙烯基醚等30乙烯基、烯丙醚或烯丙酯等烯丙基等)、能够聚合的环状醚及(例如，环氧基、氧杂环丁烷基等)，其中优选乙烯性不饱和键。一具有尿垸基的单体一作为所述具有尿烷基的单体，只要具有尿垸基，就不特别限制，可以根据目的适当选择，但例如，可以举出特开昭48—41708、特开昭51—537193、特公平5—50737、特公平7—7208、特开2001—154346、特开2001一356476号公报等中记载的化合物等，例如，可以举出分子中具有两个以上异氰酸酯基的聚异氰酸酯化合物、和分子中具有羟基的乙烯基单体的加成物等。作为所述分子中具有两个以上异氰酸酯基的聚异氰酸酯化合物，例io如，可以举出六亚甲基二异氰酸酯、三甲基六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、亚苯基二异氰酸酯、异冰片烯二异氰酸酯、二苯基二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、3，3'二甲基一4，4'一二苯基二异氰酸酯等二异氰酸酯；该二异氰酸酯进而与两官能团醇的加成聚合物(在这种情况下两末端也为异氰酸酯基)；该异氰15酸酯的滴定管(burette)体或三聚氰酸酯等三聚体；该二异氰酸酯或二异氰酸酯类、和三羟甲基丙烷、季戊四醇、甘油等多官能团醇、或这些的环氧乙烯加成物等得到的其他官能团醇的加成物等。作为所述具有分子中具有羟基的乙烯基单体，例如，可以举出2—羟基乙基(甲基)丙烯酸酯、2—羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、4羟基丁基(甲20基)丙烯酸酯、二乙二醇单(甲基)丙烯酸甲酯酯、三乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、八乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、四丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、八丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、二丁二醇单(甲基)丙烯酸酯、25三丁二醇(甲基)丙烯酸酯、四丁二醇单(甲基)丙烯酸酯、八丁二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇单(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯等。另外，可以举出环氧乙烯和环氧丙烯的的共聚物(无规、嵌段等)等具有不同的环氧烷烃部的二醇体的单个末端(甲基)丙烯酸酯体等。30另外，作为所述具有尿垸基的单体，例如，可以举出三((甲基)丙烯酰氧基乙基)三聚氰酸酯、二(甲基)丙烯酰基化三聚氰酸酯、环氧乙烯改性三聚氰酸的三(甲基)丙烯酸酯等具有三聚氰酸酯环的化合物。其中，优选下述结构式(13)、或结构式(14)表示的化合物，从遮盖性的观点出发，特别优选至少包含由所述结构式(14)表示的化合物。另外，5这些化合物可以单独使用一种，也可以合用两种以上。[化13]20结构式(14)所述结构式(13)及(14)中，RiRS分别表示氢原子或甲基。X1XS表示环氧垸烃，可以单独使用一种，也可以合用两种以上。作为所述环氧垸烃基，例如，可以适当举出环氧乙垸基、环氧丙烷基、环氧丁垸基、环氧戊垸基、环氧己垸基、组合这些的基团(可以以无规、25嵌段的任一种组合)等，其中，优选，环氧乙烷基、环氧丙垸基、环氧丁烷基、或组合这些的基团，更优选环氧乙烷、环氧丙院基。所述结构式(13)及(14)中，mlm3表示160的整数，优选230，更优选415。所述结构式(13)及(14)中，Y'及￥2表示碳原子数230的二价30有机基，例如，可以适当举出亚烷基、亚芳基、亚链烯基、亚炔基、羰基(一CO—)、氧原子(一O—)、硫原子(一S—)、亚氨基(一NH—)、亚氨基的氢原子被一价烃取代的取代亚氨基、磺酰基(一S02—)或组合这些的基团等，其中，优选亚垸基、亚芳基、或组合这些的基团。所述亚垸基可以具有分支结构或环状结构，例如，可以适当举出亚甲基、亚乙基、亚丙基、异亚丙基、亚丁基、异戊基、新亚戊基、亚己基、三甲基亚己基、环己亚、亚庚基、亚辛基、2—乙基亚己基、亚壬基、亚癸基、亚十二烷基、亚十八烷基、或下述所示的任一种基团等。作为所述亚芳基，可以被烃基取代，例如，可以适当举出亚苯基、亚甲苯基、二亚苯基、亚萘基、或下述所示的基团等。作为组合所述这些的基团，例如，可以举出亚二甲苯基等。作为所述亚垸基、亚芳基、或组合这些的基团，进而可以具有取代基，作为该取代基，例如，可以举出卤素原子(例如，氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、芳基、垸氧基(例如，甲氧基、乙氧基、2—乙氧基乙氧基)、25芳氧基(例如，苯氧基)、酰基(例如，乙酰基、丙酰基)、酰氧基(例如，乙酸基、丁酰氧基)、烷氧基羰基(例如，甲氧基羰基、乙氧基羰基)、芳氧基羰基(例如，苯氧基羰基)等。所述结构式(13)及(14)中，n表示36的整数，从合成聚合性单体的原来供给性等观点出发，优选3、4或6。30所述结构式(13)及(14)中，Z表示n价(3价6价)的连结基,例如，可以举出下述表示的任一个基团等。[化17]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage35</formula>其中，X4表示环氧烷烃。m4表示120的整数。n表示36的整数。ioA表示n价(3价6价)的有机基。作为所述A例如，优选n价脂肪族基团、n价芳香族基团、或组合这些与亚烷基、亚芳基、亚链烯基、亚炔基、羰基、氧原子、硫原子、亚氨基、亚氨基的氢原子被一价烃基取代的取代亚氮基、或磺酰基的基团，更优选n价脂肪族基团、n价芳香族基团、或组合这些与亚烷基、亚芳基、15氧原子的基团，特别优选组合n价脂肪族基团、组合n价芳香族基团和亚烷基、氧原子的基团。作为所述A的碳原子数，例如，特别优选1100的整数，更优选l50的整数，特别优选330的整数。作为所述n价脂肪族基团，可以具有分支结构或环状结构。20作为所述脂肪族基团的碳原子数，例如，特别优选130的整数，更优选120的整数，特别优选310的整数。作为所述芳香族基团的碳原子数，优选6100的整数，更优选650的整数，特别优选630的整数。所述n价脂肪族基团或芳香族基团进而可以具有取代基，作为该取代25基，例如，可以举出羟基、卤素原子(例如，氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、芳基、垸氧基(例如，甲氧基、乙氧基、2—乙氧基乙氧基)、芳氧基(例如，苯氧基)、酰基(例如，乙酰基、丙酰基)、酰氧基(例如，乙酸基、丁酰氧基)、垸氧基羰基(例如，甲氧基羰基、乙氧基羰基)、芳氧基羰基(例如，苯氧基羰基)等。30所述亚垸基可以具有分支结构或环状结构。作为所述亚垸基的碳原子数，例如，优选118的整数，更优选l10的整数。所述亚芳基可以进而被烃基取代。作为所述亚芳基的碳原子数，优选6i8的；数。作为所述取代亚氨基的一价烃基的碳原子数优选110的整数。所述A的优选例如下。数，更优选610的整优选118的整数，更<formula>formulaseeoriginaldocumentpage36</formula>作为所述结构式(13)及(14)中表示的化合物，例如，可以举出下述结构式(15)(34)表示的化合物。[化19]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage36</formula>30结构式(15)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage36</formula>[化20]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage37</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage38</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage39</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage40</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage41</formula>[化38]结构式(34)其中，所述结构式(15)(34)中，n、nl、n2及m表示l60，15表示120，R表示氢原子或甲基。一具有芳基的单体一作为所述具有芳基的单体，只要具有芳基，就不特别限制，可以根据目的适当选择，但例如，可以举出具有芳基的多元醇化合物、多元胺化合物及多元氨基醇化合物的至少任一种和不饱和羧酸的酯或酰胺等。10作为所述具有芳基的多元醇化合物、多元胺化合物及多元氨基醇化合物，例如，聚苯乙烯氧化物、亚二甲苯基二醇、二一(e—羟基乙氧基)苯、1，5—二羟基一1，2，3，4—四氢萘、2，2—二苯基—1，3_丙二醇、羟基苄基醇、羟基乙基间苯二酚、l一苯基一l，2—乙二醇、2，3，5，6—四甲基一对二甲苯基一a，a，一二醇、1，1，4，4一四苯基一1，4一丁15二醇、1，1，4，4—四苯基一2—亚丁基一1，4—二醇、1，1，一双一2—萘酚、二羟基萘酚、1，r一亚甲基一二一2—萘酚、1，2，4一苯三醇、联苯酚、2，2，一双(4—羟基苯基)丁垸、1，1—双(4一羟基苯基)环己烷、双(羟基苯基)甲烷、儿茶酚、4—氯间苯二酚、氢醌、羟基苄基醇、甲基氢醌、亚甲基一2，4，6—三羟基安息香酸酯、氟甘氨酸醇、焦酚、间20苯二酚、a—(l—氨基乙基)对羟基苄基醇、a—(l一氨基乙基)对一羟基苄基醇、3—氨基一4一羟基苯基砜等。另外，除此之外，可以举出亚二甲苯基双(甲基)丙烯酰胺、酚醛清漆型环氧树脂或双酚A二縮水甘油醚等縮水甘油化合物加成a、3—不饱和縮水而得到的化合物、苯二甲酸或苯偏三酸三烯丙基酯、苯二磺酸二烯丙基酯、作为聚合性单体的阳离子25聚合性二乙烯基醚类(例如，双酚A二乙烯基醚)、环氧化合物(例如，酚醛清漆型环氧树脂、双酚A二縮水甘油醚等)、乙烯基酯类(例如，二乙烯基苯二甲酸、二乙烯基对苯二甲酸、二乙烯基苯一1，3—二磺酸酯等)、苯乙烯化合物(例如，二乙烯基苯、对烯丙基苯乙烯、对异丙基苯乙烯等)。