感光性树脂组合物和使用其的感光性部件，抗蚀剂图案的形成方法，印刷配线板的制造方...的制作方法

专利名称：：感光性树脂组合物和使用其的感光性部件，抗蚀剂图案的形成方法，印刷配线板的制造方...的制作方法
技术领域：
：本发明涉及感光性树脂组合物和使用其的感光性部件，抗蚀剂图案的形成方法，印刷配线板的制造方法和等离子显示面板用间隔壁的制造方法。技术背景印刷配线板的制造技术中，作为蚀刻、镀敷处理所使用的抗蚀剂材料，感光性树脂组合物，和将其层叠于支持体上以保护薄膜被覆后得到的感光性部件被广泛使用。制造印刷配线板时，首先，按照使感光性树脂组合物所成的层(以下称感光层)密合于铜基板等电路形成用基板来将感光性部件层叠(层压等)在该基板上，照射活性光线后使规定部分的感光性树脂组合物进行光固化(图案曝光)，再使感光性树脂组合物的未光固化部分去除(显像)后，形成抗蚀剂图案。最后，对形成抗蚀剂图案的电路形成用基板进行蚀刻或镀敷处理，形成图案之后，由基板上使感光性树脂组合物的光固化部分剥离去除的方法。另外，平面显示面板(FPD)领域中，等离子显示面板(PDP)与液晶面板相比，其可高速显示，较易大型化。由于具有此优点，因此，PDP被广泛用于OA机器、广告显示装置等。近来高品位的电视领域中也期待PDP的发展。伴随这种用途的扩大，具有微细、多个显示单元的彩色PDP极受瞩目。PDP中，其前面玻璃基板与背面玻璃基板相互平行且相向配置，两者之间保持一定间隔而设置有隔壁。PDP为，在^皮前面玻璃基板、背面玻璃基板和隔壁围绕的空间形成放电构造。于此空间附设有用于显示的电极、电介质层和荧光体等。从而，借助放电，由封入气体产生的紫外线使荧光体发光，该光线是观测者可观察到的。此时，为了使放电的扩散控制于一定区域，于规定单位内进行显示，同时为确保均匀的放电空间，间隔壁具有宽度为20~80pm，高度为60200fim的形状。作为形成间隔壁的方法，主要以喷砂清理法、网版印刷法、感光性焊锡法、光埋入法、塑模复印法等使用的。最近新提出了利用湿式蚀刻工艺的形成方法。制造间隔壁时，通常的方法为，例如在形成有电极的背面玻璃基板上形成间隔壁材料层，按照-使感光性部件的感光层密合于该间隔壁材料层来将感光性部件层叠(层压等)在该间隔壁材料层上，照射活性光线后，使规定部分的感光性树脂组合物进行光固化(图案曝光)，再使感光性树脂组合物未光固化的部分去除(显像)后，形成抗蚀剂图案。最后，以抗蚀剂图案做成掩膜，于间隔壁材料层进行蚀刻处理后，形成间隔壁图案后，将该抗蚀剂图案剥离去除。以往，主要使用水银灯作为对感光层进行图案曝光时的光源。但是，水银灯光含有对人体有害的紫外线，因此在作业上安全性存在问题。也有使用可见光激光作为光源的曝光法，但是，此方法中，需要对可见光具有敏感度的抗蚀剂，此抗蚀剂需要在暗室或红色灯下进行处理。考虑到上述问题点，提出了一种活性光线，其为使用过滤器，对水银灯光源发出的光中波长为365nm以下的光进行99.5%截止后得到的活性光线。另外，还提出了一种发出波长为405nm的光，寿命长、高输出功率的氮化镓系蓝色激光光源。另一方面，作为新曝光技术，近年来提出了一种DLP(DigitalLightProcessing)的直接描绘法(例如参照非专利文献2)。该曝光法中，作为光源，99.5%截止得到的活性光源、蓝色激光光源。非专利文献1:电子学封装技术2002年6月号P.74-79
发明内容发明要解决的问题但是，以往的感光性部件是按照是其对于以波长365nm的光为中心的水银灯光源全波长发挥最适的感光特性来设计的。因此，希望使用于350nm以上且小于440nm的波长范围内具波峰的光来进行图案曝光时，对于于该350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光，感光性部件的敏感度较低。因此，形成抗蚀剂图案时，其生产能力降低，无法获得充分的析像度，和良好的抗蚀剂形状。本发明目的是提供一种可以利用在350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光以充分的敏感度和析像度来形成抗蚀剂图案的感光性树脂组合物，以及使用其的感光性部件、抗蚀剂图案的形成方法、印刷配线板的制造方法和等离子显示面板用间隔壁的制造方法。解决问题的手段本发明人等发现，利用含有特定量的特定成分的感光性树脂组合物，可以解决上述课题，进而完成本发明。本发明的感光性树脂组合物含有(A)粘合剂聚合物、(B)具有能够聚合的乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、(C)含有2,4，5-三芳基咪唑二聚物或其衍生物的光自由基聚合引发剂和(D)以下迷通式(1)表示的化合物。(1)式(l)中，R'和RS分別独立表示碳原子数120的烷基、碳原子数512的环烷基、苯基、爷基、碳原子数212的烷酰基或苯甲酰基。R3、R4、R5、R6、R7、R8、W和R10(以"R3R1()，，表示。以下相同。)分别独立表示氢原子，碳原子数.112的烷基、卣原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数26的烷氧羰基或苯甲酰基。所述碳原子数1~20的烷基在烷基的碳原子数为2~12时，主链碳原子间可具有氧原子，也可被羟基取代。所述碳原子数5~12的环烷基，环之中可具有氧原子，也可被羟基取代。所述R/和RS中的所述苯基可被选自碳原子数16的烷基、羟基、卤原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数16的烷氧基、苯氧基和碳原子数26的烷氧羰基组成的组中的l种以上的基团和/或原子取代。所述千基可被选自碳原子数16的烷基、羟基、卤原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数1~6的烷氧基、苯氧基和碳原子数26的烷氧羰基组成的组中的1种以上的基团和/或原子取代。所述苯甲酰基可被选自碳原子数16的烷基、羟基、卣原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数16的烷氧基、苯氧基和碳原子数26的烷氧羰基所成的1种以上的基团和/或原子取代。光性树脂组合物所成的感光层的部件。以往的感光性部件系对于在390nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光，具有低敏感度和低析像度。其主要原因是以往的感光性部件，对于上述波长范围的感光性部件的光学密度小，即，不能充分吸收上述波长范围的光，导致难以引发感光性部件中的(B)光聚合性化合物的聚合。本发明的感光性树脂组合物其特征之一为，以特定量含有(D)通式(1)所示化合物。并且，本发明的感光性部件是使用含有特定量的(D)通式(1)所示化合物的感光层所构成的。