专利名称：防反射构造体及包括该防反射构造体的光学装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种防反射构造体及包括该防反射构造体的光学装置。
背景技术：
近年来，提出有各种各样的表面施加了抑制光的反射的防反射处理的光学元件。能够列举出的防反射处理(例如特开2001-127852号公报)如下，在表面上形成由多层膜等构成的防反射膜，该防反射膜是例如折射率较低的膜(低折射率膜)、或者是低折射率膜与折射率较高的膜(高折射率膜)相互叠层而构成的多层膜。
然而，在形成由这样的低折射率膜或多层膜构成的防反射膜时，需要蒸镀法、溅射法等复杂的工序。因此，问题就是生产性低，生产成本高。另一个问题是，由低折射率膜或多层膜构成的防反射膜，具有较大的波长依赖性和入射角依赖性。
鉴于上述问题，有人提出例如在光学元件表面上以入射光波长以下的间隔规则地形成微小凹凸部这样的处理作为波长依赖性和入射角依赖性较小的防反射处理(例如，Daniel H.Raguin and G.Michael Morris，“Analysis of antireflection-structured surfaces with continuousone-dimensional surface profiles”，Applied Optics，vol.32，No.14，pp.2582-2598，1993，等等)。进行该处理后，元件界面的陡峭的折射率变化被抑制，在元件界面折射率变化得很平缓。因此，光学元件表面的反射减少，而能够实现对光学元件内的高的入射率。
另外，在PCT日本专利申请特表2001-517319号公报中公开有使微小凹凸部形成为粗糙面的技术。
发明内容
然而，即使在光学元件表面上以入射光波长以下的间隔规则地形成微小凹凸部，有时侯也得不到充分高的反射抑制效果。
本发明正是为解决上述问题而研究开发出来的。其目的在于提供一种具有高的反射防止/抑制效果的防反射构造体。
本案发明人等精心钻研的结果，发现在使微小凹凸部形成为光滑面(例如平滑面)的情况下，在某些入射角下不能充分地抑制光的反射。具体而言，就是不能充分地抑制入射角较大的光的反射(换句话说，反射率具有入射角依赖性)。还发现在使微小凹凸部形成为粗糙面的情况下，虽然反射率的入射角依赖性下降了，但有时侯反射率的入射角依赖性却没有下降。本发明是自上述发现而来。
换句话说，本发明所涉及的第一防反射构造体，是抑制规定波长以上的光的反射的防反射构造体。该防反射构造体包括形成有多个微小凹凸部的表面，该微小凹凸部以所述规定波长以下的周期规则地排列着，该表面构成为它的表面粗糙度大于所述规定波长，且该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面的基准面的法线矢量所成的角度的平均值在5度以上。
补充说明一下，在该说明书中，“粗糙形状”指的是，将微小凹凸部11作为高频成份切去后得到的形状；“基准面”指的是，将微小凹凸部和粗糙形状作为高频成份切去后得到的面；“规定波长”指的是将要抑制反射的波长、应该抑制反射的波长。
本发明所涉及的第二防反射构造体，是抑制规定波长以上的光的反射的防反射构造体。该防反射构造体包括形成有多个微小凹凸部的表面，该微小凹凸部以所述规定波长以下的周期规则地排列着，该表面构成为它的表面粗糙度大于所述规定波长，且该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面的基准面的法线矢量所成的角度大小的分布峰值大于0度。
本发明所涉及的第三防反射构造体，是抑制规定波长以上的光的反射的防反射构造体。该防反射构造体包括形成有多个微小凹凸部的表面，该微小凹凸部以所述规定波长以下的周期规则地排列着，该表面构成为它的表面粗糙度大于所述规定波长，且该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面的基准面的法线矢量所成的角度大小在5度以下的部分在每单位面积中的面积百分比小于80％。
本发明所涉及的第四防反射构造体，是抑制规定波长以上的光的反射的防反射构造体。该防反射构造体包括形成有多个微小凹凸部的表面，该微小凹凸部以所述规定波长以下的周期规则地排列着，该表面构成为它的表面粗糙度大于所述规定波长，且该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面的基准面的法线矢量所成的角度大小在10度以下的部分在每单位面积中的面积百分比小于90％。