其中，优选下述结构式(35)表示的化合物。[化39]R4R5\:〇〇<X5^~Ar，一T一Ar2"fx6一OCO、卩m5m610结构式(35)所述结构式(35)中，R4、RS表示氢原子或烷基。所述结构式(35)中，XS及XS表示环氧烷烃基，可以单独一种，也可以合用两种以上。作为该环氧烷烃基，例如，可以适当举出环氧乙烷基、15环氧丙烷基、环氧丁烷基、环氧戊烷基、环氧己垸基、组合这些的基团(可以组合无规、嵌段的任一种)等，其中，优选环氧乙垸基、环氧丙垸基、环氧丁垸基、或组合这些的基团，更优选环氧乙垸基、环氧丙烷基。所述结构式(35)中，m5、m6表示l60的整数，更优选230的整数，特别优选415的整数。20所述结构式(35)中，T表示二价连结基，例如，可以举出亚甲基、亚乙基、MeCMe、CF3CCF3、CO、S。2等。所述结构式(35)中，Arl、Ar2表示可具有取代基的芳基，例如，可以举出亚苯基、亚萘基等。作为所述取代基，例如，可以举出烷基、芳基、芳垸基、卤素基、烷氧基、或这些组合等。25作为所述具有芳基的单体的具体例，可以举出2，2—双[4一(3—(甲基)丙烯酰氧基一2—羟基丙氧基)苯基]、2，2—双[4一((甲基)丙烯酰氧基乙氧基)苯基]丙垸、被一个苯酚性OH基取代的乙氧基的数目是220的2，2—双(4一((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷(例如，2，2—双((甲基)丙烯酰氧基二乙氧基)苯基丙烷、2，2—双(4一((甲30基)丙烯酰氧基四乙氧基)苯基)丙烷、2，2—双(4一((甲基)丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷、2，2—双(4一((甲基)丙烯酰氧基十乙氧基)苯基)丙烷、2，2—双(4一((甲基)丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基)丙垸等)、2，2—双(4一((甲基)丙烯酰氧基丙氧基)苯基)丙烷、被一个苯酚性OH基取代的乙氧基的数目是220的2，2—双(4一((甲基)5丙烯酰氧基聚丙氧基)苯基)丙烷(例如，2，2—双(4一((甲基)丙烯酰氧基二丙氧基)苯基)丙烷)、2，2—双(4一((甲基)丙烯酰氧基四丙氧基)苯基)丙烷、2，2—双(4一((甲基)丙烯酰氧基五丙氧基)苯基)丙垸、2，2—双(4一((甲基)丙烯酰氧基十丙氧基)苯基)丙烷、2，2—双(4一((甲基)丙烯酰氧基十五丙氧基)苯基)丙烷等)、或作10为这些化合物的聚酯部位在同一分子中含有聚环氧乙烯骨架和聚丙烯骨架两者的化合物(例如，WO01/98832号公报中记载的化合物等、或作为市售品的新中村化学工业公司制造、BPE—200、BPE—500、BPE—1000)、具有双酚骨架和尿烷基的聚合性化合物等。还有，这些也可以为将来源于双酚A骨架的部分改变为双酚F或双酚S等的化合物。15作为所述具有双酚骨架和尿垸基的聚合性化合物，例如，可以举出双酚和环氧乙垸或环氧丙烷等的加成物、作为聚合加成物得到的末端具有羟基的化合物中具有异氰酸酯基和聚合性基的化合物(例如，2—异氰酸酯乙基(甲基)丙烯酸酯、a、a—二甲基一乙烯基苄基异氰酸酯等)等。一其他的聚合性单体一20本发明的图案形成方法在作为所述图案形成材料的特性不变差的范围内，也可以合用所述含有尿烷基的单体、具有芳基的单体以外的聚合性单体。作为所述含有尿烷基的单体、含有芳香环的单体以外的聚合性单体，例如，可以举出不饱和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆25酸、异巴豆酸、马来酸等)和脂肪族多元醇化合物的酯、不饱和羧酸和多元胺化合物的胺等。作为所述不饱和羧酸和脂肪族多元醇化合物的酯的单体，例如，可以举出乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙烯基的数目为218的聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯(例如，二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)30丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、九乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、十乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、十四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等)、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙烯基的数目为218的聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯(例如，二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、十丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等)、5新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性新戊二醇二(甲基)丙烯酸酉旨、环氧丙垸改性新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙垸二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酰氧基丙基)醚、三羟甲基乙垸三(甲基)丙烯酸酯、1，3—丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，3—丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4一丁二醇io二(甲基)丙烯酸酯、1，6—己二醇二(甲基)丙烯酸酯、四亚甲基二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4一环己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，2，4一丁垸三醇三(甲基)丙烯酸酯、1，5—戊二醇(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇(甲基)三丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)15丙烯酸酯、山梨糖醇四(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇五(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇六(甲基)丙烯酸酯、二羟甲基二环戊垸二(甲基)丙烯酸酯、三环癸垸二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇改性三羟甲基丙垸二(甲基)丙烯酸酯、至少具有各一个乙二醇链/丙二醇链的亚烷基二醇链的二(甲基)丙烯酸酯(例如，WO01/98832号公报中20记载的化合物等)、加成环氧乙垸及环氧丙烷的至少任一种的三羟甲基丙烷的三(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、二甲苯酚(甲基)丙烯酸酯等。在所述(甲基)丙烯酸酯类中，从容易得到等观点出发，优选乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)25丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、至少具有各一个乙二醇链/丙二醇链的亚垸基二醇链的二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙垸三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲30基)丙烯酸酯、甘油甘油三(甲基)丙烯酸酯、二甘醇二(甲基)丙烯酸酯、1，3—丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，2，4一丁烷三醇三(甲基)丙烯酸酯、1，4一环己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，5—戊二醇(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、加成环氧乙烷的三羟甲基丙烷的三(甲基)丙烯酸酯。5作为所述衣康酸和所述脂肪族多元醇化合物的酯(衣康酸酯)，例如，可以举出乙二醇二衣康酸酯、丙二醇二衣康酸酯、1，3—丁二醇二衣康酸酯、1，4一丁二醇二衣康酸酯、四亚甲基二醇二衣康酸酯、季戊四醇二衣康酸酯、及山梨糖醇四衣康酸酯等。作为所述巴豆酸和所述脂肪族多元醇化合物的酯(巴豆酸酯)，例如，io可以举出乙二醇二巴豆酸酯、四亚甲基二醇二巴豆酸酯、季戊四醇二巴豆酸酯、山梨糖醇四巴豆酸酯等。作为所述异巴豆酸和所述脂肪族多元醇化合物的酯(异巴豆酸酯)，例如，可以举出乙二醇二异巴豆酸酯、季戊四醇二异巴豆酸酯、山梨糖醇四异巴豆酸酯等。15作为所述马来酸和所述脂肪族多元醇化合物的酯(马来酸酯)，例如可以举出乙二醇二马来酸酯、三乙二醇二马来酸酯、季戊四醇二马来酸酯、山梨糖醇四马来酸酯等。作为从所述多元醇化合物和所述不饱和酸类衍生的胺，例如，可以举出亚甲基双(甲基)丙烯酰胺、乙烯双(甲基)丙烯酰胺、1，6—六亚甲20基双(甲基)丙烯酰胺、八亚甲基双(甲基)丙烯酰胺、二亚乙基三胺三(甲基)丙烯酰胺、二亚乙基三胺双(甲基)丙烯酰胺等。