感光性部件所包含的(D)通式(1)所示化合物具有对于波长390nm以上且小于440nm的光有很大的吸光的特性。因此，使用390nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光作为曝光光线时，可获得充分的敏感度、析像度和良好的抗蚀剂形状。另外，感光性部件所包含的(D)通式(1)所示化合物对于波长350nm以上且小于390nm的光也具有极大吸光特性。因此，使用以波长365nm的光为中心的水#_灯光源的全波长的光作为曝光光线时，也可获得充分的敏感度、析像度、和良好的抗蚀剂形状。上述感光性树脂组合物的(D)通式(1)所示化合物也可以是，R'和R2为碳原子数14的烷基、RLR"为氢原子。另外，上述感光性树脂组合物，可有效用于曝光于350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光进行曝光后，形成抗蚀剂图案。本发明抗蚀剂图案的形成方法具备基板上形成由感光性树脂组合物所成的感光层的感光层形成工序；使感光层的规定部分于350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光进行曝光的曝光工序；以及使曝光的感光层显像，形成抗蚀剂图案的显像工序。另外，本发明抗蚀剂图案的形成方法具备于基板上层叠感光性部件的感光层的感光层形成工序；使感光层的规定部分于350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光进行曝光的曝光工序；以及使曝光的感光层显像，形成抗蚀剂图案的显像工序。本发明的印刷配线板的制造方法具备于基板上形成由感光性树脂组合物所成的感光层的感光层形成工序；使感光层的规定部分于350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光进行曝光的曝光工序；-使曝光的上述感光层显像，形成抗蚀剂图案的显像工序；以及以抗蚀剂图案为基准，于基板上形成导体图案的导体图案形成工序。另外，本发明印刷配线板的制造方法具备于基板上层叠感光性部件的感光层的感光层形成工序；使感光层的规定部分于350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光进行曝光的曝光工序；使曝光的上述感光层显像，形成抗蚀剂图案的显像工序；以及以抗蚀剂图案为基准，于基板上形成导体图案的导体图案形成工序。本发明等离子显示面板用间隔壁的制造方法具备于基板上形成由感光性树脂组合物所成的感光层的感光层形成工序；使感光层的规定部分于350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光进行曝光的曝光工序；使曝光的感光层显像，形成抗蚀剂图案的显像工序；以及以抗蚀剂图案为基准，使基板经由蚀刻形成间隔壁图案的间隔壁图案形成工序。本发明等离子显示面板用间隔壁的制造方法具备于基板上层叠感光性部件的感光层的感光层形成工序；使感光层的规定部分于350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光进行曝光的曝光工序；使曝光的感光层显像，形成抗蚀剂图案的显像工序；以及以抗蚀剂图案为基准，使基板经由蚀刻后，形成间隔壁图案的间隔壁图案形成工序。发明效果本发明提供一种利用在350nm以上小于440nm的波长范围内具有波峰的光以充分敏感度和析像度形成抗蚀剂图案的感光性树脂组合物，以及使用其的感光性部件、抗蚀剂图案的形成方法、印刷配线板的制造方法和等离子显示面板用间隔壁的制造方法。[图l]代表本发明感光性部件的一个实施方式的模式截面图。符号说明1:感光性部件10:.支持膜14:感光层具体实施方式以下，针对本发明的适宜的实施方式进行详细说明。但是，本发明并不限于以下的实施方式。本发明的感光性树脂组合物含有(A)粘合剂聚合物(以下称"(A)成分")、(B)具有能够聚合的乙烯性不饱和键的光聚合性化合物(以下称"(B)成分，，)、(C)光自由基聚合引发剂(以下称"(C)成分，，)、(D)上述通式(1)所示的化合物(以下称"(D)成分")。以下针对(A)~(D)成分进行详细说明。本发明的(A)成分只要是能够与后述的光聚合性化合物同时光固化的聚合物即可，没有特别限定。作为(A)成分，例如可以列举含有以(曱基)丙烯酸和(曱基)丙烯酸烷酯为构成单元的丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂、环氧系树脂、酰胺系树脂、酰胺环氧系树脂、醇酸系树脂、苯酚系树脂等有机高分子。这些中，(A)成分优选为聚合(自由基聚合等)具有乙烯性不饱和双键的单体(聚合性单体)得到的聚合物，由提高显像性和剥离性的观点考虑，更优选含有(曱基)丙烯酸和(曱基)丙烯酸烷酯作为构成单元的丙烯酸系树脂。作为具有这种乙烯性不饱和双键的单体，可以列举例如苯乙烯；乙烯基曱苯、a-曱基苯乙歸、对曱基苯乙烯、对乙基苯乙烯、对曱氧基苯乙烯、对乙氧基苯乙烯、对氯苯乙烯、对溴苯乙烯等能够聚合的苯乙烯衍生物；二丙酮丙烯酰胺等丙烯酰胺；丙烯腈；乙烯基正丁醚等乙烯醇的酯类；(曱基)丙烯酸烷酯、(曱基)丙烯酸四糠酯、(曱基)丙烯酸二曱氨基乙酯、(曱基)丙烯酸二乙氨基乙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、2，2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2,2，3，3-四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、a-溴(甲基)丙烯酸、cc-氯(曱基)丙烯酸、P-呋喃基(曱基)丙烯酸；P-苯乙烯基(甲基)丙烯酸等(甲基)丙烯酸系单体；马来酸、马来酸酐、马来酸单曱酯、马来酸单乙酯、马来酸单异丙酯等马来酸系单体；富马酸、桂皮酸、a-氰基桂皮酸、衣康酸、巴豆酸、丙炔酸等；其中，优选(曱基)丙烯酸烷酯、苯乙烯或苯乙烯衍生物。另外，本发明的(曱基)丙烯酸是指丙烯酸或其对应的甲基丙烯酸，(曱基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯或其对应的甲基丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰基是指丙晞酰基或其对应的曱基丙烯酰基。作为上述(曱基)丙烯酸烷酯，可以列举例如下述通式(2)所示的化合物和这些化合物的烷基被羟基、环氧基、卣原子等取代的化合物等。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage11</formula>式(2)中，R"代表氢原子或曱基，R"代表碳原子数l126勺烷基。