而且，本发明所涉及的光学装置，包括本发明所涉及的第一到第四防反射构造体中的任一防反射构造体。
根据本发明，能够实现具有高的反射防止/抑制效果的防反射构造体。
附图的简单说明
图1是扩散板1的立体图。
图2是扩散板1的部分剖面图。
图3是显示入射角和反射率的相关关系的曲线图。
图4是显示以45度的入射角入射的光的反射光的强度的曲线图。
图5是表示θ和反射率的相关关系的曲线图。
图6是表示θave和反射率的相关关系的曲线图。
图7是显示表面10的图2所示的部分的粗糙形状的剖面图。
图8是用以说明θ大于90度的情况的剖面图。
具体实施例方式
以下，参考附图，详细说明为了实施本发明的实施例。这里，以实施了本发明的扩散板为例对本发明所涉及的防反射构造体的形态进行说明。但是，本发明所涉及的防反射构造体并不限于下述形态。还可以为例如以显示器件为首，摄像装置、照明装置、投影机等各种光学机器的构成部件等。具体而言，对半导体激光元件、LED元件、电灯球、冷阴极管等发光元件、电荷耦合元件(CCD)、CMOS等图像传感器、功率仪、能量仪、反射率测量器械等光检测器、微透镜阵列、图像检测器等都适用。
图1是该实施例所涉及的扩散板1的立体图。
图2是扩散板1的部分剖面图。
该实施例所涉及的扩散板1是俯视近似矩形形状的面材，使光扩散、透过(更详细地讲，至少让以下说明的反射被微小凹凸部11抑制了的光扩散、透过)。该实施例所涉及的扩散板1布置在例如显示板等的前面，抑制光在显示板表面反射(外来光的映入等)。补充说明一下，对扩散板1的材质并不做什么限制，可以是树脂或者玻璃。而且，微粒子等可以分散着混入其中。
在该实施例中，如图2所示，扩散板1的表面10上，形成有以入射光20的波长以下的周期(最好是入射光20中波长最短的光的波长以下的周期)规则地排列的多个微小凹凸部11(以下称形成有多个该微小凹凸部11的防反射构造体为“SWS”)。因此，扩散板1的表面10和空气层之间陡峭的折射率变化得到了抑制，在形成有微小凹凸部11的表面10的表层部折射率平缓地变化。结果是，如图3所示，通过形成微小凹凸部11便有效地抑制了扩散板1的表面10的反射。
微小凹凸部11，只要具有使表面10和空气层之间的界面的折射率平缓地变化之功能即可，对它的形状没有特别的限制。例如可以是大致呈圆锥形状(顶部被倒角或者是被倒圆角)的凹部或者凸部，棱锥状的凹部或者凸部，柱状(剖面形状可以是三角形(顶部可以被倒圆角)、梯形、矩形等)的凹部或者凸部。
从实现高的反射抑制效果这一观点来看，最好是，微小凹凸部11的周期(从(形成为粗糙面)的表面10的基准面的法线方向俯视时相邻的微小凹凸部11的顶部相互间的距离)在入射光20的波长以下。另一方面，最好是，微小凹凸部11的高度(严格来讲，定义为从(形成为粗糙面的)表面10的基准面的法线方向上的基准面到顶部的距离)在入射光20的波长的0.4倍以上。在入射光20的波长的1倍以上更好，在在入射光20的波长的3倍以上更进一步好。严格而言，在入射光20具有波长宽度的情况下，最好是，微小凹凸部11的周期在入射光20的最短波长以下。最好是，微小凹凸部11的高度在入射光20的最长波长的0.4倍以上(最好是1倍以上，3倍以上更好)。
补充说明一下，微小凹凸部11并不非一定要对所有的入射光20都能发挥反射抑制效果。例如，入射光20的波长在一个包含紫外光、近紫外光、可见光、近红外光、红外光的较广的波长范围内，但在仅抑制400nm以上且700nm以下的波长的光的反射即可的情况下，最好是，微小凹凸部11的周期在400nm以下。另一方面，微小凹凸部11的高度最好在700nm的0.4倍以上，亦即280nm以上。
微小凹凸部11的高度可以形成为在表面10的各个部分都相互不同，但从制造容易性的角度来看，最好是，各个部分的高度形成为都大致相等。例如，在微小凹凸部11是锥体状的凹部或者锥体状的凸部的情况下，最好是，多个微小凹凸部11形成为将每个微小凹凸部11的锥体底部中心和顶部连接起来的中心轴相互大致平行。在该情况下，很容易利用射出成形法制造扩散板1。另一方面，出于同样的理由，在微小凹凸部11的剖面是三角形状的细长状凹部或者细长状凸部的情况下，最好是，多个微小凹凸部11的在横断面的底部中心和顶部连接起来的中心轴，在各个部分(例如边长都是1mm的正方形)形成得相互大致平行。