另外，除了上述之外，作为所述聚合性单体，例如，可以举出丁二醇一l，4一二缩水甘油醚、环己烷二己醇縮甘油醚、乙二醇二縮水甘油醚、二乙二醇二縮水甘油醚、二丙二醇二縮水甘油醚、己二醇二縮水甘油醚、25三羟甲基丙垸三縮水甘油醚、季戊四醇四縮水甘油醚、甘油三縮水甘油醚等缩水甘油基含有化合物加成a，P—不饱和羧酸而得到的化合物、特开昭48—64183号、特公昭49—43191号、特公昭52—30490号各公报中记载的聚酯丙烯酸酯或聚酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物类、环氧化合物(例如，第二春一l，4一二缩水甘油醚、环己烷二甲醇縮水甘油醚、二乙二醇二縮30水甘油醚、二丙二醇二縮水甘油醚、己二醇二縮水甘油醚、三羟甲基丙垸三缩水甘油醚、季戊四醇四縮水甘油醚、甘油高三縮水甘油醚等)和(甲基)丙烯酸酯反应得到的环氧丙烯酸酯类等多官能团的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯、日本粘着协会杂志vol.20、No.7、300308页(1984年)中记载的光固化性单体及寡聚物、烯丙基酯(例如，苯二甲酸二烯丙基酯、己二5酸二烯丙基酯、丙二酸二烯丙基酯、二烯丙基酰胺(例如，二烯丙基乙酰胺等)、阳离子聚合性二乙烯基醚类(例如，丁二醇一l，4一二乙烯基醚、环己烷二己醇醚、乙二醇二乙烯基醚、二乙二醇二乙烯基醚、二丙二醇二乙烯基醚、己二醇二乙烯基醚、三羟甲基丙垸三乙烯基醚、季戊四醇四乙烯基醚、甘油三乙烯基醚等)、环氧化合物(例如，丁二醇一1，4一二缩io水甘油醚、环己垸二甲醇縮水甘油醚、乙二醇二缩水甘油醚、二乙二醇二縮水甘油醚、二丙二醇二缩水甘油醚、己二醇二縮水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、季戊四醇四縮水甘油醚、甘油三縮水甘油醚等)、氧杂环丁烷类(例如，1，4一双[(3—乙基一3—氧杂环丁烷基甲氧基)甲基]苯等)、环氧化合物、氧杂环丁烷类(例如，WO01/22165号公报中记载的15化合物)、n—P—羟基乙基一e—(甲基丙烯酰胺)乙基丙烯酸酯、n，n—双(e—甲基丙烯酰氧基乙基)丙烯酰胺、烯丙基甲基丙烯酸酯等具有两个以上不同的乙烯性不饱和双键的化合物等。作为所述乙烯基酯类，例如，可以举出二乙烯基琥珀酸酯、二乙烯基己二酸酯等。20这些多官能团单体或寡聚物可以单独使用一种，也可以合用两种以上。所述聚合性单体可以根据需要与在分子内含有一个聚合性基的聚合性化合物(单官能团单体)。作为所述单官能团单体，例如，可以举出作为所述粘合剂的原料例示25的化合物、特开平6—236031号公报中记载的两个碱基的但((甲基)丙烯酰氧基垸基酯)单(羟基烷基酯)等单官能团单体(例如，Y—氯一3一羟基丙基一P，一甲基丙烯酰氧基乙基一o—邻苯二甲酸酯等)、日本专利2744643号公报、W000/52529号公报、日本专利2548016号公报等中记载的化合物。30作为所述感光层中的聚合性化合物的含量，例如，优选590质量％，更优选1560质量％，特别优选2050质量％。若所述含量为5质量％，则有时遮盖膜的强度降低，若大于90质量％，则有时保存时的熔边(自辊端部的渗出故障)变差。另外，作为在聚合性化合物中具有两个以上所述聚合性基的多官能团5单体的含量，优选5100质量％，更优选20100质量％，特别优选40100质量％。《光聚合引发剂》作为所述光聚合引发剂，只要具有引发所述聚合性化合物的聚合的能力，就不特别限制，可以从公知的光聚合引发剂中适当选择，但例如，优io选对从紫外线区域到可见光线具有感光性的光聚合引发剂，也可以与被光激励的增感剂发生某种作用，生成活泼自由基的活泼剂，也可以根据单体的种类引发阳离子聚合的引发剂。另外，所述光聚合引发剂优选至少含有一种在约300800nm(更优选330500nm)的范围内具有至少约50的分子吸光系数的成分。15作为所述光聚合引发剂，例如，可以举出卤化烃衍生物(例如，具有三嗪骨架的、具有噁二唑骨架的等)、六芳基联二咪唑、肟衍生物、有机过氧化物、硫代化合物、酮化合物、芳香族総盐、环烯金属衍生物类等。其中，从感光层的感度、保存性、及与感光层和印刷电路板形成用基板的粘附性等观点出发，优选具有三嗪骨架的卤化烃衍生物、肟衍生物、酮化20合物、六芳基联二咪唑系化合物。作为所述六芳基联二咪唑，例如，优选2，2'—双(2—氯苯基)一4，4，，5，5'—四苯基联二咪唑、2，2'—双(o—氟苯基)一4，4，，5，5，一四苯基联二咪唑、2，2'—双(2—溴苯基)一4，4，，5，5'—四苯基联二咪唑、2，2'—双(2—二氯苯基)一4，4，，5，5'—四苯基联二咪唑、2，252，一双(2—氯苯基)一4，4，，5，5'—四(3—甲氧基苯基)联二咪唑、2，2'—双(2—氯苯基)一4，4，，5，5'—四(甲氧基苯基)联二咪唑、2，2'一双(2，4一二氯苯基)一4，4，，5，5'—四苯基联二咪唑、2，2'—双(2一硝基苯基)一4，4，，5，5'—四苯基联二咪唑、2，2'—双(2—甲基苯基)一4，4，，5，5，一四苯基联二咪唑、2，2'—双(2—三氟甲基苯基)30—4，4，，5，5'—四苯基联二咪唑、WO0052529号公报中记载的化合物等。所述联二咪唑类可以通过例如，BULL.Chem.Soc.Japan33，565(1960)、及J.Org.Chem,36(16)2262(1971)中公开的方法容易地合成。作为具有三嗪骨架的卤化烃化合物，例如，若林等著、Bull.Chem.Soc.Japan.42、2924(1969)记载的化合物、英国专利13884925号说明书记载的化合物、特开昭53—133428号公报记载的化合物、德国专利3337024号说明书记载的化合物、F.C.Schaefer等的J.Org.Chem.;29、1527(1964)记载的化合物、特开昭62—58241号公报中记载的化合物、特开平5—28172S号公报中记载的化合物、特开平5—34920号公报中记载的化合物、美国专利第4212976号说明书中记载的化合物。io作为所述若林等著、Bull.Chem.Soc.Japan.42、2924(1969)记载的化合物，例如可以举出2—苯基一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、2—(4一氯苯基)一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、2—(4—甲氧基苯基)一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、2—(2，4一二氯苯基)一4，6—双(三氯甲基)—1，3,5—三嗪、2，4，6—三(三氯15甲基)一l，3，5—三嗪、2—甲基一4，6—双(三氯甲基)一1，3，5—三嗪。2—正壬基一4，6—双(三氯甲基)一1，3，5—三嗪、及2—(a，a，P—三氯乙基)一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪等。作为所述英国专利1388492号说明书中记载的化合物，例如，可以举出2—苯乙烯一4，6—双(三氯甲基)一1，3，5—三嗪、2—(4一甲基苯20乙烯)一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、2—(4一甲氧基苯乙烯)一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、2—(4一甲氧基苯乙烯)一4一氨基一6—三氯甲基一1，3，5—三嗪。作为所述特开昭53—133428号公报中记载的化合物，例如，可以举出2—(4—甲氧基一萘一l一基)一4，6—双(三氯甲基一l，3，5—三嗪、252—(4一乙氧基一萘一l一酰基)一4，6—双(三氯甲基)一l，3,5—三嗪、2—[4一(2—乙氧基乙基)一萘一1一酰基]一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5三嗪、2—(4，7—二甲氧基一萘一l一基)一4，6—双(三氯甲基)一1，3，5—三嗪、及2—(苊并一5—基)一4，6—双(三氯甲基)—1，3，5—三嗪等。30作为所述德国专利3337024号说明书中记载的化合物，例如，可以举出2—(4一苯乙烯苯基)一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、2一(4一(4一甲氧基苯乙烯)苯基)一4,6—双(三氯甲基)一l，3，5一三嗪、2—(l一萘基亚乙烯基苯基)一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、2—氯苯乙烯苯基一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、25—(4—噻吩一2—亚乙烯基苯基)一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、2—(4—噻吩一3—亚乙烯基苯基)一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、2—(4一呋喃一2—亚乙烯基苯基)一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、及2—(4一苯并呋喃一2—亚乙烯基苯基)一4,6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪等。io作为所述F.C.Schaefer等的J.Org.Chem.;29、1527(1964)记载的化合物，例如，可以举出2—甲基一4，6—双(三溴甲基)一l，3，5—三嗪、2，4，6—三(三溴甲基)一l，3，5—三嗪、2，4，6—三(二溴甲基)一l，3，5—三嗪、2—氨基一4一甲基一6—三(溴甲基)一l，3，5—三嗪、及2—甲氧基一4一甲基一6—三氯甲基一1，3，5—三嗪等。