另外，作为上述通式(2)中的R。所示的碳原子数112的烷基，可以列举例如曱基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基和这些的构型异构体等。作为上述通式(2)所示的化合物，可以列举例如(曱基)丙烯酸曱酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(曱基)丙烯酸丁酯、(曱基)丙烯酸戊酯、(曱基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(曱基)丙烯酸辛酯、(曱基)丙烯酸2-乙基己基酯等。这些可单独或组合2种以上使用。作为上述(A)成分的粘合剂聚合物，由碱显像性的观点而言，优选由1种或2种以上具有羧基的聚合物所成。这种(A)粘合剂聚合物可以通过例如以感光性树脂组合物为构成材料的感光层对于电路形成用基板的密合和剥离特性均为良好的观点而言，作为上述(A)成分的粘合剂聚合物优选含有苯乙烯或苯乙烯衍生物为聚合性单体。含有上述苯乙烯或苯乙烯衍生物为共聚成分时，(A)成分中的苯乙烯或苯乙烯衍生物的含量以分子总质量为基准时优选为330质量％，更优选428质量％，特别优选527质量％。此含量小于3质量％时则有密合性差的倾向，反之，超出30质量％则剥离片变大，剥离时间有变长的倾向。另外，本发明的"苯乙烯衍生物"是指苯乙烯的氢原子^皮取代基(烷基有机基团、卣原子等)所取代的物质。作为上述(A)成分的粘合剂聚合物可单独或组合2种以上使用。作为组合2种以上使用时的粘合剂聚合物，可以列举例如由不同共聚成分所成的2种以上的粘合剂聚合物，不同重均分子量的2种以上的粘合剂聚合物，不同分散度的2种以上的粘合剂聚合物等。另外，也可使用特开平11-327137号公报所记载的具有多模式分子量分布的聚合物。上述(A)成分的粘合剂聚合物重均分子量(Mw)和数平均分子量(Mn)可通过凝胶渗透色谱法(GPC)测定(使用标准聚苯乙烯的标准曲线换算)。通过此测定方法时，粘合剂聚合物的Mw优选为5000300000，更优选为20000-150000，特別优选为2500060000。Mw小于5000则有耐显像液性降低的倾向，反之，超出300000则有显像时间加长的倾向。上述(A)成分的粘合剂聚合物的分散度(Mw/Mn)优选为1.0~3.0，更优选为1.0~2.0。分散度若超出3.0，则有密合性和析像度降低的倾向。(A)成分的含量，相对于(A)成分和(B)成分的合计量IOO质量份，优选为2080质量份，更优选为3070质量份。当此含量小于20质量份时，则感光层的光固化部分有变脆的倾向，作为感光性部件使用时，有涂膜性变差的倾向。反之，含量超出80质量份则光感度有不足的倾向。接着，针对作为(B)成分的分子内具有能够聚合的乙烯性不饱和键的光聚合性化合物(以下称"光聚合性化合物")进行说明。本发明(B)成分只要在分子内具有能够聚合的乙烯性不饱和键的可进行光聚合的化合物即可，未特別限定，可以列举例如以下的光聚合性化合物。即，作为本发明(B)成分，可以列举例如使cc，P-不饱和羧酸与多元醇反应所得的化合物；双酚A系(曱基)丙烯酸酯化合物；使a，P-不饱和羧酸与含有缩水甘油基的化合物反应所得的化合物；分子内具有氨基曱酸酯键的(甲基)丙烯酸酯化合物等氨基曱酸酯单体；壬基苯氧基多乙烯氧基丙烯酸酯；酞酸系化合物；(甲基)丙烯酸烷酯等。这些可以单独或组合2种以上使用。另外，由可更确实获得本发明效果的观点而言，优选组合使用分子内具有1种能够聚合的乙烯性不饱和键的光聚合性化合物与分子内具有2种以上能够聚合的乙烯性不饱和键的光聚合性化合物。另外，上述(B)成分的光聚合性化合物由其耐镀敷性、密合性的观点而言，优选含有双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物或分子内具有氨基甲酸酯键的(曱基)丙烯酸酯化合物为必须成分。本发明的双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物是指具有(曱基)丙烯酰基或源于(曱基)丙烯酰基的碳碳不饱和双键和源于双酚A的-C6lirC(CH3)2-C6Hr基的化合物。作为使a，(3-不饱和羧酸与上述多元醇反应获得的化合物，可以列举例如乙基的数目为214的聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯，丙烯基的数目为2~14的聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯，乙烯基的数目为214、丙烯基的数目为214的聚乙烯.聚丙二醇二(曱基)丙烯酸酯，三羟曱基丙烷二(曱基)丙烯酸酯，三羟曱基丙烷三(曱基)丙烯酸酯，EO改性三羟曱基丙烷三(甲基)丙烯酸酯，PO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯，EO、PO改性三羟曱基丙烷三(曱基)丙烯酸酯，四羟曱基曱烷二(甲基)丙烯酸酯，四羟曱基甲烷四(甲基)丙晞酸酯，二季戊四醇五(曱基)丙烯酸酯，二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等例。这些可以单独或组合2种以上使用，的。其中，"EO"是指环氧乙烷、EO改性化合物表示具有环氧乙烷基的嵌段结构的化合物。另外，"PO"是指环氧丙烷，PO改性化合物表示具有环氧丙烷基的嵌段结构的化合物。作为上述双酚A系(曱基)丙烯酸酯化合物，可以列举例如2,2-双(4-((曱基)丙烯酰氧基多乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丁氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基多乙氧基聚丙氧基)苯基)丙烷等。