专利名称：一种液晶面板及其制造方法和显示器的制作方法
技术领域：
本发明涉及液晶显示领域技木，尤其涉及ー种液晶面板及其制造方法和显示器。
背景技术：
液晶显示器是目前常用的平板显示器，其中TFT-LCD (Thin FilmTransistorLiquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)是液晶显示器中的主流产品。液晶面板是液晶显示器的重要部件，现有技术中，通过ODF(One DropFillingjf晶滴注)エ艺在阵列基板或者彩膜基板中的任意ー个基板上滴注液晶，在另ー个基板上涂覆封框胶，然后将阵列基板和彩膜基板进行对盒，从而形成液晶面板，并对封框胶进行固化处理以使封框胶固化。 液晶面板的设计与制作过程中，对盒厚的要求非常严格，一般产品的盒厚是3. 5um左右，0. Ium的盒厚波动都会对产品的光学特性产生影响。其中，盒内液晶的注入量是影响盒厚稳定的重要因素，在实际生产过程中比较容易产生因为液晶量过大而对产品品质产生影响，如一般液晶量过大会产生画面不均匀等不良。
发明内容
本发明实施例提供了ー种液晶面板及其制造方法和显示器，可以将液晶面板显示区过多的液晶分流到液晶缓冲区中，減少液晶面板显示区中的液晶量，避免液晶量过多造成的画面不均匀。本发明实施例提供了ー种液晶面板，包括阵列基板和彩膜基板通过第一封框胶将所述液晶填充在液晶面板显示区；还包括位于液晶面板非显示区的、在阵列基板与彩膜基板之间构成的至少ー个真空液晶缓冲区；以及连通所述液晶缓冲区和液晶面板显示区的、设置于所述阵列基板和/或彩膜基板上的液晶通道与；以及位于所述液晶通道与所述液晶面板显示区相连处、隔断所述液晶通道与所述液晶面板显示区连通的覆盖层；以及位于所述液晶通道下方的第一电极层和位于所述覆盖层上方的第二电极层；当所述液晶面板显示区中的液晶量超过预定阈值时，在所述第一电极层和所述第ニ电极层上施加电压，形成电场，击穿所述覆盖层，使所述液晶面板显示区通过所述液晶通道与所述液晶缓冲区连通。相应的，本发明实施例提供了一种显示器，包括上述液晶显示面板。相应的，本发明实施例提供了ー种液晶面板的制作方法，包括在阵列基板和/或彩膜基板接触液晶的表面的制作液晶通道；所述液晶通道下方具有第一电极层；
在所述液晶通道上形成覆盖层；在所述覆盖层上形成第二电极层；在所述阵列基板和/或彩膜基板的液晶面板显示区边缘的覆盖层上覆盖第一封框胶，在液晶面板非显示区边缘覆盖第二封框胶；在所述阵列基板与彩膜基板之间构成至少ー个真空液晶缓冲区，所述液晶缓冲区通过所述液晶通道与所述液晶面板显示区相连；在所述液晶面板显示区内滴注液晶后，将所述阵列基板和所述彩膜基板进行对盒;其中，当所述液晶面板显示区中的液晶量超过预定阈值时，在所述第一电极层和所述第二电极层上施加电压，形成电场，击穿所述覆盖层，使所述液晶面板显示区通过所述液晶通道与所述液晶缓冲区连通。本发明实施例提供了ー种液晶面板及其制造方法和显示器，用于在阵列基板和/或彩膜基板接触液晶的表面的制作液晶通道；所述液晶通道下方具有第一电极层；在所述液晶通道上形成覆盖层；在所述覆盖层上形成第二电极层；在所述阵列基板和/或彩膜基板的液晶面板显示区边缘的覆盖层上覆盖第一封框胶，在液晶面板非显示区边缘覆盖第二封框胶；在所述阵列基板与彩膜基板之间构成至少ー个真空液晶缓冲区，所述液晶缓冲区通过所述液晶通道与所述液晶面板显示区相连；在所述液晶面板显示区内滴注液晶后，将所述阵列基板和所述彩膜基板进行对盒；其中，当所述液晶面板显示区中的液晶超过预定阈值时，在所述第一电极层和所述第二电极层上施加电压，形成电场，击穿所述覆盖层，使所述液晶面板显示区通过所述液晶通道与所述液晶缓冲区连通。