如上所述，因为表面10上形成有多个微小凹凸部11，所以光在表面10的反射被抑制。但是，在表面10是光滑面的情况下，却不能充分地抑制在表面10的镜面反射。
图4是显示以45度的入射角入射的光的反射光的强度的曲线图。
如图4所示，在光滑面上形成微小凹凸部11的情况下，观察到有反射角是45度的反射光，即镜面反射。在这样形成有微小凹凸部11的表面10是光滑面的情况下，不能充分地抑制入射光20的镜面反射。与此相对，如图4所示，在表面粗糙度比入射光20的波长大的粗糙面上形成微小凹凸部11的情况下，基本上没有观测到镜面反射。这里，在该实施例中，如图2所示，微小凹凸部11形成在表面粗糙度比入射光20的波长大的粗糙面即表面10上。详细地讲，表面10的表面粗糙度形成为用由SO4287:1997(与JIS B0601:2001相对应)规定的最大高度粗糙度Rz表示的比入射光20的波长还大。因此，利用该实施例中的扩散板1，还能够充分地抑制表面10上的镜面反射。但是，如果表面10的表面粗糙度过大，则抑制发生该镜面反射的效果会下降。表面10的表面粗糙度Rz的最好范围在100μm以下。在50μm以下更好，在30μm以下就更好了。
如图3所示，在微小凹凸部11(SWS)形成在光滑面上的情况下，对入射角较大的光得不到充分的反射抑制效果。换句话说，反射率依赖于入射角。相对于此，在该实施例中，因为形成有微小凹凸部11(SWS)的表面10的表面粗糙度形成得比对表面10的入射光的波长还大，所以如图3所示，反射率的入射角依赖性很小，对入射角较大的光能够收到高的反射抑制效果。
图5是表示θ和反射率的相关关系的曲线图。补充说明一下，图5中所示的θ是表面10的粗糙形状的切面(换句话说，是从表面10的含有微小凹凸部11的形状中将微小凹凸部11作为高频部分切除后所得到的形状的切面)13的法线矢量N2与表面10的基准面12的法线矢量N1所成的角的大小(参考图7)。
如图5所示，θ是0度(换句话说，光滑面)的情况下，即使形成有微小凹凸部11，对于例如超过50度的大入射角，甚至是超过70度的大入射角，有伴随着入射角的增大反射率也增大的倾向。相对于此，随着θ从0度逐渐增大，反射率的入射角依赖性下降，对于较大的入射角也能收到高的反射抑制效果。
具体而言，最好是，θ在5度以下的部分在每单位面积(例如边长都是1mm的正方形)中的面积百分比小于80％。换句话说，最好是，θ在5度以上的部分在每单位面积中的面积百分比大于或等于20％。与在光滑面上形成微小凹凸部11的情况相比，能够使该情况下的入射角89度的光的反射率减少大约30％以上。而且，最好是，θ在10度以下的部分在每单位面积中的面积百分比小于90％。换句话说，最好是，θ在10度以上的部分在每单位面积中的面积百分比大于或等于10％。与在光滑面上形成微小凹凸部11的情况相比，该情况下也能够使入射角89度的光的反射率减少大约30％以上。
更好的是，θ在5度以下的部分在每单位面积中的面积百分比小于50％。换句话说，最好是，θ在5度以上的部分在每单位面积中的面积百分比大于或等于50％。而且，最好是，θ在10度以下的部分在每单位面积中的面积百分比小于80％。换句话说，最好是，θ在10度以上的部分在每单位面积中的面积百分比大于或等于20％。与在光滑面上形成微小凹凸部11的情况相比，该情况下能够使入射角89度的光的反射率减少大约50％以上。
更进一步好的是，θ在5度以下的部分在每单位面积中的面积百分比小于30％。换句话说，最好是，θ在5度以上的部分在每单位面积中的面积百分比大于或等于70％。而且，最好是，θ在10度以下的部分在每单位面积中的面积百分比小于50％。换句话说，最好是，θ在10度以上的部分在每单位面积中的面积百分比大于或等于50％。与在光滑面上形成微小凹凸部11的情况相比，该情况下能够使入射角89度的光的反射率减少大约70％以上。
接着，对θ的平均值(θave)的最好范围进行说明。
图6是表示θave和反射率的相关关系的曲线图。