作为上述2,2-双(4-((曱基)丙烯酰氧基多乙氧基)苯基)丙烷，可以列举例如2,2-双(4-((曱基)丙烯酰氧基二乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基三乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((曱基)丙烯酰氧基四乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((曱基)丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基六乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((曱基)丙烯酰氧基七乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基八乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((曱基)丙烯酰氧基九乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((曱基)丙烯酰氧基十乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十一乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((曱基)丙烯酰氧基十二乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((曱基)丙烯酰氧基十三乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十四乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十六乙氧基)苯基)丙烷等。其中，2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷可以作为BPE-500(新中村化学工业(股份)制、商品名)于商业上购得，2,2-双(4-(甲基丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基)丙烷可以作为BPE-1300(新中村化学工业(股份)制、商品名)于商业上购得。上述2,2-双(4-((曱基)丙烯酰氧基多乙氧基)苯基)丙烷的1分子内环氧乙烷基(EO基)的数目优选为420,更优选为815。这些可单独或组合任意2种以上使用。作为上述分子内具有氨基曱酸乙键的(甲基)丙烯酸酯化合物，可以列举例如于P位具有OH基的(曱基)丙烯酸单体与二异氰酸酯化合物(异氟尔酮二异氰酸酯，2,6-曱苯二异氰酸酯，2，4-曱苯二异氰酸酯，1，6-六亚曱基二异氰酸酯等)的加成反应物，三((甲基)丙烯酰氧基四乙二醇异氰酸酯)六亚甲基三聚异氰酸酯，EO改性氨基曱酸酯二(曱基)丙烯酸酯，EO、PO改性氨基曱酸酯二(曱基)丙烯酸酯等。作为EO改性氨基曱酸酯二(曱基)丙烯酸酯，可以列举例如UA-ll(新中村化学工业(股份)制、商品名)。另外，作为EO、PO改性氨基曱酸酯二(甲基)丙烯酸酯，可以列举例如UA-13(新中村化学工业(股份)制、商品名)例。这些可以单独或组合2种以上使用。作为上述壬基苯氧基多乙烯氧基丙烯酸酯，可以列举例如壬基苯氧基四乙烯氧基丙烯酸酯、壬基苯氧基五乙烯氧基丙烯酸酯、壬基苯氧基六乙烯氧基丙烯酸酯、壬基苯氧基庚乙烯氧基丙烯酸酯、壬基苯氧基八乙烯氧基丙烯酸酯、壬基苯氧基九乙烯氧基丙烯酸酯、壬基苯氧基十乙烯氧基丙烯酸酯、壬基苯氧基十一乙烯氧基丙烯酸酯。这些可单独或組合2种以上使用。作为上述酞酸系化合物，可以列举例如g-氯-b-羟丙基-b，-(曱基)丙烯酰氧基乙基-邻酞酸酯、b-羟丙基-b，-(甲基)丙烯酰氧基烷基-邻酞酸酯等。这些可单独或组合2种以上使用。(B)成分的含量为，对于(A)成分和(B)成分的合计量IOO质量份，优选为2080质量份，更优选为3070质量份。当此含量小于20质量份时，则感光性树脂组合物的光敏感度将不足。反之，超出80质量份则感光层的光固化部分将变脆，作为感光性部件使用时其涂膜性变差。接着，针对(C)成分的光聚合引发剂进行说明。另外，本发明的光聚合引发剂只要是可以引发和/或加速所述光聚合性化合物的光聚合的化合物即可，所有具增敏剂功能的物质均可。作为本发明(C)成分，可以列举例如4,4，-双(二乙胺)二苯曱酮、二苯曱酮、2-爷基-2-二曱基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1,2-曱基-1-[4-(曱基硫代)苯基]-2-吗啉-丙酮-l等芳香族酮；烷基蒽醌等喹啉类；苯偶因、烷基苯偶因等苯偶因化合物；苯偶因烷醚等苯偶因醚化合物；苯偶酰二曱基缩酮等苯偶酰衍生物；2-(邻氯苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(邻氯苯基)-4，5-二(曱氧基苯基)咪唑二聚物、2-(邻氟苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(邻甲氧基苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚物、2-(对曱氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物等2，4,5-三芳基咪唑二聚物；9-苯基吖啶、1，7-双(9，9，-吖啶基)庚烷等吖啶衍生物；N-苯基甘氨酸、N-苯基甘氨酸衍生物；7-二乙基氨基-4-甲基香豆素等香豆素系化合物等。上述2,4，5-三芳基咪唑二聚物的2个芳基取代基可为相同形成对称化合物，也可为不同形成非对称化合物。本发明(C)成分为含有2,4，5-三芳基咪唑二聚物或其衍生物的物质。这些光聚合引发剂(增敏剂)可以单独或组合2种以上使用。进而，就进一步提高敏感度的观点而言，作为与后述的(D)成分组合的2，4，5-三芳基咪唑二聚物或其衍生物以外的(C)成分，优选香豆素系化合物。含(C)成分的2，4，5-三芳基咪唑二聚物及其衍生物的量为，相对于(A)成分和(B)成分的合计量100质量份，优选为0.110质量份，更优选为0.56质量份，进一步优选为1~4质量份。当此含量小于0.1质量份时，则密合性和敏感度将不足，反之，超出IO质量份则将降低抗蚀剂底部的固化性。接着，针对(D)成分的下述通式(1)所示化合物进行说明。[化2〕<formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula>式(1)中，R1和P^分别独立表示碳原子数120的烷基、碳原子数512的环烷基、苯基、苄基、碳原子数212的烷酰基或苯甲酰基。113~111()分别独立表示氢原子、碳原子数112的烷基、卣原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数2~6的烷氧羰基或苯甲酰基。上述碳原子数120的烷基为烷基的碳原子数是2~12时，主链碳原子间可具有氧原子，也可被羟基取代。上述碳原子数512的环烷基，环中可具有氧原子，可被羟基取代。上述R^和W中的上述苯基可被选自碳原子数1~6的烷基、羟基、卣原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数1~6的烷氧基、苯氧基和碳原子数26的烷氧羰基组成的组中的1种以上的基团和/或原子取代。