使用本发明实施例提供的液晶面板及其制造方法和显示器，通过在基板与液晶接触的表面制作液晶通道，并在该液晶通道的下方和上方分别设置电极层，然后利用第二封框胶将阵列基板和彩膜基板粘连对盒后，形成用于分流液晶的、真空的液晶缓冲区，该液晶缓冲区通过液晶通道与显示区相连。液晶面板显示区内的液晶量过多时，通过在两个电极层上施加电压，形成电场，击穿覆盖层，使得多余液晶可以流入该液晶缓冲区，且不会产生气泡。
图I为本发明实施例中液晶面板的结构示意图；图2为本发明实施例中液晶面板的俯视结构示意图； 图3为本发明实施例中液晶通道的结构示意图；图4为本发明实施例中液晶面板的制作方法流程示意图；图5为本发明另ー实施例中液晶面板的制作方法流程示意图。
具体实施例方式下面结合各个附图对本发明实施例技术方案的主要实现原理具体实施方式
及其对应能够达到的有益效果进行详细地阐述。为了解决现有技术存在的问题，本发明实施例提供了ー种液晶面板，如图I所示，包括阵列基板I、彩膜基板2、以及阵列基板I和彩膜基板2之间的液晶3 ;阵列基板I和彩膜基板2通过第一封框胶4将液晶3填充在液晶面板显示区5 ;还包括位于液晶面板非显示区的、在阵列基板I与彩膜基板2之间构成的至少ー个真空的液晶缓冲区7 ;以及连通液晶缓冲区7和液晶面板显示区5的、设置于阵列基板I和/或彩膜基板2上的液晶通道8 ;以及位于液晶通道8与液晶面板显示区5相连处、隔断液晶通道8与液晶面板显示区5连通的覆盖层9 ;以及位于液晶通道8下方的第一电极层10和位于覆盖层9上方的第二电极层11 ;当液晶面板显示区5中的液晶超过预定阈值时，在第一电极层10和第二电极层11上施加电压，形成电场，击穿覆盖层9，使液晶面板显示区5通过液晶通道8与液晶缓冲区7连通。具体的，当液晶面板显示区中液晶过多时，会导致液晶面板显示的画面不均匀，本发明实施例提供的液晶面板可以较好的解决该问题，提高液晶面板的画面质量。如图I所示，液晶面板由阵列基板I、彩膜基板2和液晶3等几部分构成。其中，通过第一封框胶4将阵列基板I和彩膜基板2连接，并构成填充液晶3的液晶面板显示区5 ;在非显示区内利用第二封框胶6连接阵列基板I和彩膜基板2，这样由第一封框胶4和第二封框胶6在阵列基板I与彩膜基板2之间构成了真空的液晶缓冲区7。该液晶缓冲区7通过液晶通道8与液晶面板显示区5相连，并在相连处具有覆盖层9，以便隔断液晶通道8与液晶面板显示区 5的连通，使液晶面板显示区5中的液晶3无法通过该液晶通道8分流到液晶缓冲区7中。由于该液晶通道8的下方具有第一电极层10，覆盖层9上具有第二电极层11，在液晶面板显示区5中的液晶3超过预定阈值时，可以在第一电极层10和第二电极层11上分別施加电压，形成电场，以便击穿该覆盖层9，使得液晶面板显示区5通过液晶通道8与液晶缓冲区7连通，以便多余的液晶3分流到液晶缓冲区7。此外，该液晶缓冲区7可以为多个，分流液晶时，可以根据实际情況，导通全部或部分液晶缓冲区7。