如图6所示，随着θave增大，入射角依赖性下降，对于入射角较大的光能收到高的反射抑制效果。具体而言，最好是，θave在5度以上。与在光滑面上形成微小凹凸部11的情况相比，该情况下能够使入射角89度的光的反射率减少大约30％以上。更好的是，θave在10度以上。与在光滑面上形成微小凹凸部11的情况相比，该情况下能够使入射角89度的光的反射率减少大约50％以上。更进一步好的是，θave在15度以上。与在光滑面上形成微小凹凸部11的情况相比，该情况下能够使入射角89度的光的反射率减少大约70％以上。
最好是，θ的分布峰值(频率最高的θ的值)大于0度，大于或等于2度，甚至是大于或等于5度则更好。
补充说明一下，从制造的角度来看，如图8所示，最好是，不存在表面10的切面13的法线矢量N2和表面10的基准面12的法线矢量N1所成的角度大小(θ)大于90度的区域。换句话说，最好是，表面10基本上由粗糙形状是θ小于或等于90度的面构成。这是因为在存在θ大于90度的区域的情况下，很难在面对凹部17的表面10的部分形成微小凹凸部11之故，如图8所示。
以上，以光透过性扩散板1为例进行了说明，但本发明所涉及的防反射构造体并不限于光透过性扩散板，还可以是例如光吸收性扩散板即所谓的黑体。
这里，以直接在扩散板1的表面10上形成SWS的情形为例做了说明，还可以通过将形成有SWS的片状物贴在或者粘在光滑面上来形成表面10。换句话说，扩散板1不是一体也可以，可以由多个构成部件构成。
这里，说明的是在表面10上所有的部分都形成SWS的例子，但并没有必要使SWS形成在表面10上所有的部分上，让SWS仅形成在需要形成它的地方即可。在这一情况下，不仅可以使设置有SWS的地方成为表面粗糙度相等的粗糙面，还可以使表面10的没有设置SWS的地方也成为表面粗糙度相等的粗糙面。还可以使其为表面粗糙度在它以下的光滑面。而且，还可以在没设置SWS的地方形成由反射率较低的膜和较高的膜的多层膜构成的其它防反射构造体。再就是，在形成有SWS的区域内也可以根据需要调节SWS的高度、周期(间距)等。
本发明并不限于所述实施例，还能够在不脱离其精神或者主要特征的情况下以各种各样的形式来实施。因此，从很多方面来看上述实施例只不过是事例而已，并不能作限定性解释。本发明的范围由权利要求书决定，不会受到说明书本文的束缚。而且，凡是属于权利要求的等同范围的变形、变更等都在本发明的范围之内。
权利要求
1.一种防反射构造体，用于抑制规定波长以上的光的反射，其特征在于该防反射构造体包括形成有多个微小凹凸部的表面，该微小凹凸部以所述规定波长以下的周期规则地排列着，该表面构成为它的表面粗糙度大于所述规定波长，且该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面的基准面的法线矢量所成的角度的平均值在5度以上。
2.根据权利要求1所述的防反射构造体，其特征在于所述防反射构造体使所述反射被抑制的光透过。
3.根据权利要求1所述的防反射构造体，其特征在于所述每个微小凹凸部，是大致呈锥体状的凹部和凸部，或者是细长状的凹部和细长状的凸部。
4.根据权利要求1所述的防反射构造体，其特征在于用由ISO42871997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度大于所述规定波长。
5.根据权利要求1所述的防反射构造体，其特征在于用由SO42871997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于100μm。
6.根据权利要求1所述的防反射构造体，其特征在于用由SO42871997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于50μm。
7.根据权利要求1所述的防反射构造体，其特征在于用由SO42871997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于30μm。
8.根据权利要求1所述的防反射构造体，其特征在于所述多个微小凹凸部在所述基准面的法线方向上的高度相互大致相等。
9.根据权利要求1所述的防反射构造体，其特征在于所述表面，基本上由该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面的基准面的法线矢量所成的角度在90度以下的面构成。
