专利名称：一种电子产品视窗镀膜的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及电子产品视窗镀膜。
背景技术：
视窗玻璃是电子产品如手机、MP3、MP4、数码相机、摄像机和DVD的主要配件之一。 目前已经广泛使用镀膜的方式对电子产品的视窗进行装饰，可以使电子产品获得美观的外 观装饰和更好的质感，从而提高产品的价值。在现有技术中，通常采用物理气相沉积技术反 复叠加镀覆5-10层氧化物膜层，然后在氧化物膜层上丝印油墨的方法来获得具有色彩的 镀膜材料。但该方法工艺较为复杂，需要交替叠加多层镀膜，同时得到的镀膜材料结构复杂 并且结合力差。
实用新型内容本实用新型解决了现有技术电子产品视窗镀膜膜层复杂的问题，提供一种结构简 单、具有多彩外观的电子产品视窗镀膜。
本实用新型采用的技术方案如下一种电子产品视窗镀膜，包括镀覆在所述视窗
基板上的膜层，所述膜层由氧化物膜层和金属膜层组成，所述氧化物膜层位于所述视窗基
板和金属膜层之间，所述金属膜层包括第一金属膜层和第二金属膜层。 所述氧化物膜层的厚度为10-50纳米，所述第一金属膜层的厚度为10-35纳米，所
述第二金属膜层的厚度为50-70纳米。 进一步的，所述氧化物膜层的厚度为40-50纳米，所述第一金属膜层的厚度为 25-30纳米，所述第二金属膜层的厚度为50-60纳米。 所述氧化物膜层为二氧化硅层。 所述，所述第一金属膜层为铜层。 所述，所述第二金属膜层为铬层。 根据本实用新型提供的电子产品视窗，膜层简单，只由单层氧化物膜层和双层金 属膜层组成，并且可以通过不同氧化物膜层与金属膜层的搭配，是镀膜材料得到多种颜色 效果，并且色彩绚丽、金属质感很强。
图1为本实用新型结构示意图。
具体实施方式本实用新型提供的一种电子产品视窗镀膜，包括镀覆在所述视窗基板1上的膜 层，所述膜层由氧化物膜层2和金属膜层组成，所述氧化物膜层位于所述视窗基板和金属 膜层之间，所述金属膜层包括第一金属膜层3和第二金属膜层4。 所述透明视窗基板可以为各种可作为视窗的基板，例如为玻璃板、石英板1203板
3或塑料板。 根据本实用新型提供的电子产品视窗镀膜，在优选情况下，所述氧化物膜层的厚 度为10-50纳米，所述第一金属膜层的厚度为20-35纳米，所述第二金属膜层的厚度为 50-70纳米。进一步优选，所述氧化物膜层的厚度为40-50纳米，所述第一金属膜层的厚度 为25-30纳米，所述第二金属膜层的厚度为50-60纳米。所述透明基板的厚度为通常的视 窗所使用的厚度，例如为0. 5-1. 5毫米、优选为0. 8-1. 2毫米。在上述数值范围内排布的膜 层，其结合力最佳，外观效果最平整，且颜色效果最佳。 根据本实用新型提供的镀膜材料，在优选情况下，所述氧化物膜层的氧化物可以 为各种可以得到彩色的光学干涉颜色的氧化物，例如二氧化钛、三氧化二铝、二氧化硅、二 氧化铬、二氧化锆或五氧化二钽；所述第一金属膜层和第二金属膜层材料可以为可作为磁 控靶进行溅射的的金属，例如为钛、、铜、铝、铬、锆、钽或不锈钢。 根据本实用新型优选，所述氧化物膜层为二氧化硅层，二氧化硅可以保护视窗并 且增加整个产品的光泽度，所述第一金属膜层为铜层，所述第二金属膜层为铬层，采用此三 种材料的膜层依次复合后，得到的视窗呈现金黄色。 制备本实用新型提供的电子产品视窗镀膜的方法可为依次在形成氧化物膜层的 磁控溅射条件下和形成金属膜层的磁控溅射条件下，在磁控靶上施加电源使磁控靶上的靶 材物质溅射并沉积在所述透明基板上，以形成依次镀覆在所述透明基板上的氧化物膜层和
金属膜层。 形成上述膜层采用磁控溅射离子镀设备进行，优选采用中频磁控溅射离子镀设 备。所述中频磁控溅射离子镀设备包括真空室、加热装置、工件架、磁控靶、挡板、通气装置、 水冷系统，待镀膜的透明基板固定放置在工件架上。 进行磁控溅射所采用的电源可以为现有的各种用于磁控溅射离子镀的电源，优选 为中频电源，中频电源的频率一般为50-150千赫，优选为60-120千赫。 形成所述氧化物膜层的磁控溅射条件为本领域技术人员公知的磁控溅射的条件， 例如该条件包括，电源的功率为l-50千瓦范围内的恒功率、优选为l-30千瓦、更优选为 1-10千瓦，磁控溅射的真空度为0. 1-2帕、优选为0. 1-0. 9帕，溅射时间为10-30秒、优选 为10-15秒，工作气体为惰性气体，所述惰性气体的纯度为99.9%以上，工作气体的总流 量为50-100标准毫升/分钟，偏压电源的偏压为50-500伏、优选为100-300伏，占空比 为15-95%、优选为30-80%。