上述千基可被选自碳原子数1~6的烷基、羟基、卣原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数16的烷氧基、苯氧基和碳原子数26的烷氧羰基组成的组中的1种以上的基团和/或原子取代。上述苯甲酰基可被选自碳原子数16的烷基、羟基、卣原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数1~6的烷氧基、苯氧基和碳原子数26的烷氧羰基组成的组中的1种以上的基团和/或原子取代。本发明感光性树脂组合物，通过含有上述(D)成分，可以有效用于以350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光进行曝光，形成抗蚀剂图案。作为(D)成分的R'和R2，可以列举例如曱基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基等。作为1^和112的组合，可以列举例如乙基相互的组合、丙基相互的组合、丁基相互的组合。作为RR1可以列举例如氢原子、甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、乙氧基羰基、羟基乙氧基羰基、或苯氧基等。作为113~111()的组合，可以列举例如这些均为氢原子；这些中任意l个为甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、乙氧基羰基、羟基乙氧基羰基、或苯氧基，除此以外均为氢原子；这些中任意2个为甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、乙氧基羰基、羟基乙氧基羰基、或苯氧基或其组合，其以外均为氩原子等的组合。作为(D)成分的上述通式(1)所示化合物，具体来说可以列举例如9,10-二曱氧基蒽、9,10-二乙氧基蒽、9,10-二丁氧基蒽等。(D)成分的含量为，相对于(A)成分和(B)成分的总量100质量份，优选为0.0110质量份，更优选为0.055质量份，特别优选为0.1-2质量份。当此含量小于0.01质量份时，则无法取得良好的敏感度、析像度，反之，超出IO质量份则将无法取得良好的图案形状。本发明感光性树脂组合物中，根据需要，也可含有所述(A)(D)成分以外的成分。作为此成分，可以列举例如分子内至少具有1个能够进行阳离子聚合的环状醚基的光聚合性化合物(氧杂环丁烷化合物等)、阳离子聚合引发剂、孔雀绿等染料，三溴苯砜、无色结晶紫等光发色剂，抗热发色剂，对曱苯磺酰胺等增塑剂，颜料，填充剂，消泡剂，阻燃剂，稳定剂，密合性赋予剂，流平剂，剥离促进剂，抗氧化剂，香料，显像剂，热交联剂等例。这些只要在不阻碍达成本发明目的下进行添加即可。这些成分的添加量为，相对于(A)成分和(B)成分的总量IOO质量份，分别优选0.01-20质量份左右。这些可单独或组合2种以上使用。另夕卜，本发明感光性树脂组合物也可溶于曱醇、乙醇、丙酮、甲基乙基酮、曱基溶纤剂、乙基溶纤剂、曱苯、N，N-二曱基曱酰胺、丙二醇单曱醚等溶剂或这些混合溶剂后，制成固形份30-60质量％左右的溶液。该溶液可以作为用于形成感光性部件的感光层的涂布液来使用。另外，上述的涂布液也可在后述的支持膜上进行涂布、千燥后，用于形成感光性部件的感光层，但例如也可以在例如铜、铜系合金、镍、铬、铁、不锈钢等铁系合金金属板的表面，优选于铜、铜系合金、铁系合金的表面上作为液状抗蚀剂进行涂布、干燥后，被覆保护薄膜后来使用。接着针对本发明感光性部件进行说明。图1代表本发明感光性部件的一个适宜的实施方式的^^莫式截面图。图1所示的感光性部件1为具备支持膜10与于该支持膜10上所形成的感光性树脂组合物所成的感光层14的部件，进而也可以进一步具备于感光层14上被覆其的保护薄膜(未图示)。作为上述支持膜10,可使用例如聚对苯二曱酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、聚酯等具有耐热性和耐溶剂性的聚合物薄膜。上述支持膜IO(聚合物薄膜)的厚度优选为1100pm。当此厚度小于5^m时，则于显像前剥离支持膜时易损伤支持膜IO，超出25pm则将降低析像度。另外，支持膜10为，也可以将其一个作为感光层14的支持体，另一个作为感光性^"脂组合物的保护薄膜层叠于感光层14的两面来使用。作为上述保护薄膜，可使用例如聚对苯二曱酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、聚酯等的具有耐热性和耐溶剂性的聚合物薄膜。市售品有例如王子制纸公司制的商品名"AluphanMA-410"、"E-200C"、信越薄膜公司制等的聚丙烯薄膜、帝人公司制的商品名"PS-25"等PS系列等的聚对苯二曱酸乙二醇酯薄膜等，但是并不限于此。该保护薄膜的厚度优选为1100pm，更优选为550lim,进一步优选为5~30fim,特别优选为1530|um。当此厚度小于1|im时，层叠时其保护薄膜将受损，反之超出100pm则低成本性有不良倾向。另外，保护薄膜优选为，感光层14和保护薄膜的粘着力小于感光层14和支持膜10的粘着力的保护薄膜，并且，优选低鱼眼的薄膜。鱼眼是指通过将材料热熔融后，混炼、挤压、双轴拉伸、浇铸法等制造薄膜时，其材料的异物、未溶解物、氧化老化物等渗入薄膜中。该感光层14优选如下形成使本发明感光性树脂组合物溶于如上所述的溶剂，做成固形份30-60质量％左右的溶液(涂布液)后，将该溶液(涂布液)涂布于支持膜10上，进行千燥。该涂布可利用辊涂、逗点涂布、凹版涂布、气刀涂布、模涂、棒涂等公知方法来进行。另外，上述千燥可以于70~150°C进行530分钟左右。从防止后工序的有机溶剂扩散的方面考虑，感光性树脂组合物中的残存有机溶剂量，相对于感光性树脂组合物的总量，优选为2质量%以下。该感光层14的厚度依其用途而异，干燥后的厚度优选为l100|tmi,更优选为l50pm。当此厚度小于lium,则会出现工业上的涂布困难，反之，超出100pm则会降低本发明效果，降低粘着力、析像度。另外，上述感光层14对于波长365nm和405nm的紫外线的吸光度优选为0.1-3,更优选为0.152,特别优选为0.2-1.5。此吸光度小于0.1,则敏感度变差，反之，超出3则密合性变差。该吸光度可通过UV分光计测定，作为该UV分光计，可以列举例如228A型(日立制作所制、商品名)W波束分光光度计等。该感光性部件1进一步可具有緩冲层、粘接层、光吸收层、气体阻隔层等中间层等。另外，所得感光性部件l可做成薄片状、或缠绕于巻芯成为滚筒状来保管。此时优选按照使支持体于最外侧来进行缠绕。该滚筒状的感光性部件l滚筒的端面中，由端面保护观点考虑，优选设置端面分隔件，由耐边缘溶解的方面考虑，优选设置防湿端面分隔件。另外，作为捆装方法，优选包于透湿性的小黑色封袋来进行包装。