10.根据权利要求1所述的防反射构造体，其特征在于所述多个微小凹凸部中的每个微小凹凸部都是锥体状凹部或者锥体状凸部，将所述多个微小凹凸部的每个微小凹凸部的底部中心和顶部连接起来形成的中心轴大致相互平行。
11.根据权利要求1所述的防反射构造体，其特征在于所述多个微小凹凸部中的每个微小凹凸部的高度都在所述反射被抑制的光的波长的0.4倍以上。
12.一种光学装置，其特征在于包括权利要求1所述的防反射构造体。
13.一种防反射构造体，用于抑制规定波长以上的光的反射，其特征在于该防反射构造体包括形成有多个微小凹凸部的表面，该微小凹凸部以所述规定波长以下的周期规则地排列着，该表面构成为它的表面粗糙度大于所述规定波长，且该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面的基准面的法线矢量所成的角度分布的峰值大于0度。
14.根据权利要求13所述的防反射构造体，其特征在于所述防反射构造体使所述反射被抑制的光透过。
15.根据权利要求13所述的防反射构造体，其特征在于所述每个微小凹凸部，是大致呈锥体状的凹部和凸部，或者是细长状的凹部和细长状的凸部。
16.根据权利要求13所述的防反射构造体，其特征在于用由SO42871997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度大于所述规定波长。
17.根据权利要求13所述的防反射构造体，其特征在于用由SO42871997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于100μm。
18.根据权利要求13所述的防反射构造体，其特征在于用由SO42871997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于50μm。
19.根据权利要求13所述的防反射构造体，其特征在于用由SO42871997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于30μm。
20.根据权利要求13所述的防反射构造体，其特征在于所述多个微小凹凸部在所述基准面的法线方向上的高度相互大致相等。
21.根据权利要求13所述的防反射构造体，其特征在于所述表面，基本上由该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面的基准面的法线矢量所成的角度在90度以下的面构成。
22.根据权利要求13所述的防反射构造体，其特征在于所述多个微小凹凸部中的每个微小凹凸部，都是锥体状凹部或者锥体状凸部，将所述多个微小凹凸部的每个微小凹凸部的底部中心和顶部连接起来形成的中心轴大致相互平行。
23.根据权利要求13所述的防反射构造体，其特征在于所述多个微小凹凸部中的每个微小凹凸部的高度都在所述反射被抑制的光的波长的0.4倍以上。
24.一种光学装置，其特征在于包括权利要求13所述的防反射构造体。
25.一种防反射构造体，用于抑制规定波长以上的光的反射，其特征在于该防反射构造体包括形成有多个微小凹凸部的表面，该微小凹凸部以所述规定波长以下的周期规则地排列着，该表面构成为它的表面粗糙度大于所述规定波长，且该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面的基准面的法线矢量所成的角度大小在5度以下的部分在每单位面积中的面积百分比小于80％。
26.根据权利要求25所述的防反射构造体，其特征在于所述防反射构造体使所述反射被抑制的光透过。
27.根据权利要求25所述的防反射构造体，其特征在于所述每个微小凹凸部，是大致呈锥体状的凹部和凸部，或者是细长状的凹部和细长状的凸部。
28.根据权利要求25所述的防反射构造体，其特征在于用由SO42871997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度大于所述规定波长。
29.根据权利要求25所述的防反射构造体，其特征在于用由SO42871997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于100μm。
30.根据权利要求25所述的防反射构造体，其特征在于用由SO42871997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于50μm。