15作为所述特开昭62—58241号公报记载的化合物，例如，可以举出2一(4一苯基乙基苯基)一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、2—(4一萘一1一乙基苯基一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、2—(4一(4一三乙基)苯基)一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、2—(4一(4—甲氧基苯基)乙基苯基)一4，6—双(三氯甲基)一l，3，520—三嗪、2—(4一(4一异丙基苯基乙基)苯基)一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、2—(4—(4一乙基苯基乙基)苯基一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪等。作为所述特开平5—281728号公报中记载的化合物，例如，2—(4一三氟甲基苯基)一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、2—(2，6—25二氟苯基)一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、2—(2,6—三氯苯基)一4，6—双(三氯甲基)一l，3，5—三嗪、2—(2，6—二溴苯基)一4，6—双(三氯甲基)一1，3，5—三嗪等。作为所述特开平5—34920号公报中记载的化合物，例如可以举出2，4一双(三氯甲基)一6—[4一(N，N二甲氧基羰基甲基氨基)一3—溴苯30基]一l，3，5—三嗪、美国专利第4239850号说明书中记载的三卤化甲基一s—三嗪化合物、乙基2，4，6—三(三氯甲基)一s—三嗪、2—(4—氯苯基)一4，6—双(三溴甲基)一s—三嗪等。作为所述美国专利第4212976号说明书中记载的化合物中记载的化合物，例如可以举出具有噁二唑骨架的化合物(例如，2—三氯甲基一5—苯5基一l，3，4一噁二唑、2—三氯甲基一5—(4一氯苯基)一l，3，4一噁二唑、2—三氯甲基一5—(l一萘基)一1，3，4一噁二唑、2—三氯甲基一5—(2—萘基)一1，3，4一噁二唑、2—三溴甲基一5—苯基一1，3，4一噁二唑、2—三溴甲基一5—(2—萘基)一l，3，4一噁二唑；2—三氯甲基一5—苯乙烯一1，3，4一噁二唑、2—三氯甲基一5—(4一氯苯乙烯)io—l，3，4一噁二唑、2—三氯甲基一5—(4一甲氧基苯乙烯)一l，3，4一噁二唑、2—三氯甲基一5—(l一萘基)一l，3，4一噁二唑、2—三氯甲基一5—(4—正丁氧基苯乙烯)一1，3，4一噁二唑、2—三溴甲基一5—苯乙烯一l，3，4一噁二唑等)等。作为本发明中适合使用的肟衍生物，例如，可以举出下述结构式15(36)(69)表示的化合物。结构式(38)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage51</formula>结构式(39)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage51</formula>结构式(36)结构式(37)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage51</formula>结构式(40)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage52</formula>结构式(41)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage52</formula>结构式(42)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage52</formula>结构式(43)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage52</formula>结构式(44)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage52</formula>结抝式(45)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage52</formula>结构式(46)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage52</formula>[化41]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage53</formula>结构式(57)结构式(58)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage54</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage55</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>结构式(64)f>C3H7达始#/&e、ru/^一W—、tM/，'W『结构式(66〗莰基结构式(67)p-CH3C6H415R结构式(明)n-C3H7结构式(缝)20作为所述酮化合物，例如，可以举出二苯甲酮、2—甲基二苯甲酮、3一甲基二苯甲酮、4—甲基、4—甲氧基二苯甲酮、2—氯二苯甲酮、4一氯二苯甲酮、4一溴二苯甲酮、2—羧基二苯甲酮、2—乙氧基羰基二苯甲酮、二苯甲酮四羧酸或其四甲基酯、4，4'一双(二烷基氨基)二苯甲酮类9例如，4，4'双(二甲基氨基)二苯甲酮、4，4，一双二环己基氨基)二25苯甲酮、4，4，一双(二乙基氨基)二苯甲酮、4，4'一双(二羟基乙基氨基)二苯甲酮、4一甲氧基一4，一二甲基氨基二苯甲酮、4，4，一二甲氧基二苯甲酮、4一二甲基氨基二苯甲酮、4一二甲基氨基苯乙酮、二苯甲酰、蒽醌、2—叔丁基蒽醌、2—甲基蒽醌、菲、占吨酮、噻吨酮、2—氯一噻吨酮、2，4一二乙基噻吨酮、9一芴酮、2—苄基一二甲基氨基一1一(4一30吗啉代苯基)一1—丁酮、2—甲基一1一[4一(甲基硫代)苯基]一2—吗啉代一1一丙烷、2—羟基一2—甲基一[4一(l一甲基乙烯基)苯基]丙醇寡聚物、二苯乙醇酮、二苯乙醇酮醚类(例如，二苯乙醇酮甲醚、二苯乙醇酮乙醚、二苯乙醇酮丙醚、二苯乙醇酮异丙醚、二苯乙醇酮苯基醚、苄基二甲基酮)、吖啶酮、氯吖啶酮、N—甲基吖啶酮、N—丁基吖啶酮、N—丁5基一氯吖啶酮等。作为所述芳环烯金属衍生物，例如，可以举出双(n5—2，4一环戊二烯一l一基)一双(2，6—二氟一3—(1H—吡咯一1一基)一苯基)钛、n5—环戊二烯一n6—枯烯基一铁(1+)—六氟膦酸酯(l-)、特开昭53—133428号公报、特公昭57—1819号公报、特公昭57—6096号公报、及io美国专利第3615455号说明书中记载的化合物等。另外，作为上述以外的光聚合引发剂，可以举出吖啶衍生物(例如，9一苯基吖啶、1，7—双(9、9，一吖啶基)庚垸等)、N—苯基甘氨酸等、聚卤化合物(例如，四溴化碳、苯基三溴甲基砜、苯基三氯甲基酮等)、香豆素类(例如，3—(2—苯并呋喃甲酰基)一7—二乙基氨基香豆素、315—(2—苯并呋喃甲酰基)一7—(l一吡咯烷基)香豆素、3—苯甲酰基一7—二乙基氨基香豆素、3—(2—甲氧基苯甲酰基)一7—二乙基氨基香豆素、3—(4一二甲基氨基苯甲酰基)一7—二乙基氨基香豆素、3，3，一羰基双(5，7—二一正丙氧基香豆素)、3，3，一羰基双(7—二乙基氨基香豆素)、3—苯甲酰基一7—甲氧基香豆素、3—(2—呋喃甲酰基)一7—20二乙基氨基香豆素、3—(4一二乙基氨基肉桂酰基)一7—二乙基氨基香豆素、7—甲氧基一3—(3—吡啶基羰基)香豆素、3—呋喃甲酰基一5，7一二丙氧基香豆素、7—苯并三唑一2—基香豆素、或特开平5—19475号、特开平7—271028号、特开2002—363206号、特开2002—363207号、特开2002—363208号、特开2002—363209号公报等中记载的香豆素化合物25等)、胺类(例如，4一二甲基氨基安息香酸乙酯、4一二甲基氨基安息香酸正丁酯、4一二乙基氨基安息香酸苯乙酯、4一二甲基氨基安息香酸2—邻苯二甲酰亚胺乙酯、4一二甲基氨基安息香酸2—甲基丙烯酰氧基乙酯、五亚甲基双(4一二甲基氨基二苯甲酮)、3—二甲基氨基安息香酸的苯乙酉旨、五亚甲基酯、4一二甲基氨基苯甲醛、2—氯一4一二甲基氨基苯甲醛、304—二甲基氮基节基醇、乙基(4一二甲基氨基苯甲酰基)乙酸酯、4一哌啶基苯乙酮、4一二甲基氨基安息香、N，N—二甲基一4一甲苯胺、N，N—二乙基一3—苯乙嗪、三苄基胺、三苄基苯基胺、N—甲基一N—苯基节基胺、4一溴一N，N—二甲基苯胺、三十二烷基胺、氨基荧烷类(0DB、ODBII等)、水晶紫内酯、无色水晶紫等)、酰基氧化膦类(例如，双(2，4，65—三甲基苯甲酰基)一苯基氧化膦、双(2，6—二甲氧基苯甲酰基)一2，4，4一三甲基一戊基苯基氧化膦、LucirinTPO等)等。进而，可以举出在美国专利第2367660号说明书中公开的连位聚縮酮多诺基(K二》)化合物、美国专利第2448828号说明书中记载的偶因醚化合物、美国专利第2722512号说明书中记载的用a—烃取代的芳香族偶io因化合物、美国专利第3046127号说明书及美国专利第2951758号说明书中记载的多环醌化合物、特开2002—229194号公报的中记载的有机硼化合物、自由基产生剂、三芳基锍沿(例如，与六氟钛或六氟磷酸酯的盐、锍盐化合物(例如，(苯基硫代苯基)二苯基锍盐等)(作为阳离子聚合引发剂有效)、WO01/71428号公报记载的鑰盐化合物等。15所述光聚合引发剂可以单独使用一种，也可以合用两种以上。作为两种以上的组合，例如，可以举出美国专利第3549367号说明书中记载的六芳基联二咪唑和4一氨基酮类的组合、特公昭51—48516号公报中记载的苯并噻唑化合物和三卤代甲基一s—三嗪化合物的组合、或芳香族酮化合物(例如，噻吨酮等)和氢供给体例如，二垸基氨基含有化合物、苯酚化20合物等)的组合、六芳基联二咪唑和二茂钛(titanocene)的组合、香豆素类、二茂钛(tita加cene)、和苯基甘氨酸类的组合等。作为所述感光层中的光聚合引发剂的含量，优选0.130质量％，更优选0.520质量％，特别优选0.515质量％。<<其他成分>>25作为所述其他成分，例如，可以举出增感剂、热聚合抑制剂、增塑剂、发色剂、着色剂等，进而可以合用向基体表面的粘附促进剂及其他助剂类(例如，颜料、导电性粒子、填充剂、消泡剂、阻燃剂、流平剂、剥离促进剂、氧化抑制剂、香料、热交联剂、表面张力调节剂、连锁移动剂等)。