作为上述巻芯，可以列举例如聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚氯乙烯树脂、ABS树脂(丙烯腈-丁二烯-苯乙歸共聚物)等塑料等。接着，针对使用本发明感光性部件1的抗蚀剂图案的形成方法进行说明。第1抗蚀剂图案的形成方法具备于电路形成用基板上形成由感光性树脂组合物所成的感光层的感光层形成工序；使感光层的^见定部分于350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光进行曝光的曝光工序；使曝光的感光层显像，形成抗蚀剂图案的显像工序。另外，电路形成用基板是指具有绝缘层和形成于绝缘层上的导体层的基板。上述感光层形成工序中，使用上述感光性部件l时，由感光层14慢慢剥离保护薄膜，与此同时，使渐渐露出的感光层14的面的部分密合于电路形成用基板的要形成电路的面。形成上述抗蚀剂图案时，去除保护薄膜后，可以适当采用例如通过将感光层14加热至70130。C左右，同时以0.1~lMPa左右(l~10kgf/cm2左右)的压力压接于电路形成用基板来进行层叠的方法等，由提高其密合性、追随性的观点而言，优选在减压下进行层叠的方法(层叠工序)。另外，如上所述将感光层14加热至70130。C时，不需对电路形成用基板进行预热处理，但是为进一步提高层叠性，也可进行电路形成用基板的预热处理。接着，在上述曝光工序中，通过称为原图(artwork)的负或正掩膜图案使活性光线照射于图像(掩膜曝光法)。进行上述曝光工序时，存在于感光层14的支持膜10对于活性光线为透明时，可以通过支持膜10照射活性光线，支持膜10为遮光性时，可以在去除支持膜10后，对感光层14照射活性光线。另外，也可采用通过激光直接描绘曝光法、DLP(DigitalLightProcessing)曝光法等直接描绘法使活性光线照射于图像状的方法。作为上述活性光线的光源，可以使用例如碳电弧灯、水银蒸气电弧灯、高压水银灯、氤灯、Ar离子激光、半导体激光等可以有效发射紫外线或可见光等的光源。本发明中，希望是使用过滤器将水银灯光源的波长365nm以下的光截止99.5%以上得到的活性光线，或使用半导体激光的波长405nm的光。作为截止波长365nrn以下的光的过滤器，可以使用例如锐截止滤光片(sharpcutfilter)SCF-100S-39L(Z光机公司制、商品名)等。以上述直接描绘法进行曝光时，可使用例如日立Biamecanix公司制的DE-1AH。此时，光源为405nm的LD(激光二极管)，因此也可以不使用锐截止滤光片。另外，因直接曝光，所以可以不使用底片。进而，于上述显像工序中，感光层上存在支持体时，可以在去除该支持体后，通过去除以湿式显像或干式显像未被固化的部分(未曝光部分)，显像，形成抗蚀剂图案。湿式显像时，作为显像液，可以根据感光性树脂组合物的种类使用碱性水溶液、水系显像液、有机溶剂等安全稳定且操作性良好的显像液。另外，作为显像方法者可适当采用喷雾、摇动浸渍、刷涂、刮涂等公知的方法。作为该碱性水溶液的碱，由于安全、稳定且操作性良好，因此可以使用作为碱金属例如锂、钠、钾的氢氧化物的氢氧化锂、氢氧化钠、氲氧化钾等；作为碱金属、铵等的碳酸盐或重碳酸盐的碳酸碱或重碳酸碱；碱金属的磷酸盐的磷酸钠、磷酸钾等；作为碱金属的焦磷酸的焦磷酸钠、焦磷酸钾等。另外，作为这种碱性水溶液，优选例如0.15质量％碳酸钠的稀溶液，0.15质量％碳酸钾的稀溶液，0.15质量°/。氢氧化钠稀溶液，0.15质量％四硼酸钠的稀溶液，其pH优选为911的范围。另外，此碱性水溶液的温度配合感光层14的显像性进行调节。进而，该碱性水溶液中，为了促进显像，也可混入表面活性剂、消泡剂等少量有机溶剂。作为上述水系显像液，可使用水和碱性水溶液或1种以上有机溶剂所成的显像液。其中作为碱性水溶液的碱，除上述物质以外，可以列举例如硼砂、曱基硅酸钠、氢氧化四甲铵、乙SI胺、乙二胺、二乙三胺、2-氨基-2-羟基曱基-1，3-丙二醇、1，3-二氨基丙醇-2、吗啉。这种水系显像液的pH，优选在可充分显像处理的范围内尽可能小，优选pH812，更优选pH910。作为上述有机溶剂，可以使用例如丙酮、醋酸乙酯、具有碳原子数1~4的烷氧基的烷氧基乙醇、乙醇、异丙醇、丁醇、二甘醇单曱醚、二甘醇单乙醚、二甘醇单丁醚。这种有机溶剂的浓度通常优选为290质量％。另外，这种有机溶剂的温度可配合显像性进行调整。这种有机溶剂可单独或组合2种以上使用。作为单独使用的有机溶剂系显像液，可以列举例如1,1,1-三氯乙烷、N-曱基吡咯垸酮、N,N-二曱基曱酰胺、环己酮、甲基异丁酮、Y-丁内酯。进而，上述碱性水溶液中，为了促进显像，也可混入表面活性剂、消泡剂等少量的有机溶剂。该有机溶剂为预防起火，优选添加1~20质量％的水。本发明抗蚀剂图案的形成方法中，根据需要，也可并用上述2种以上的显像方法。显像方式有浸渍方式、搅炼方法式、喷雾方式、高压喷雾方式、刷涂、刮涂等，其中为提高析像度，高压喷雾方式是最适宜的。另外，作为显像后的处理，可以根据需要，通过60250。C左右的加热，或0.210mJ/cm2程度的曝光后，进一步使抗蚀剂图案固化来进行使用。显像后进行金属面的蚀刻时，可使用例如氯化铜溶液、氯化铁溶液、碱蚀刻溶液等。接着，针对第2抗蚀剂图案的形成方法进行说明。第2抗蚀剂图案的形成方法除使用设置有间隔壁材料层的等离子显示面板用基板取代上述第1抗蚀剂图案形成方法的电路形成用基板之外，与第1的抗蚀剂图案形成方法同法进行。作为上述等离子显示面板用基板，可以列举例如PD-200(旭硝子(股份)公司制、商品名)。另外，上述间隔壁材料层，例如可以使用RPW401(旭硝子(股份)公司制、商品名)等所形成。接着，针对本发明的印刷配线板的制造方法进行说明。本发明的印刷配线板的制造方法具备于电路形成用基板上形成由感光性树脂组合物所成的感光层的感光层形成工序；-使感光层的规定部分于350nm以上且小于440nm的波长范围下具有波峰的光进行曝光的曝光工序；使曝光的感光层进行显像，形成抗蚀剂图案的显像工序；以上述抗蚀剂图案为基准于电路形成用基板上形成导体图案的导体图案形成工序。这里，电路形成用基板是指具备绝缘层和形成于绝缘层上的导体层的基板。即，本发明印刷配线板的制造方法中，以利用本发明第l抗蚀剂图案的形成方法取得的抗蚀剂图案作为掩膜，于电路形成用基板表面进行蚀刻或镀敷处理。对于上述电路形成用基板的表面进行蚀刻处理时，可使用例如氯化铜溶液、氯化铁溶液、碱蚀刻溶液、过氧化氢蚀刻液，其中氯化铁溶液其蚀刻因子良好，因此优选。另外，作为上述镀敷处理，可适当采用公知方法进4亍碌u酸铜镀敷处理、焦磷酸铜镀敷处理等镀铜处理；超緩慢镀敷处理等焊料镀敷处理；瓦特浴(硫酸镍-氯化镍)镀敷处理、氨磺酰镍处理等镀镍处理；硬镀金处理、软镀金处理等镀金处理。接着，在本发明的印刷配线板的制造方法中，例如也可以使用比用于显像的碱性水溶液更强碱性的水溶液将抗蚀剂图案剥离去除。