31.根据权利要求25所述的防反射构造体，其特征在于用由SO42871997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于30μm。
32.根据权利要求25所述的防反射构造体，其特征在于所述多个微小凹凸部在所述基准面的法线方向上的高度相互大致相等。
33.根据权利要求25所述的防反射构造体，其特征在于所述表面，基本上由该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面的基准面的法线矢量所成的角度在90度以下的面构成。
34.根据权利要求25所述的防反射构造体，其特征在于所述多个微小凹凸部中的每个微小凹凸部，都是锥体状凹部或者锥体状凸部，将所述多个微小凹凸部的每个微小凹凸部的底部中心和顶部连接起来形成的中心轴大致相互平行。
35.根据权利要求25所述的防反射构造体，其特征在于所述多个微小凹凸部中的每个微小凹凸部的高度都在所述反射被抑制的光的波长的0.4倍以上。
36.一种光学装置，其特征在于包括权利要求25所述的防反射构造体。
37.一种防反射构造体，用于抑制规定波长以上的光的反射，其特征在于该防反射构造体包括形成有多个微小凹凸部的表面，该微小凹凸部以所述规定波长以下的周期规则地排列着，该表面构成为它的表面粗糙度大于所述规定波长，且该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面的基准面的法线矢量所成的角度在10度以下的部分在每单位面积中的面积百分比小于90％。
38.根据权利要求37所述的防反射构造体，其特征在于所述防反射构造体使所述反射被抑制的光透过。
39.根据权利要求37所述的防反射构造体，其特征在于所述每个微小凹凸部，是大致呈锥体状的凹部和凸部，或者是细长状的凹部和细长状的凸部。
40.根据权利要求37所述的防反射构造体，其特征在于用由SO42871997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度大于所述规定波长。
41.根据权利要求37所述的防反射构造体，其特征在于用由SO42871997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于100μm。
42.根据权利要求37所述的防反射构造体，其特征在于用由SO42871997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于50μm。
43.根据权利要求37所述的防反射构造体，其特征在于用由SO42871997规定的最大高度粗糙度Rz表示的所述表面的表面粗糙度小于30μm。
44.根据权利要求37所述的防反射构造体，其特征在于所述多个微小凹凸部在所述基准面的法线方向上的高度相互大致相等。
45.根据权利要求37所述的防反射构造体，其特征在于所述表面，基本上由该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面的基准面的法线矢量所成的角度在90度以下的面构成。
46.根据权利要求37所述的防反射构造体，其特征在于所述多个微小凹凸部中的每个微小凹凸部都是锥体状凹部或者锥体状凸部，将所述多个微小凹凸部的每个微小凹凸部的底部中心和顶部连接起来形成的中心轴大致相互平行。
47.根据权利要求37所述的防反射构造体，其特征在于所述多个微小凹凸部中的每个微小凹凸部的高度都在所述反射被抑制的光的波长的0.4倍以上。
48.一种光学装置，其特征在于包括权利要求37所述的防反射构造体。
全文摘要
本发明公开了一种防反射构造体。扩散板具有形成有多个以所述规定波长以下的周期规则地排列着的微小凹凸部的表面，该表面的表面粗糙度大于所述规定波长。而且，该表面的粗糙形状的切面的法线矢量与该表面的基准面的法线矢量所成的角度大小的平均值在5度以上。
文档编号G02B1/10GK101074998SQ200710104990
公开日2007年11月21日 申请日期2007年5月15日 优先权日2006年5月15日
发明者山田和宏, 田村隆正, 吉川智延, 山口博史, 石丸和彦 申请人:松下电器产业株式会社