通过适当含有这些成分，能够调节作为目的的图案形成材料的稳定性、照30片性、印像性、膜物性等性质。一增感剂一所述增感剂可以作为后述的光照射机构通过可见光线或紫外光*可见光激光器等适当选择。所述增感剂通过活性能线成为激励状态，通过与其他物质(例如，自5由基产生剂、酸产生剂等)的相互作用(例如，能量移动、电子移动等)，能够产生自由基或酸等有效基。作为所述增感剂，不特别限制，可以从公知的增感剂中适当选择，但例如，可以举出公知的多环芳香族类(例如，芘、茈、三亚苯基)、占吨类(例如，荧光素、曙红、红霉素、若丹明B、玫瑰铁红、花青类(例如，10印度羰花青、硫羰花青、噁羰花青)、部花青类(部花青、羰部花青)、噻嗪类(例如，硫堇、亚甲基蓝、甲苯胺蓝)、吖啶类(例如，吖啶橙、氯黄素、吖啶黄)、蒽醌类(例如，蒽醌)、斯夸母(7夕了y々厶)类(例如，斯夸母)、吖啶酮类(例如，吖啶酮、氯吖啶酮、N—甲基吖啶酮、N一丁基吖啶酮、N—丁基一氯吖啶酮等)、香豆素类(例如，3—(2—苯并is呋喃甲酰基)一7—(l—吡咯垸基)香豆素、3—苯甲酰基一7—二乙基氨基香豆素、3—(2—甲氧基苯甲酰基)一7—二乙基氨基香豆素、3—(4一二甲基氨基苯甲酰基)一7—二乙基氨基香豆素、3，3'—羰基双(5，7一二一正丙氧基香豆素)、3，3，一羰基双(7—二乙基氨基香豆素)、3—苯甲酰基一7—甲氧基香豆素、3—(2—苯甲酰基)一7—二乙基氨基香豆素、203—(4一二乙基氨基肉桂酰基)一7—苯甲酰基一5，7—二丙氧基香豆素等，以及特开平5—19475号、特开平7—271028号公报、特幵2002—363206号、特开2002—363207号、特开2002—363208号、特开2002—363209号等各公报中记载的香豆素化合物等)。作为光聚合引发剂和所述增感剂的组合，例如可以举出特开2001—25305734号公报中记载的电子移动引发剂系[(1)电子供给型引发剂及增感色素、(2)电子接受型引发剂及增感色素、(3)电子供给型引发剂、增感色素及电子接受型引发剂(三维引发系)]等组合。作为所述增感剂的含量，优选相对于感光性树脂组合物的总成分，为0.0530质量％，更优选0.120质量％，特别优选0,210质量％。30若所述含量小于0.05质量％，则有时对活性能线的感度下降，曝光工序花费时间，生产率降低，若大于30质量％，则有时在保存时从所述感光层析出。一热聚合抑制剂一也可以为了防止所述感光层中的所述聚合性化合物的热性聚合或经5时性聚合而添加所述热聚合抑制剂。作为所述热聚合抑制剂，例如，可以举出4一甲氧基苯酚、氢醌、烷基或芳基取代氢醌、叔丁基儿茶酚、焦酚、2—羟基二苯甲酮、4一甲氧基一2—羟基二苯甲酮、氯化亚铜、酚噻嗪、四氯醌、萘胺、e—苊并、2，6—二叔丁基一4一甲酚、2，2，一亚甲基双(4一甲基一6—叔丁基苯酚)、10吡啶、硝基苯、二硝基苯、苦味酸、4一甲苯胺、亚甲基蓝、铜和有机螯合剂反应物、水杨酸甲酯、及酚噻嗪、亚硝基化合物、亚硝基化合物和Al的螯合物等。作为所述热聚合抑制剂的含量，优选相对于所述感光层的所述聚合性化合物，优选0.0015质量％，更优选0.0052质量％，特别优选0.01151质量％。若所述含量小于0.001质量％，则有时保存时的稳定性降低，若大于5质量％，则有时相对活性能线的感度降低。一增塑剂一也可以为了控制所述感光层的膜物性(挠曲性)而添加所述增塑剂。20作为所述增塑剂，例如，可以举出二甲基苯二甲酸酯、二异丁基苯二甲酸酯、二庚基苯二甲酸酯、二辛基苯二甲酸酯、二环己基苯二甲酸酯、二十三烷基苯二甲酸酯、丁基苄基苯二甲酸酯、二异癸基苯二甲酸酯、二苯基苯二甲酸酯、二烯丙基苯二甲酸酯、辛基辛酸基苯二甲酸酯等苯二甲酸酯类；三乙二醇二乙酸酯、四乙二醇二乙酸酯、二甲基二醇葡萄糖苯二25甲酸酯、乙基邻苯二甲酰基乙基乙醇酸酯、三乙二醇二辛酸酯等二醇酯类；三甲苯磷酸酯、三苯基磷酸酯等磷酸酯类；4一甲苯磺酰胺、苯磺酰胺、N一n—丁基苯磺酰胺、N—n—丁基乙酰胺等酰胺类；二异丁基己二酸酯、二辛基己二酸酯、二甲基癸二酸酯、二丁基癸二酸酯、二辛基癸二酸酯、二辛基壬二酸酯、二丁基苹果酸酯脂肪族二碱基酸酯类；柠檬酸三乙酯、30柠檬酸三丁酯、甘油三乙酰酯、月桂酸丁酯、4，5—二乙氧基环己烷一1，2—二羧酸二辛基酯等、聚乙二醇、聚丙二醇等二醇类。作为所述着色剂的含量，优选相对于所述感光层的总成分为0.150质量％，更优选0.540质量％，特别优选130质量％。一发色剂一5也可以为了向曝光后的所述感光层赋予可视像(印像功能)而添加所述发色剂。作为所述发色剂，例如，可以举出三(4一二甲基氨基苯基)甲烷(无色水晶紫)、三(4一二乙基氨基苯基)甲烷、三(4一二甲基氨基一2—甲基苯基)甲烷、三(4一二乙基氨基一2—甲基苯基)甲烷、双(4一二丁io基氨基苯基)一[4一(2—氰基乙基)甲基氨基苯基]甲垸、双(4一二甲基氨基苯基)一2—喹啉基甲烷、三(4一二丙基氨基苯基)甲烷等氨基三芳基甲垸类；3，6—双(二甲基氨基)一9一苯基花黄素、3—氮基一6—二甲基氨基一2—甲基一9一(2—氯苯基)花黄素等氨基花黄素(*寸>千类；3，6—双(二乙基氨基)一9一(2—乙氧基羰基苯基)占吨、3，156—双(二甲基氨基)占吨等氨基占吨类；3，6—双(二乙基氨基)一9,10—二氢一9一苯基吖啶、3，6—双(苄基氨基)一9，10—二氢一9一甲基吖啶等氨基一9，IO—二氢吖啶类；3，7—双9二乙基氨基)吩噁嗪等氨基吩噁嗪类；3，7—双(二乙基氨基)一5—己基一5，IO—二氢吩嗪等氨基二氢吩嗪；4一氨基一4，一二甲基氨基二苯基胺、4一氨基一a、P—20二氰基氢桂皮酸甲酯等氨基氢桂皮酸类；l一(2—萘)一2—苯基肼等肼类；1，4一双(乙基氨基)一2，3—二氢蒽醌类的氨基一2，3—二氢蒽醌类；N，N—二乙基一4一苯乙基苯胺等苯乙基苯胺类；IO—乙酰一3，7—双(二甲基氨基)酚噻嗪等含有碱性NH的无色色素的酰基衍生物；三(4一二乙基氨基一2—甲苯基)乙氧基羰基甲垸等不具有能够氧化的氢，但25可以氧化为发色化合物的无色样化合物无色靛类色素；美国专利3，042，515号及相同第3，042,517号中记载的能够氧化为发色形的有机胺类(例如，4，4'一亚乙基胺、二苯基胺、N，N—二甲基苯胺、4，4'一亚甲基二氮基三苯基胺、N—乙烯基咔唑)，其中，优选无色水晶紫等三芳基甲烷等化合物。30进而，通常知道的有，所述发色剂出于发出所述无色体的颜色等目的，与卤化合物组合。作为所述卤化合物，例如可以举出，卤化烃(例如，四溴化碳、碘仿、溴化乙烯、二溴甲烷、溴代戊烷、溴代异戊烷、碘化戊烷、溴代异丁烯、六氯乙烷、1，2—二溴乙烷、1,1，2，2—四溴乙垸、1，2—二溴一1，1，53—三氯乙烷、1，2，3—三溴丙垸、1—溴一4一氯丁烷、1，2，3，4一四溴丁烷、四氯环丙垸、六氯环戊烷二烯、二溴环己烷、1，1，l一三氯一2，2—双(4一氯苯基)乙烷等；卤化醇化合物(例如，2，2，2—三氯乙醇、三溴乙醇、1，3—二氯一2—丙醇、1，1，l一三氯一2—丙醇、二(碘代六亚甲基)氨基异丙醇、三溴一叔丁基醇、2，2，3—三氯丁烷一1，4一io二醇等)；卤化羰基化合物(例如，1，l一二氯丙酮、1，3—二氯丙酮、六氯丙酮、六溴丙酮、1，1，3，3—四氯丙酮、1，1，l一三氯丙酮、3，4一二溴一2—丁酮、1，4一二氯一2—丁酮一二溴环己酮等)；卤化醚化合物(例如，2—溴乙基甲基醚、2—溴乙基乙醚、二(2—溴乙基)醚、1，2—二氯乙基乙醚等)；卤化酯化合物(例如，乙酸溴乙酯、三氯乙酸乙酯、15三氯乙酸乙酯、2，3—二溴丙基丙烯酸酯的均聚物及共聚物、二溴丙酸三氯乙酯、a，P—二氯丙烯酸乙酯等)；卤化酰胺化合物(例如，氯乙酰胺、溴乙酰胺、二氯乙酰胺、三氯乙酰胺、三溴乙酰胺、三氯乙基三氯乙酰胺、2—溴异丙酸酰胺、2，2，2—三氯丙酸酰胺、N—氯琥珀酰胺、N一溴琥珀酰胺等)；具有硫磺或磷的化合物(例如，三溴甲基苯基砜、4一20溴苯基三溴甲基砜、三(2，3—二溴丙基)磷酸酯等)、2，4一双(三氯甲基)6—苯基三唑等。在有机卤素化合物中，优选在同一碳原子具有结合的2个以上卣素原子的卤素化合物，更优选在一个碳原子具有3个卤素原子的卤素化合物。所述有机卤素化合物可以单独使用一种，也可以合用两种以上。其中，优选三溴甲基苯基砜、2，4一双(三氯甲基)一6—苯25基三唑。作为所述发色剂的含量，优选所述感光层的总成分优选为0.0120质量％，更优选0.0510质量％，特别优选0.15质量％。另外，作为所述卣素化合物的含量，优选所述感光层的总成分为0.0015质量％，更优选0.0051质量％。30—染料一为了提高处理性二将感光性树脂组合物着色，或赋予保存稳定性的目的而在所述感光层中使用染料。作为所述染料，亮绿(例如，其硫酸盐)、曙红、乙基紫、藻红B、甲基绿、水晶紫、基础品红、苯酚酞、1，3—二苯基三嗪、茜素红S、百5里酚酞、甲基紫2B、喹哪啶红、玫瑰铁红、间胺黄、百里酚磺基酞、二甲苯酚蓝、甲基橙、橙IV、二苯基甲状腺卡巴胂、2，7—二氯荧光素、对甲基红、刚果红、苯并红紫素、a—萘一红、尼罗蓝A、非那西托林、甲基紫、孔雀石绿、副品红、油蓝#603(东方化学工业公司制造)、若丹明B、若丹明6G、维多利亚纯蓝BOH等，其中，优选阳离子染料(例如，孔雀io石绿草酸盐、孔雀石绿硫酸盐等)。作为该阳离子染料的对阴离子，只要是有机酸或无机酸的残基就可，例如，可以举出溴酸、碘酸、硫酸、磷酸、草酸、甲基磺酸、三甲苯磺酸等残基(阴离子)钝。作为所述染料的含量，优选相对所述感光层的总成分为0.00110质量％，更优选0.015质量％，特别优选0.12质量％。15—粘附促进剂一为了提高各层之间的粘附性、或图案形成材料和基体的粘附性，可以在各层中使用公知的所谓的粘附促进剂。作为所述粘附促进剂，例如，可以适当举出特开平5—11439号公报、特开平5—341532号公报、及特开平6—43638号公报等中记载的粘附促20进剂。具体来说，苯并咪唑、苯并噁唑、苯并噻唑、2—巯基苯并咪唑、2一巯基苯并噁唑、2—巯基苯并噻唑、3—吗啉甲基一1一苯基一三唑一2—硫羰、3—吗啉甲基一5—苯基一噁二唑一2—硫羰、5—氨基一3—吗啉甲基一噻二唑一2—硫羰、及2—巯基一5—甲基硫代一噻二唑、三唑、四唑、苯并三唑、羧基苯并三唑、氨基含有苯并三唑、硅垸偶合剂等。25作为所述粘附促进剂的含量，优选相对所述感光层的总成分为0.001质量％20质量％，更优选0.0110质量％，特别优选0.15质量％。