由于在滴注液晶，阵列基板I和彩膜基板2对盒后，该液晶缓冲区7形成为真空区域，因此，分流液晶吋，液晶可以填满该液晶缓冲区7，且不会产生气泡。如图2所示，为液晶面板的俯视图，其中，在阵列基板和彩膜基板之间液晶缓冲区71为由第二封框胶6和第一封框胶4构成的空间，液晶缓冲区72为由第二封框胶6构成的独立空间。该液晶缓冲区71和液晶缓冲区72均通过液晶通道8与液晶面板显示区5相连，且均通过覆盖层9隔断液晶通道8与液晶面板显示区5的导通。该覆盖层9的材料为树脂材料。较佳的，上述液晶通道8可以位于阵列基板I和/或彩膜基板2上。具体的，液晶通道8可以为阵列基板I与液晶3接触的表面上的至少一条沟槽；该液晶通道8还可以为彩膜基板2与液晶3接触的表面上的至少一条沟槽。如图3所示，由第一封框胶4形成液晶显示区、第二封框胶6形成液晶缓冲区，虚线构成的帯状沟槽为液晶通道8，其数目可以为多个，在其上覆盖树脂材料形成覆盖层9，可以隔断沟槽两端之间的导通。而且该阵列基板I和彩膜基板2均可以具有该液晶通道8。通过上述描述，可以看出，使用本发明实施例提供的液晶面板，通过在基板与液晶接触的表面制作液晶通道，并在该液晶通道的下方和上方分别设置电极层，然后利用第二封框胶将阵列基板和彩膜基板粘连对盒后，形成用于分流液晶的液晶缓冲区，该液晶缓冲区通过液晶通道与显示区相连。由于在滴注液晶，将阵列基板和彩膜基板对盒后，该液晶缓冲区形成为真空区域，因此，显示区内的液晶量过多时，可以通过在两个电极层上施加电压，形成电场击穿覆盖层，分流的液晶填满该液晶缓冲区，可以减少液晶面板显示区的液晶量，且不会产生气泡。基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示器，包括上述液晶面板。基于同一发明构思，本发明实施例还提供了ー种液晶面板的制作方法，如图4所示，包括以下步骤步骤401、在阵列基板和/或彩膜基板接触液晶的表面制作液晶通道；该液晶通道下方具有第一电极层；步骤402、在液晶通道上形成覆盖层；步骤403、在覆盖层上形成第二电极层； 步骤404、在阵列基板和/或彩膜基板的液晶面板显示区边缘的覆盖层上覆盖第一封框胶，在液晶面板非显示区边缘覆盖第二封框胶；在阵列基板与彩膜基板之间构成至少ー个真空的液晶缓冲区，该液晶缓冲区通过液晶通道与液晶面板显示区相连；步骤405、在液晶面板显示区内滴注液晶后，将阵列基板和彩膜基板进行对盒；其中，当液晶面板显示区中的液晶超过预定阈值时，在第一电极层和第二电极层上施加电压，形成电场，击穿覆盖层，使液晶面板显示区通过液晶通道与液晶缓冲区连通。具体的，可以采用过孔等エ艺在阵列基板和/或彩膜基板接触液晶的表面制作该液晶通道，以便连接液晶面板显示区和液晶缓冲区。具体的，在阵列基板接触液晶的表面制作液晶通道时，先在玻璃基板上依次制作栅层、栅极绝缘层、有源层、源漏电极层和钝化层，其中该源漏电极层作为第一电极层；然后通过过孔エ艺，在钝化层上表面制作一条或一条以上的沟槽作为液晶通道。在彩膜基板接触液晶的表面制作液晶通道时，在玻璃基板上制作黒色矩阵、彩膜树脂；在制作彩膜树脂的过程中，在玻璃基板的非显示区形成非显示区树脂；在彩膜树脂和非显示区树脂上形成公共电极层作为第一电极层；通过刻蚀エ艺，在公共电极层上表面制作一条或一条以上的沟槽作为液晶通道。制作液晶通道后，再采用印刷工艺在液晶通道覆盖树脂材料形成覆盖层，以便隔断液晶通道和液晶面板显示区之间的连通。