所述惰性气体优选为氦气或氩气，氦气或氩气的纯度优选为 99. 9%以上，更优选为99. 99%以上。 形成所述金属膜层的磁控溅射条件为本领域技术人员公知的磁控溅射的条件。形 成第一金属层的条件为电源功率为l-10千瓦，偏压为50-500伏，占空比为15-95%;溅射 真空度为0. 1-0. 9帕；溅射时间为5-9s ;工作气体为惰性气体氩气，气体纯度为99. 9%以 上，气体流量为50-100标准毫升每分钟。以铜为例，设定其磁控溅射条件为电源功率为3 千瓦，偏压为300伏，占空比为50% ;溅射真空度为0. 4帕，则可得到厚度为20纳米左右的 铜金属膜。 形成所述的第二金属膜层的溅射条件包括，电源功率为1-10千瓦，偏压为50-500 伏，占空比为15-95% ;溅射真空度为0. 1-0. 9帕；溅射时间为9-15s ;工作气体为惰性气体 氩气，气体纯度为99.9%以上，气体流量为50-100标准毫升每分钟。以金属铬为例，设定其磁控溅射条件镀膜参数为电源功率为8千瓦，偏压为300伏，占空比为50%，溅射真空度为 0. 6帕，溅射时间为14s，气体流量为60标准毫升每分钟，则可得到厚度为55纳米左右的铬 金属膜。 在优选情况下，为了提高膜层与透明基板的结合力，所述镀膜材料的制备方法还 可以包括对透明基板进行磁控溅射离子镀之前对进行清洁活化，所述述清洗活化的方法包 括，在清洗活化的条件下，用惰性气体的离子轰击所述透明基板。 在优选情况下，所述清洗活化的条件包括，清洗活化的气氛为惰性气体气氛，真空
度为O. 1-5帕、优选为0. 5-3帕，偏压电源的偏压为200-1000伏、优选为400-800伏，占空比
为20-70%、优选为35-55%、更优选为40-50% ，时间为5_20分钟、优选为8_15分钟。本实
用新型优选惰性气体为氦气或氩气，通过惰性气体辉光放电产生离子，并用惰性气体的离
子来轰击透明基板对该透明基板进行清洗活化，从而可以提高镀膜与透明基板的结合力。 在本实用新型中，所述真空度是指绝对压力与大气压力的差值。 通常，在制得本实用新型的过程中，为了使视窗具有一定的透明度，例如透明度最
小不低于50%，可以在镀膜前将透明基板的中央部分遮挡，以清晰地看见视窗内的图像和
/或字符。或者在镀覆了氧化物膜层后，将透明基板的中央部分遮挡，这时即可获得透明度
为50% _90%的光学干涉色彩，而且在此透明度下还可以清晰地看出所显示的图像和/或字符。 本实用新型可以通过将不同的氧化物膜层和金属膜层的搭配，从而得到各种颜色 的镀膜材料，而且镀膜材料的色彩绚丽、金属质感强、结合力好。
权利要求一种电子产品视窗镀膜，包括视窗基板上的膜层，其特征在于，所述膜层由氧化物膜层和金属膜层组成，所述氧化物膜层位于所述视窗基板和金属膜层之间，所述金属膜层包括第一金属膜层和第二金属膜层。
2. 根据权利要求1所述的电子产品视窗镀膜，其特征在于，所述氧化物膜层的厚度为 10-50纳米，所述第一金属膜层的厚度为20-35纳米，所述第二金属膜层的厚度为50-70纳 米。
3. 根据权利要求2所述的电子产品视窗镀膜，其特征在于，所述氧化物膜层的厚度为 40-50纳米，所述第一金属膜层的厚度为25-30纳米，所述第二金属膜层的厚度为50-60纳 米。
4. 根据权利要求1或2或3所述的电子产品视窗镀膜，其特征在于，所述氧化物膜层为 二氧化硅层。
5. 根据权利要求1或2或3所述的电子产品视窗镀膜，其特征在于，所述第一金属膜层 为铜层。
6. 根据权利要求1或2或3所述的电子产品视窗镀膜，其特征在于，所述第二金属膜层 为铬层。
专利摘要本实用新型提供了一种电子产品视窗镀膜，包括视窗基板上的膜层，所述膜层由氧化物膜层和金属膜层组成，所述氧化物膜层位于所述视窗基板和金属膜层之间，所述金属膜层包括第一金属膜层和其上的第二金属膜层。根据本实用新型提供的电子产品视窗，膜层简单，只由单层氧化物膜层和双层金属膜层组成，并且可以通过不同氧化物膜层与金属膜层的搭配，是镀膜材料得到多种颜色效果，并且色彩绚丽、金属质感很强。
文档编号G02B1/10GK201514503SQ20092020441
公开日2010年6月23日 申请日期2009年8月28日 优先权日2009年8月28日
发明者杨安超 申请人:比亚迪股份有限公司