所述感光层也可以含有例如，J.科瑟著"光敏系统(，一卜ty、乂亍^7、'V7亍厶X)"第5章记载的有机硫化合物、过氧化物、氧化还原系化合物、偶氮或二偶氮化合物、光还原性色素、有机卤素化合物等。30作为所述有机硫化合物，例如，可以举出二正丁基二硫化物、二苄基二硫化物、2—巯基苯并噻唑、2—巯基苯并噁唑、硫代苯酚、乙基三氯甲烷磺酸酯、2—巯基苯并咪唑等。作为所述过氧化物，例如，可以举出二叔丁基过氧化物、过氧化苯甲酰、甲基乙基甲酮过氧化物。5所述氧化还原化合物是组合过氧化物和还原剂而成的，可以举出亚铁离子和过二硫酸离子、铁离子和过氧化物等。作为所述偶氮及二偶氮化合物，例如，可以举出a，a'—偶氮双三(^y)丁腈、2—偶氮双一2—甲基丁腈、4一氨基二苯基胺的二偶氮鎿类。作为所述光还原性色素，例如，可以举出玫瑰铁红、红霉素、曙红、10吖啶黄、核黄素、劳氏紫。一表面活性剂一为了改善在制造本发明的所述图案形成材料时产生的面状不均，可以添加公知的表面活性剂。作为所述表面活性剂，例如，可以举出从阴离子系表面活性剂、阳离15子系表面活性剂、非离子系表面活性剂、两性表面活性剂、含氟表面活性剂等适当选择。作为所述表面活性剂的含量，优选相对感光性树脂组合物的固态成分为0.00110质量％。若所述含量小于0.001质量％，则有时不能得到面状改进的效果，若20大于10质量％，则粘附性降低。作为所述表面活性剂，除了上述表面活性剂外，作为氟系表面活性剂，还可以适当举出将在碳链320中含有氟原子40质量％以上，且具有从非结合末端起算至少3个碳原子中结合的氢原子被氟取代的氟脂肪族基的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯作为共聚合成分具有的高分子表面活性剂。25作为感光层的厚度，不特别限制，可以根据目的适当选择，但例如，优选l100pm，更优选250)im，特别优选430iim。[图案形成材料的制造〗所述图案形成材料例如可以如下所述地制造。首先，将上述各种材料溶解于水或溶剂中，使其乳化或分散而配制感30光性树脂组合物溶液。合物溶液的溶剂，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、仲丁醇、正己醇等醇类；丙酮、丁酮、甲基异丁基酮、环己酮、二异丁基酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸正戊基酯、硫酸甲酯、丙酸乙酯、苯二5甲酸二甲酯、安息香酸乙酯、及甲氧基丙基乙酸酯等酯类；甲苯、二甲苯、苯、乙基苯等芳香族烃类；四氯化碳、三氯乙烯、氯仿、1，1，4一三氯乙烷、二氯甲垸、单氯苯等卤化烃类；四氢呋喃、二乙基醚、乙二醇单甲基醚、乙二醇多单乙基醚、l一甲氧基一2—丙醇等醚类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基磺基氧化物、环丁砜等。这些可以单独使用一种，10也可以合用两种以上。另外，也可以添加公知的表面活性剂。其次，可以通过在支撑体上涂敷所述感光性树脂组合物溶液，将其干燥而形成感光层，制造图案形成材料。作为所述感光性树脂组合物溶液的涂敷方法，不特别限制，可以根据目的适当选择，但例如，可以举出溅涂法、辊涂法、旋涂法、狭缝涂敷法、15挤压涂敷法、帘涂法、模涂法、凹版涂敷法、拉丝锭涂敷法、刮涂法等各种涂敷方法。作为所述干燥条件，根据各成分、溶液的种类、使用比例等而不同，但通常是在6011(TC的温度下30秒钟15分钟。《支撑体》20作为所述支撑体，不特别限制，可以根据目的适当选择，但优选不能剥离所述感光层，且透过性良好的支撑体，更优选进而表面平滑性良好的支撑体。所述支撑体优选是合成树脂制造，且透明，例如，可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、三乙酸纤维素、二乙25酸纤维素、聚(甲基)丙烯酸垸基酯、聚(甲基)丙烯酸酯共聚物、玻璃纸、聚偏二氯乙烯、共聚物、聚三氟乙烯、纤维素系薄膜、尼龙薄膜等各种塑料薄膜，其中，特别优选聚对苯二甲酸乙二醇酯。这些可以单独使用一种，也可以合用两种以上。作为所述支撑体的厚度，不特别限制，可以根据目的适当选择，但例30如，优选215(Him，更优选5100iim，特别优选850pm。作为所述支撑体的形状，不特别限制，可以根据目的适当选择，但优选长条状。作为所述长条状支撑体的长度，不特别限制，例如，可以举出10m20000m的长度。<<保护薄膜>>5所述图案形成材料也可以在所述感光层上形成保护薄膜。作为所述保护薄膜，例如，可以举出在所述支撑体上使用的薄膜、纸、聚乙烯、聚丙烯层叠的纸等，其中，优选聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜。作为所述保护薄膜的厚度，不特别限制，可以根据目的适当选择，但例如，优选5100nm，更优选850pm，特别优选1030nm。io在使用所述保护薄膜的情况下，优选所述感光层及所述支撑体的粘接力A、和所述感光层及保护薄膜的粘接力B满足粘接力八>粘接力B的关系。作为所述支撑体和保护薄膜的组合(支撑体/保护薄膜)，例如，可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯/聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯/聚对苯二甲15酸乙二醇酯/聚乙烯、聚偏二氯乙烯/玻璃纸、聚酰亚胺/聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯/聚对苯二甲酸乙二醇酯等。另外，通过表面处理支撑体及保护薄膜至少任一个，能够满足上述粘接力的关系。所述支撑体的表面处理可以为了提高所述感光层和粘接力而实施，例如，底涂层的涂设、电晕放电处理、火焰处理、紫外线照射处理、高频照射处理、辉光放电照射处理、20活性等离子照射处理、激光照射处理等。另外，作为所述支撑体和所述保护薄膜的静摩擦系数，优选0.3L4，更优选0.51.2。若所述静摩擦系数小于0.3，则过度滑溜，有时在巻绕成辊状的情况下容易发生巻绕偏移，若大于1.4，则有时难以巻绕成良好的辊状。25所述图案形成材料优选例如巻取圆筒状的巻芯，巻绕成长条状且辊状而保管。作为所述长条状的图案形成材料的长度，不特别限制，例如，可以从10m20，OOOm的范围适当选择。另外，也可以进行间隙加工以便用户容易使用，将100m1，OOO范围的长条状形成为辊状。还有，在这种情况下，优选巻绕时所述支撑体位于最外侧。另外，也可以就爱你过所30述辊状图案形成材料切成片状。从在保管时，防止端面的保护、熔边的观点出发，优选在端面设置分隔片(特别是防湿性、含有干燥剂的)，另外优选包装也优选透湿性低的原材料。所述保护薄膜也可以为了调节所述保护薄膜和所述感光层的粘接性而进行表面处理。所述表面处理中，例如在所述保护薄膜的表面形成由有5机硅氧烷、氟化聚烯烃、聚氟乙烯、聚乙烯醇等聚合物构成的底涂层。该底涂层的形成中，在所述保护薄膜的表面涂敷所述聚合物的涂敷液之后，在30150°C(特别是50120°C)下干燥130分钟而形成底涂层。另夕卜，除了所述感光层、所述支撑体、所述保护保护薄膜之外，也可以具有剥离层、粘接层、光吸收层、表面保护层等层。io被处理基体>>作为所述被处理基体(以下，称为"基体")，不特别限制，可以从公知的材料中适当选择表面平滑性高的被处理基体中具有凹凸的表面的被处理基体，但优选板状基体(基板)，具体来说，可以举出公知的印刷电路板形成用基板(例如，铜箔层叠板)、玻璃板(例如，钠玻璃板等)、合15成树脂性薄膜、纸、金属板等。所述基体可以使用按照该基体上的所述图案形成材料中的感光层重叠的方式层叠而形成的层叠体。即，能够通过对所述层叠体中的图案形成材料的所述感光层进行曝光，使曝光的区域固化，利用后述的显影工序形成图案。20所述图案形成材料可以广泛使用印刷电路板、滤色片或柱材、肋材、间隔物、隔壁等显示器用部件、全息照相、显微机械、校验器(proof)等图案形成用，可以特别适用于本发明的图案形成方法中。[其他工序]作为所述其他工序，不特别限制，可以从公知的图案形成中的工序中25适当选择，但例如，可以举出显影工序、蚀刻工序、镀敷工序等。这可以单独使用一种，也可以合用两种以上。所述显影工序是利用所述曝光工序将所述感光层进行曝光，使该感光层的曝光的区域固化后，除去未固化区域而进行显影，从而形成图案的工序。30作为所述未固化区域的除去方法，不特别限制，可以根据目的适当选择，但例如具体使用显影液除去的方法等。作为所述显影液，不特别限制，可以根据目的适当选择，但例如可以举出碱性水溶液、水系显影液、有机溶剂等，其中，优选弱碱性水溶液。作为该弱碱性水溶液的碱成分，例如，可以举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳5酸锂、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钠、碳酸氢钾、磷酸钠、磷酸钾、焦磷酸钠、焦磷酸钾、硼砂等。作为所述弱碱性水溶液的pH,例如优选约812，更优选约911。作为所述弱碱性水溶液，例如，可以举出0.15质量％的碳酸钠水溶液或碳酸钾水溶液等。10作为所述显影液的温度，可以根据所述感光层的显影性，适当选择，但例如优选约25。C4(TC。所述显影液可以与表面活性剂、消泡剂、有机碱(例如，乙二胺、乙醇胺、四甲基铵氢氧化物、二亚乙基三胺、三亚乙基五胺、吗啉、三乙醇胺等)或、用于促进显影的有机溶剂(例如，醇类、酮类、酯类、醚类、15酰胺类、内酯类等)。另外，所述显影液可以为混合了水或碱水溶液和有机溶剂的水系显影液，也可以为单独的有机溶剂。作为所述蚀刻工序，可以利用从公知的蚀刻处理方法中适当选择的方法进行。作为使用于所述蚀刻处理的蚀刻液，不特别限制，可以根据目的适当20选择，但例如，在用铜形成所述金属层的情况下，可以举出氯化铜溶液、氯化铁溶液、碱蚀刻溶液、过氧化氢系蚀刻液等，其中，从蚀刻因素方面来说，优选氯化铁。通过利用所述蚀刻工序进行蚀刻处理后除去所述图案，能够在所述基体的表面形成永久图案。25所述永久图案不特别限制，可以根据目的适当选择，但例如可以举出配线图案等。作为所述镀敷工序，可以利用从公知的镀敷处理中适当选择的方法进行。