然后，在覆盖层上形成第二电极层，例如在阵列基板接触液晶的表面制作液晶通道时，在覆盖层上形成公共电极层作为第二电极层；在彩膜基板接触液晶的表面制作液晶通道时，在公共电极层的沟槽的覆盖层上形成第二电极层。该第二电极层可以为IT0(IndiumTin Oxide,氧化铟锡)层。阵列基板和彩膜基板均制作完成后，在阵列基板和/或彩膜基板的液晶面板显示区边缘的覆盖层上覆盖第一封框胶，在液晶面板非显示区边缘覆盖第二封框胶。这样通过该第一封框胶将阵列基板和彩膜基板粘连对盒后，形成用于填充液晶的液晶面板显示区，通过该第二封框胶将阵列基板和彩膜基板粘连对盒后，形成用于分流液晶的真空的液晶缓冲区，该液晶缓冲区通过液晶通道与液晶面板显示区相连。此外，该液晶缓冲区可以为多个，分流液晶时，可以根据实际情况，导通全部或部分液晶缓冲区。由于该液晶通道的下方具有第一电极层，覆盖层上具有第二电极层，液晶面板显示区内的液晶量超过预定阈值吋，可以在第一电极层和第二电极层上分別施加电压，形成电场，以便击穿覆盖层，这样多余的液晶可以流入该液晶缓冲区，且不会产生气泡。其中，该液晶缓冲区的具体结构，请參见图2，在此不再赘述。以在阵列基板制作液晶通道为例，对本发明实施例提供的液晶面板的制作方法进行详细描述，如图5所示，包括以下步骤
步骤501、在玻璃基板上制作栅层；步骤502、在栅层上形成栅极绝缘层；步骤503、形成有源层、源漏电极层作为第一电极层；步骤504、形成钝化层，采用过孔エ艺在该钝化层上形成多条沟槽作为液晶通道；步骤505、采用印刷工艺在该多条沟槽上覆盖树脂作为覆盖层；步骤506、继续制作公共电极层作为第二电极层，完成阵列基板的制作；步骤507、在阵列基板的显示区边缘的树脂上涂覆覆盖第一封框胶，在非显示区边缘涂覆第二封框胶；步骤508、在阵列基板的显不区中滴注液晶；步骤509、将彩膜基板和阵列基板进行对盒。通过上述第二封框胶将阵列基板和彩膜基板粘连对盒后，形成用于分流液晶的、真空的液晶缓冲区，该液晶缓冲区通过上述沟槽与显示区相连。此外，该液晶缓冲区可以为多个，分流液晶时，可以根据实际情况，导通全部或部分液晶缓冲区。液晶面板显示区内的液晶量超过预定阈值时，可以在第一电极层和第二电极层上分別施加电压，形成电场，击穿覆盖层，这样液晶面板显示区内的液晶可以流入该液晶缓冲区，且不会产生气泡。通过上述描述，可以看出，使用本发明实施例提供的液晶面板及其制造方法和显示器，通过在基板与液晶接触的表面制作液晶通道，并在该液晶通道的下方和上方分别设置电极层，然后利用第二封框胶将阵列基板和彩膜基板粘连对盒后，形成用于分流液晶、真空的液晶缓冲区，该液晶缓冲区通过液晶通道与显示区相连。液晶面板显示区内的液晶量过多时，通过在两个电极层上施加电压，形成电场，击穿覆盖层，使得多余液晶可以流入该液晶缓冲区，且不会产生气泡。本领域内的技术人员应明白，本发明的实施例可提供为方法、系统、或计算机程序产品。因此，本发明可采用完全硬件实施例、完全软件实施例、或结合软件和硬件方面的实施例的形式。而且，本发明可采用在一个或多个其中包含有计算机可用程序代码的计算机可用存储介质(包括但不限于磁盘存储器、CD-ROM、光学存储器等)上实施的计算机程序产品的形式。本发明是參照根据本发明实施例的方法、设备(系统)、和计算机程序产品的流程图和/或方框图来描述的。