作为这种强碱性的水溶液，可以使用例如1~10质量％氢氧化钠水溶液，1~10质量％氢氧化钾水溶液。另外，作为剥离去除上述抗蚀剂图案的方式，可以列举例如浸渍方式、喷雾方式，浸渍方式和喷雾方式可单独使用，也可合并使用。另外，该本发明印刷配线板的制造方法不仅适用于单层印刷配线板的制造，也适用于多层印刷配线板的制造，也适用具有小径通孔的印刷配线板等的制造。'，接着，针对等离子显示面板用间隔壁的制造方法进行说明。等离子显示面板用间隔壁的制造方法具有在设置于等离子显示面板用基板的间隔壁材料层上形成由感光性树脂组合物所成的感光层的感光层形成工序；使感光层的规定部分于350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光进行曝光的曝光工序；使曝光的感光层经显像形成抗蚀剂图案的显像工序；和以上述抗蚀剂图案为基准经由蚀刻后于基板上形成间隔壁图案的间隔壁图案形成工序。等离子显示面板用基板和间隔壁材料层可以使用与上述第2抗蚀剂图案形成方法中所使用的物质相同的物质。即，等离子显示面板用间隔壁的制造方法中，将通过第2抗蚀剂图案形成方法所得的抗蚀剂图案作为掩膜，对间隔壁材料层进行蚀刻处理。作为对间隔壁材料层进行蚀刻的方法，可以列举例如喷砂法、湿式蚀刻加工法。喷砂清理法的情形，例如将二氧化硅、氧化铝等切削粒子直接喷附于基板后，使间隔壁材料被蚀刻。另外，湿式蚀刻加工法的情形，例如利用硝酸等酸溶液间隔壁材料被蚀刻者。以上，基于实施方式详细说明了本发明。但是，本发明并不限于上述实施方式。本发明在不脱离其主旨的范围下，可进4亍各种形态的变化。[实施例1]以下，列举实施例和比较例进行本发明更具体的说明。但是，本发明并不限于其中。(实施例19和比l交例15)(感光性树脂组合物的调制)首先，以表l所示量(g)混合表l所示的各成分，得到溶液。[表l]原料配合量(g)(A)成分甲基丙烯^/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯(25/50/25(重量比)、重均分子量30000)、甲基溶纤剂/曱苯=3/2(重量比)溶液、固形成分酸值163mgKOH/g113C固形成分54)(B)成分FA-321M*146发色剂无色结晶紫0.3染料孔雀绿0.03丙酮9溶剂甲苯5甲醇5*1:下述通式(3)所示的EO改性双酚A二曱基丙烯酸酯(日立化成工业公司制、商品名"FA-321M，，)。下述通式(3)中、m+n-10(平均值)。[化3]H2C=C(CH3)—CO-(OCaH4)m-O'0-<C2H40)nr-CO—C(CH3)=CH2<3)<table>tableseeoriginaldocumentpage24</column></row><table>*2:DBA…9,10-二丁氧基蒽(极大吸收波长人n二368nm、388nm、410nm)*3:Cl.,.7-二乙基氨基-4-甲基香豆素*4:敲81...2，2，-双(邻氯苯基)-4,4，，5，5，-四苯基双咪唑*5:I-369…2-千基-2-二甲基氨基-l-(4-吗啉苯基)-丁酮首先，针对实施例16和比较例14进4亍说明。(感光性部件的制作)将得到的实施例1~6和比较例14的感光性树脂组合物均匀涂布于作为支持体的厚度16pm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(帝人公司制、商品名"GS-16，，)上，以7(TC和10(TC的热风对流式干燥机进行干燥10分钟后，得到感光性部件。感光层干燥后的膜厚为25(im。<吸光度试验>利用UV分光光度计(日立制作所(股份)制、商品名"U-3310分光光度计")测定对于感光层曝光波长的光学密度(O.D.值)。测定为，以与用作支持体的物质相同的聚对苯二曱酸乙二醇酯薄膜作为参照物，通过吸光度模式以波长550300nm的光进行连续测定，取得UV吸收光谱，其中，以405nm的吸光度的值作为O.D.值。其测定结果如表3所示。(抗蚀剂图案的形成)针对各得到的感光性部件，通过以下方法使感光层层叠于贴铜层叠板，得到层叠体。即，对于作为两面层叠有铜箔(厚度35mm)的玻璃环氧剂的贴铜层叠板(日立化成工业(股份)制、商品名"MCL-E-67")的铜表面，使用具有相当于#600的刷子的研磨机(三启(股份)制)进行研磨水洗后，以空气流进行干燥。将所得贴铜层叠板加温至80°C,于该贴铜层叠板剝离感光性部件的保护薄膜，同时于12(TC,0.4MPa的压力层压感光层，得到层叠体。<光感度和析像度试验>接着，将上述层叠体冷却至23°C，于位于该层叠体最外层的聚对苯二曱酸乙二醇酯薄膜的表面，顺次层叠具有浓度范围0.00-2.00，浓度级差0.05,薄片(矩形)大小为20mmxl87mm,各级差(矩形)的大小为3mmxl2mm的41级级差薄片的底片，和具有作为析像座L评价用底片的线宽/线距为6/6~35/35(单位mm)的配线图案的底片。进而，于其上配置截止99.5%以上的波长365nm以下的光的Z光机公司制锐截止〉i光片SCF-100S-39L(商品名)。于此状态下，使用以5KW短电弧灯作为光源的平衡光曝光机(Oak制作所制、商品名「EXM-1201」)，以41级级差薄片的显像后残存级差级数为17级的曝光量进行曝光，此曝光量作为敏感度。另外，照度的测定是针对透过锐截止滤光片的光，使用应用了对应405nm针的紫外线照度计(Ushio电机公司制、商品名"UIT-150"、受光器"UVD-S405")进行测定后，以照度与曝光时间的积作为曝光量。其结果示于表3。接着，剥离聚对苯二曱酸乙二醇酯薄膜后，于30。C喷雾l质量。/。碳酸钠水溶液24秒钟后，去除未曝光部分。析像度可通过显像处理可完全去除未曝光部分，并且其线未出现蛇形、缺陷的条件下生成的线宽度之间隔宽度最小值来进行评价。敏感度和析像度的评价为，数值越小越好。其结果示于表3。显像后的抗蚀剂形状利用日立扫描型电子显微镜S-500A进行观测。其结果示于表3。'再针对实施例7~9和比较例5进行说明。(感光性部件的制作)'于厚度16的聚对苯二曱酸乙二醇酯薄膜(帝人公司制、商品名"GS-16")的支持体上均匀涂布得到的实施例79和比较例5的感光性树脂组合物溶液，以70。C和IO(TC的热风对流式干燥机进行干燥IO分钟，得到感光性部件。感光层的干燥后膜厚为38jLim。<吸光度试验>与实施例1~6和比较例14同法进行吸光度试验。其测定结果如表4所示。(抗蚀剂图案的形成)首先，于等离子显示面板用基板(PD200、旭硝子(股份)公司制)上涂布障壁糊(ribpaste)(RPW401、旭硝子(股份)公司制)，形成间隔壁材料层。接着，通过以下方法将所得感光性部件的感光层层压于设置有间隔壁材料层的PDP用基板的间隔壁材料层上，得到层叠体。上述层压如下进行使设置有间隔壁材料层的PDP用基板加温至80。C，剥离感光性部件的保护薄膜，同时使感光层于120。