作为所述镀敷处理，例如，可以举出硫酸铜镀敷、焦磷酸铜镀敷等铜30镀敷、高流动性焊锡镀敷等焊锡镀敷、功率浴(硫酸镍一氯化镍)镀敷、氨基磺酸镍等镍镀敷、硬金镀敷、软金镀敷等金镀敷等处理。通过利用所述镀敷工序进行镀敷处理后除去所述图案，另外根据需要在蚀刻处理等中除去不需要部分，能够在所述基体的表面形成永久图案。在本发明的图案形成方法中，通过减少在所述图案形成材料的被曝光5面上形成的所述图案的析像度的不均或浓度的不均，抑制成像的像的歪斜，能够高精细且有效地形成图案，因此，能够适合使用于需要高精细曝光的各种图案的形成等中，尤其能够适合使用于高精细的配线图案的形成。[印刷电路板的制造方法]10本发明的图案形成方法中，可以适合使用于印刷电路板的制造、尤其具有通孔或贯通孔等孔部的印刷电路板的制造中。以下，对利用了本发明的图案形成方法的印刷电路板的制造方法进行说明。尤其，作为具有通孔或贯通孔等孔部的印刷电路板的制造方法，(1)在作为所述基体的具有孔部的印刷电路板形成用基板上以所述图案形成15材料的感光层位于所述基体侧的位置关系层叠所述图案形成材料，(2)从所述层叠体的与所述基体相反的一侧向配线图案形成区域及孔部形成区域进行光照射使感光层固化，(3)从所述层叠体除去所述图案形成材料中的支撑体，(4)将所述层叠体中的感光层显影，除去该层叠体中的未固化部分，由此，能够形成图案。20还有，所述(3)中的所述支撑体的除去也可以代替所述(2)和所述(4)之间而在所述(1)和所述(2)之间进行。然后，为了得到印刷电路板，使用所述形成的图案，对所述印刷电路板形成用基板利用蚀刻处理或镀敷处理的方法(例如，公知的减法或加法(例如，半加法、全加法))进行处理即可。其中，为了以工业上有利的25目的形成印刷电路板，优选所述减法。在所述处理后剥离在印刷电路板形成用基板上残留的固化树脂，另外，在所述半加法的情况下，剥离后进行蚀刻铜薄膜部，由此能够制造希望的印刷电路板。另外，也可以与所述印刷电路板的制造法相同地制造多层印刷电路板。其次，对使用了所述图案形成材料的具有贯通孔的印刷电路板的制造30方法进行详细的说明。首先，准备具有贯通孔，且表面由金属镀敷覆盖的印刷电路板形成用基板。作为所述印刷电路板形成用基板，例如，可以使用铜箔层叠基板及剥离一环氧等绝缘基材上形成了铜镀敷层的基板、或在这些基板上层叠层间绝缘膜，形成了铜镀敷层的基板(层叠基板)。5其次，在所述图案形成材料上具有保护薄膜的情况下，剥离该保护薄膜，使所述图案形成材料中的感光层与所述印刷电路板形成用基板的表面接触，并使用加压辊进行挤压(层叠工序)。由此，得到依次具有所述印刷电路板形成用基板和所述层叠体的层叠体。作为所述图案形成材料的层叠温度，不特别限制，例如，可以举出室io温(1530°C)、或加热下G018(TC)，其中，也优选加温下(60140。C)。作为所述挤压辊的辊压力，不特别限制，例如，优选0.1lMPa。作为所述挤压的速度，没有特别限制，优选l3m/分钟。另夕卜，可以预先加热所述印刷电路板形成用基板，也可以减压下层叠。15所述层叠体的形成方法，除了在所述印刷电路板形成用基板上层叠所述图案形成材料中的所述感光层而形成的方法之外，也可以是将用于制造所述图案形成材料的感光层的感光性树脂组合物溶液直接涂敷于所述印刷电路板形成用基板的表面，将其干燥而形成的方法。其次，从所述层叠体的与基体相反的一侧的面照射光使感光层固化。20还有，此时，根据需要(例如，支撑体的光透过性不充分的情况等)剥离支撑体后进行曝光也可。在该时点下，在还未剥离所述支撑体的情况下，从所述层叠体剥离该支撑体(支撑体剥离工序)。其次，用适当的显影液溶解除去所述印刷电路板形成用基板上的感光25层的未固化区域，形成配线图案形成用固化层和贯通孔的金属层保护用固化层的图案，在所述印刷电路板形成用基板的表面使金属层露出(显影工序)。另外，显影后，可以根据需要，进行加热处理或后曝光处理，由此，进行进而促进固化部的固化反应的处理也可。显影可以使上述的湿式显影30法，也可以为干式显影法。其次，用蚀刻液溶解除去在所述印刷电路板形成用基板的表面露出的金属层(蚀刻工序)。贯通孔的开口部由固化树脂组合物(遮盖膜)覆盖，因此，蚀刻液不会进入贯通孔内，腐蚀贯通孔内的金属镀敷，贯通孔的金属镀敷以规定的形状残留。由此，在所述印刷电路板形成用基板上形成图5案。作为所述蚀刻液，不特别限制，可以根据目的适当选择，但例如，在用铜形成所述金属层的情况下，可以举出氯化铜溶液、氯化铁溶液、碱蚀刻溶液、过氧化氢系蚀刻液等，其中，从蚀刻因素的观点来说，优选氯化铁溶液。10其次，用强碱水溶液等，从所述印刷电路板形成用基板除去所述固化层作为剥离片(固化物除去工序)。作为所述强碱水溶液中的碱成分，不特别限定，例如，可以举出氢氧化钠、氢氧化钾等。作为所述强碱水溶液的pH，例如，优选约1214，更优选约1314。15作为所述强碱水溶液，不特别限制，例如可以举出110质量％的氢氧化钠水溶液或氢氧化钾水溶液等。另外，印刷电路板也可以是多层结构的印刷电路板。还有，所述图案形成材料不仅可以使用于上述蚀刻工序，也可以使用于镀敷工序中。作为所述镀敷方法，例如，可以举出硫酸铜镀敷、焦磷酸20铜镀敷等铜镀敷、高流动性焊锡镀敷等焊锡镀敷、功率浴(硫酸镍一氯化镍)镀敷、氨基磺酸镍等镍镀敷、硬金镀敷、软金镀敷等金镀敷等处理等。实施例以下，通过实施例更详细说明本发明。本发明不限于这些。(实施例1)25—图案形成材料的制造一在作为所述支撑体的20nm厚的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜上涂敷由下述组成构成的感光性树脂组合物溶液将其干燥，形成15pm厚的感光层，制造了所述图案形成材料。[感光性树脂组合物溶液的组成]30*(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物(共聚物组成(质:比):成物29/19/52、质均分子量60，000、酸值189)11.8质量份由下述结构式(70)表示的聚合性单体5.6质量份六亚甲基二异氰酸酯和五环氧乙垸单甲基丙烯酸酯的1/2摩尔比加5.0质量份0.56质量份0.11质量份4，4'，5，5'—四苯基联二咪唑2.17质量份0.23质量份0.02质量份无色水晶紫(口一〕夕U7夕/W、V才l/、;/卜)0.26质量份丁酮(methylethylketone)40质量伤、l一甲氧基一2—丙醇20质量份十二丙二醇二丙烯酸酯N—甲基吖啶酮2，2—双(邻氯苯基)2—巯基苯并咪唑孔雀石绿草酸盐15[化44]结构式(70)20其中，在结构式(70)中，m+n表示10，结构式(70)是由所述结构式(35)表示的化合物的一例。在所述图案形成材料的感光层上层叠20pm后的聚乙烯薄膜作为所述保护薄膜。其次，作为所述基体，调制如下所述的层叠体，即在将表面研磨、25水洗、干燥的铜箔层叠板(无贯通孔，铜厚度12pm)的表面上，剥离所述图案形成材料的保护薄膜的同时，使该图案形成材料的感光层与所述铜箔层叠板接触，丙使用层压机(MODEL8B—720—PH、大成层压机(株式会社)制造)进行挤压，依次层叠所述铜箔层叠板、所述感光层、和所述聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(支撑体)。30挤压条件是挤压辊温度15(TC、挤压辊压力0.3MPa、层叠速度lm/分钟。对所述调制的层叠体中的图案形成材料的感光层使用曝光装置进行曝光，通过以下的方法评价析像度、及蚀刻性。结果如表1所示。还有，曝光中使所述感光层的被曝光面上成像的大致矩形状的曝光区5域如下所述，即使该曝光区域的短边方向和所述感光层的弯曲方向所成的角小于该曝光区域和所述感光层的弯曲方向所成的角。<析像度>(1)最短显影时间的测定方法从所述层叠体剥离所述支撑体，以0.15MPa的压力溅涂30'C的1质10量％碳酸钠水溶液在铜箔层叠板上的所述感光层的整个面上，测定从溅涂碳酸钠水溶液开始到溶解除去铜箔层叠板上的感光层为止所需的时间，将其作为最短显影时间。其结果，所述最短显影时间是10秒。(2)感度的测定15对所述调制的层叠体中的图案形成材料的感光层，从所述支撑体侧开始使用以下说明的曝光装置照射从0.1mJ/cm2以21/2倍间隔到100mJ/cm2为止的光能量不同的光，使所述感光层的一部分的区域固化。在室温下静置10分钟后，从所述层叠体剥离所述支撑体，在铜箔层叠板上的感光层的整个面上以溅涂压力0.15MPa溅涂30。C的1质量°/。碳酸钠水溶液最短显20影时间的2倍的时间，溶解除去未固化的区域，测定残留的固化区域的厚度。其次，得到光的照射量和固化层的厚度的关系图化而得到感度曲线。将由该感度曲线得出的固化区域的厚度成为与曝光前的感光层相同的15pm时的光能量作为固化感光层所需的光能量。其结果，为了固化所述感光层所需的光能量是3.5mJ/cm2。25曝光装置》使用了图1中表示了外观的曝光装置10。该曝光装置的曝光头的结构如图7所示，具体来说，该曝光装置具备曝光头，该曝光装置具备作为光照射机构，是如图46所示的合波机激光器光源；作为所述光调制机构是如图10中表示了示意图的DMD，如图11所示，沿主扫描方向排列30有1024个微反射镜的微反射镜列沿副扫描方向排列有756组，其中，该DMD只驱动控制1024个X240列；成像光学系，由图8A及B所示的投影透镜及图9所示的镜筒构成；楔型棱镜组，其如图1213所示。使如图9所示的镜筒400旋转，测量在感光层的被曝光面上投影的二维图案的焦点、画质等曝光性能，同时以显示最良好的曝光性能的旋转位5置固定所述镜筒的凸缘410和托架420，固定投影透镜的朝向。进而，结束l个帧的曝光，使载物台沿扫描方向移动，由此时感光层(层叠体)移动，则曝光区域内的感光层的弯曲程度变化，因此，通过楔型棱镜组54进行焦点调节。(3)析像度的测定io以与所述(O的最短显影时间的评价方法相同的方法及条件制造所述层叠体，在室温(23°C、55%RH)下静置IO分钟。从得到的层叠体的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(支撑体)上使用所述曝光装置以线/空间=1/1按lpm刻度进行线宽度10pm5(^m为止的各线宽度的曝光。此时的曝光量是所述(2)测定的用于使所述图案形成材料的感光层固化所需的光15能量。在室温下静置10分钟后，从所述层叠体剥离聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(支撑体)。在铜箔层叠板上的感光层的整个面上以溅涂压力0.15MPa溅涂30。C的1质量％碳酸钠水溶液所述(1)中求出的最短显影显影时间的2倍的时间，溶解除去未固化区域。用光学显微反射镜观察这样得到的带有固化树脂图案的铜箔层叠板的表面，测定固化树脂图案的线20上没有堵塞、聚集等异常情况，且能够形成空间的最小的线宽度，将其作为析像度。该析像度的数值越小越好。<蚀刻性>使用具有在所述析像度的测定中形成的图案的所述层叠体，在层叠体中的露出的铜箔层叠板的表面以0.25MPa溅涂36秒的氯化铁蚀刻剂(含25氯化亚铁蚀刻溶液、40°波美、液温40。C)，溶解除去没有被固化层覆盖的露出的区域的铜层，由此，进行蚀刻处理。其次，通过溅涂2质量％的氢氧化钠水溶液，除去所述形成的图案，制造了在表面具备铜层的配线图案作为所述永久图案的印刷电路板。用光学显微反射镜观察该印刷电路基板上的配线图案，侧该配线图案的最小线宽度。该最小线宽度越小，越能30够得到高精细的配线图案，从而表示蚀刻性优越。结果如表l所示。(实施例2)将在实施例1中的曝光装置代替为下述说明的装置以外，与实施例1相同地形成图案，评价析像度、及蚀刻性。结果如表l所示。<<曝光装置>>5代替在实施例1中使用的曝光装置中的楔型棱镜组，使用了如图15图16所示的具备由压电元件及微透镜阵列的组合构成的焦点调节机构的曝光装置。通过所述压电元件，抑制向与微透镜阵列的焦点方向垂直的方向的位移，同时进行向焦点方向的微小移动，从而进行焦点的调节。(实施例3)10代替实施例1中感光性树脂组合物溶液的六亚甲基二异氰酸酯和五环氧乙垸单甲基丙烯酸酯的1/2摩尔比加成物代替为下述结构式(71)表示的化合物，除此之外，与实施例l相同地调制图案形成材料、及层叠体，形成图案，评价了析像度、及蚀刻性。结果如表1所示。还有，最短显影时间是10秒，固化所述感光层所需的光能量是153.5mJ/cm2。另外，所述结构式(71)表示的化合物是所述结构式(24)表示的化合物的一例。[化45](CH2)6-NHCOO(CH2CH20)8-CO2。70—一""""^N乂NCO(OCH2CH2)80COHN-(CH2XK、(CH2)6-NHCOO(CH2CH20)8-COO结构式(71)(实施例4)25代替实施例1中感光性树脂组合物溶液的六亚甲基二异氰酸酯和五环氧乙烷单甲基丙烯酸酯的1/2摩尔比加成物代替为下述结构式(72)表示的化合物，除此之外，与实施例1相同地调制图案形成材料、及层叠体，形成图案，评价了析像度、及蚀刻性。结果如表1所示。还有，最短显影时间是10秒，固化所述感光层所需的光能量是303.5mJ/cm2。另外，所述结构式(72)表示的化合物是所述结构式(22)表示的化合物的一例。[化46]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage76</formula>结构式(72)(实施例5)io将实施例1中甲基丙烯酸/甲基甲基丙烯酸酯/苯乙烯共聚物(共聚物组成(质量比)29/19/52、质均分子量60，000、酸值189)代替为甲基甲基丙烯酸酯/苯乙烯/苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚物(共聚物组成(质量比)8/30/37/25、质均分子量60，000、酸值163)，除此之外，与实施例l相同地调制图案形成材料、及层叠体，形成图案，评价了析像15度、及蚀刻性。结果如表l所示。还有，最短显影时间是10秒，固化所述感光层所需的光能量是4mJ/cm2。(比较例1)实施例1中，使用不具备作为焦点调节机构的楔型棱镜组的机构(或20不使其运行)的曝光头之外，与实施例l相同地调制图案形成材料、及层叠体，形成图案，评价了析像度、及蚀刻性。结果如表l所示。还有，固化感光层所需的光能量是3.5mJ/cm2。(比较例2)在实施例1的曝光装置中，在所述投影透镜的整个面进行基于投影透25镜的成像之外，与实施例l相同地调制图案形成材料、及层叠体，形成图案，评价了析像度、及蚀刻性。结果如表l所示。还有，固化感光层所需的光能量是3.5mJ/cm2。(比较例3)在实施例1中，不调节在所述感光层的被曝光面上成像的大致矩形状30的曝光区域的朝向而迸行曝光之外，与实施例l相同地调制图案形成材料、及层叠体，形成图案，评价了析像度、及蚀刻性。结果如表1所示。还有，固化感光层所需的光能量是3.5mJ/cm2。[表l]<table>tableseeoriginaldocumentpage77</column></row><table>5从表1的结果可知，与比较例13的配线图案相比，实施例15的配线图案是高精细且蚀刻性优越。另外，采用使用在周边区域具有透镜歪斜，减少包括中央部的区域的透镜歪斜的投影透镜，且具备使该投影透镜能够旋转的镜筒的曝光头，由此能够实现低成本且高精细的曝光，另外，通过具备楔型棱镜组，能够简单且在短时间内调节焦点距离，能够进行效io率良好的曝光。工业上的可利用性本发明的图案形成方法通过在不导致装置的成本增加或曝光速度的降低的情况下提高曝光性能，能够高精细且效率良好地形成配线图案等永久图案，因此，能够适合使用于需要高精细的曝光的各种图案的形成等，15尤其能够适合使用于高精细的配线图案的形成。权利要求1.一种图案形成方法，其特征在于，将在支撑体上具有感光层的图案形成材料中的该感光层层叠在被处理基体上，然后至少包括对该感光层进行的如下所述的步骤，即利用接受来自光照射机构的光且基于图案信息进行调制的光调制机构，将来自所述光照射机构的光进行调制，将利用所述光调制机构调制的光经由成像机构和焦点调节机构成像于所述感光层的被曝光面上，从而进行曝光，所述曝光中，利用所述光调制机构调制的光仅成像于包括所述成像机构的中央部的大致矩形状的区域，成像于所述感光层的被曝光面上的大致矩形状的曝光区域的朝向如下所述，即该曝光区域的短边方向和所述感光层的弯曲方向所成的角小于该曝光区域的长边方向和所述感光层的弯曲方向所成角。2.根据权利要求l所述的图案形成方法，其中，成像机构将利用光调制机构调制的光成像于长边的长度为短边的长度的两倍以上的大致矩形状的区域。3.根据权利要求1或2所述的图案形成方法，其中，焦点调节机构具有按照利用光调制机构调制的光的光轴方向的厚度变化的方式形成的楔型棱镜组，通过使构成所述楔型棱镜组的各楔型棱镜移动，调节在将利用所述光调制机构调制的光成像于感光层的被曝光面上时的焦点。4.根据权利要求1或2所述的图案形成方法，其中，焦点调节机构具有构成成像光学系的光学构件、和压电元件，利用所述压电元件使所述光学构件移动，由此调节在将利用所述光调制机构调制的光成像于感光层的被曝光面上时的焦点。5.根据权利要求14中任一项所述的图案形成方法，其中，成像机构由相对于光调制机构调制的光的光轴能够以所述光轴为中心旋转的透镜、和能够沿相对于所述光轴的垂直方向移动的透镜的任一个构成。6.根据权利要求15中任一项所述的图案形成方法，其中，光调制机构是空间光调制元件。7.根据权利要求16中任一项所述的图案形成方法，其中，5光照射机构射出从半导体激光器元件发出的激光。8.根据权利要求7所述的图案形成方法，其中，光照射机构是将多条光纤捆扎的束状光纤光源，所述光纤从一端入射自半导体激光器元件发出的激光，并从另一端射出所入射的激光。9.根据权利要求7或8所述的图案形成方法，其中，io光照射机构可以合成两种以上的光来照射。10.根据权利要求79中任一项所述的图案形成方法，其中，光照射机构具有多个激光器；多模光纤；光源聚光光学系，其将从所述多个激光器分别照射的激光束进行平行光化而聚光，使该光会聚在所述多模光纤的入射端面。1511.根据权利要求110中任一项所述的图案形成方法，其中，在进行曝光后，进行感光层的显影。12.根据权利要求111中任一项所述的图案形成方法，其中，在进行显影后，形成永久图案。13.根据权利要求12所述的图案形成方法，其中，永久图案是配线图案，该永久图案的形成是通过蚀刻处理及镀敷处理中的至少一种来进行。14.根据权利要求113中任一项所述的图案形成方法，其中，感光层包含粘合剂、聚合性化合物、和光聚合引发剂。15.根据权利要求14所述的图案形成方法，其中，粘合剂具有酸性基。16.根据权利要求14或15所述的图案形成方法，其中，粘合剂是乙烯基共聚物。17.根据权利要求1416中任一项所述的图案形成方法，其中，粘合剂的酸值是70250mgKOH/g。18.根据权利要求1417中任一项所述的图案形成方法，其中，聚合性化合物包含具有尿烷基及芳基中的至少任一个的单体。19.根据权利要求1419中任一项所述的图案形成方法，其中，光聚合引发剂包含选自卤化烃衍生物、六芳基联二咪唑、后衍生物、有机过氧化物、硫代化合物、酮化合物、芳香族鑰盐及芳环烯金属衍生物5类的至少一种。20.根据权利要求119中任一项所述的图案形成方法，其中，感光层含有1090质量％的粘合剂，含有5卯质量％的聚合性化合物。21.根据权利要求120中任一项所述的图案形成方法，其中，10感光层的厚度是1100um。22.根据权利要求121中任一项所述的图案形成方法，其中，支撑体包含合成树脂，且透明。23.根据权利要求122中任一项所述的图案形成方法，其中，支撑体是长条状。24.根据权利要求123中任一项所述的图案形成方法，其中，图案形成材料是长条状，并巻绕成辊状而成。25.根据权利要求124中任一项所述的图案形成方法，其中，在图案形成材料中的感光层上形成保护薄膜。全文摘要本发明提供一种图案形成方法，其通过在不导致装置的成本增加或曝光速度的降低的情况下提高曝光性能，能够高精细且效率良好地形成配线图案等永久图案。因此，其特征在于，至少包括对感光层进行的如下的步骤，即利用接受来自光照射机构的光且基于图案信息进行调制的光调制机构，将来自光照射机构的光进行调制，将利用所述光调制机构调制的光经由成像机构和焦点调节机构成像于所述感光层的被曝光面上，从而进行曝光，所述曝光中，利用所述光调制机构调制的光仅成像于包括所述成像机构的中央部的大致矩形状的区域，并且所述大致矩形状的短边方向所述感光层的弯曲方向平行。文档编号G03F7/20GK101218546SQ200680024829公开日2008年7月9日申请日期2006年6月16日优先权日2005年7月7日发明者冈崎洋二,石川弘美,高岛正伸申请人:富士胶片株式会社