C,0.4MPa的压力下进行层压。<光感度和析像度试验>与实施例16和比较例1~4同法进行光感度和析像度试验，其测定结果示于表3和表4。[表3]<table>tableseeoriginaldocumentpage26</column></row><table>*6:EAB…4，4，-双(二乙基氨基)二苯曱酮<table>tableseeoriginaldocumentpage27</column></row><table>产业上可利用性本发明4是供一种可利用波长为390nm至440nm的光以充分每文感度和析像度形成抗蚀剂图案的感光性树脂组合物，以及使用其的感光性部件、抗蚀剂图案的形成方法、印刷配线板的制造方法和等离子显示面板用间隔壁的制造方法。权利要求1.一种感光性树脂组合物，其特征为，含有(A)粘合剂聚合物、(B)具有能够聚合的乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、(C)含有2，4，5-三芳基咪唑二聚物或其衍生物的光自由基聚合引发剂和(D)由下述通式(1)表示的化合物，[化1]式(1)中，R1和R2分别独立表示碳原子数1～20的烷基、碳原子数5～12的环烷基、苯基、苄基、碳原子数2～12的烷酰基或苯甲酰基；R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10分别独立表示氢原子、碳原子数1～12的烷基、卤原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数2～6的烷氧羰基或苯甲酰基；所述碳原子数1～20的烷基，当烷基的碳原子数为2～12时，主链碳原子间有氧原子或没有氧原子，被羟基取代或未被羟基取代；所述碳原子数5～12的环烷基，环中有氧原子或没有氧原子，被羟基取代或未被羟基取代；所述R1和R2中的所述苯基未被取代或者被选自碳原子数1～6的烷基、羟基、卤原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数1～6的烷氧基、苯氧基和碳原子数2～6的烷氧羰基组成的组中的1种以上的基团和/或原子取代；所述苄基未被取代或者被选自碳原子数1～6的烷基、羟基、卤原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数1～6的烷氧基、苯氧基和碳原子数2～6的烷氧羰基组成的组中的1种以上的基团和/或原子取代；所述苯甲酰基未被取代或者被选自碳原子数1～6的烷基、羟基、卤原子、氰基、羧基、苯基、碳原子数1～6的烷氧基、苯氧基和碳原子数2～6的烷氧羰基组成的组中的1种以上的基团和/或原子取代。2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其中，所述W和r"表示碳原子数14的烷基，r3、r4、r5、r6、r7、r8、119和r"表示氢原子。3.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其用于曝光于在350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光，从而形成抗蚀剂图案。4.一种感光性部件，其特征为，具备支持膜和形成于该支持膜上的包含权利要求1或2所述的感光性树脂组合物的感光层。5.—种抗蚀剂图案的形成方法，其特征为，具备在基板上形成包含权利要求1或2所述的感光性树脂组合物的感光层的感光层形成工序；使所述感光层的规定部分曝光于在350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光的曝光工序；将曝光后的所述感光层进行显像，形成抗蚀剂图案的显像工序。6.—种抗蚀剂图案的形成方法，其特征为，具备将权利要求4所述的感光性部件的感光层层叠于基板上的感光层形成工序；使所述感光层的规定部分曝光于在350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光的曝光工序；将曝光后的所述感光层进行显像，形成抗蚀剂图案的显像工序。7.—种印刷配线板的制造方法，其特征为，具备在基板上形成包含权利要求1或2所述的感光性树脂组合物的感光层的感光层形成工序；使所述感光层的规定部分曝光于在350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光的曝光工序；将曝光后的所述感光层进行显像，形成抗蚀剂图案的显像工序；基于所述抗蚀剂图案，在所述基板上形成导体图案的导体图案形成工序。8.—种印刷配线板的制造方法，其特征为，具备将权利要求4所述的感光性部件的感光层层叠于基板上的感光层形成工序；使所述感光层的规定部分曝光于在350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光的曝光工序；将曝光后的所述感光层进行显像，形成抗蚀剂图案的显像工序；基于所述抗蚀剂图案，在所述基板上形成导体图案的导体图案形成工序。9.一种等离子显示面板用间隔壁的制造方法，其特征为，具备在基板上形成包含权利要求1或2所述的感光性树脂组合物的感光层的感光层形成工序；使所述感光层的规定部分曝光于在350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光的曝光工序；将曝光后的所述感光层进行显像，形成抗蚀剂图案的显像工序；基于所述抗蚀剂图案，通过将所述基板进行蚀刻来形成间隔壁图案的间隔壁图案形成工序。10.—种等离子显示面板用间隔壁的制造方法，其特征为，具备将权利要求4所述的感光性部件的感光层层叠于基板上的感光层形成工序；使所述感光层的规定部分曝光于在350nm以上且小于440nm的波长范围内具有波峰的光的曝光工序；将曝光后的感光层进行显像，形成抗蚀剂图案的显像工序；基于所述抗蚀剂图案，通过将所述基板进行蚀刻来形成间隔壁图案的间隔壁图案形成工序。全文摘要本发明提供一种感光性树脂组合物，其含有(A)粘合剂聚合物、(B)具有能够聚合的乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、(C)含有2，4，5-三芳基咪唑二聚物或其衍生物的光自由基聚合引发剂和(D)以下述通式(1)表示的化合物。式(1)中，R¹和R²分别独立地表示碳原子数1～20的烷基等，R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹和R¹⁰分别独立地表示氢原子等。文档编号G03F7/004GK101218538SQ20068002451公开日2008年7月9日申请日期2006年7月3日优先权日2005年7月5日发明者宫坂昌宏,熊木尚申请人:日立化成工业株式会社