应理解可由计算机程序指令实现流程图和/或方框图中的每ー流程和/或方框、以及流程图和/或方框图中的流程和/或方框的结合。可提供这些计算机程序指令到通用计算机、专用计算机、嵌入式处理机或其他可编程数据处理设备的处理器以产生ー个机器，使得通过计算机或其他可编程数据处理设备的处理器执行的指令产生用于实现在流程图ー个流程或多个流程和/或方框图ー个方框或多个方框中指定的功能的装置。这些计算机程序指令也可存储在能引导计算机或其他可编程数据处理设备以特定方式工作的计算机可读存储器中，使得存储在该计算机可读存储器中的指令产生包括指令装置的制造品，该指令装置实现在流程图ー个流程或多个流程和/或方框图ー个方框或多个方框中指定的功能。这些计算机程序指令也可装载到计算机或其他可编程数据处理设备上，使得在计算机或其他可编程设备上执行一系列操作步骤以产生计算机实现的处理，从而在计算机或、其他可编程设备上执行的指令提供用于实现在流程图ー个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的步骤。尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围 之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
权利要求
1.ー种液晶面板，包括阵列基板和彩膜基板通过第一封框胶将所述液晶填充在液晶面板显示区；其特征在于，还包括 位于液晶面板非显示区的、在阵列基板与彩膜基板之间构成的至少ー个真空的液晶缓冲区；以及 连通所述液晶缓冲区和液晶面板显示区的、设置于所述阵列基板和/或彩膜基板上的液晶通道；以及 位于所述液晶通道与所述液晶面板显示区相连处、隔断所述液晶通道与所述液晶面板显示区连通的覆盖层；以及 位于所述液晶通道下方的第一电极层和位于所述覆盖层上方的第二电极层； 当所述液晶面板显示区中的液晶量超过预定阈值时，在所述第一电极层和所述第二电极层上施加电压，形成电场，击穿所述覆盖层，使所述液晶面板显示区通过所述液晶通道与所述液晶缓冲区连通。
2.如权利要求I所述的液晶面板，其特征在于，所述液晶缓冲区在所述阵列基板和所述彩膜基板之间，由所述第一封框胶和第二封框胶构成，或者由第二封框胶构成。
3.如权利要求I所述的液晶面板，其特征在于，所述液晶通道为所述阵列基板和/或所述彩膜基板与所述液晶接触的表面上的至少一条沟槽。
4.如权利要求3所述的液晶面板，其特征在于，所述沟槽为带状沟槽。
5.如权利要求I所述的液晶面板，其特征在于，所述液晶通道位于阵列基板时，所述第一电极层为源漏电极层，所述第二电极层为公共电机层。
6.如权利要求I所述的液晶面板，其特征在于，所述覆盖层的材料为树脂材料。
7.—种显示器，其特征在于，包括如权利要求1-6中任一所述的液晶面板。
8.ー种液晶面板的制作方法，其特征在于，包括 在阵列基板和/或彩膜基板接触液晶的表面制作液晶通道；所述液晶通道下方具有第一电极层； 在所述液晶通道上形成覆盖层； 在所述覆盖层上形成第二电极层； 在所述阵列基板和/或彩膜基板的液晶面板显示区边缘的覆盖层上覆盖第一封框胶，在液晶面板非显示区边缘覆盖第二封框胶；在所述阵列基板与彩膜基板之间构成至少ー个真空的液晶缓冲区，所述液晶缓冲区通过所述液晶通道与所述液晶面板显示区相连； 在所述液晶面板显示区内滴注液晶后，将所述阵列基板和所述彩膜基板进行对盒； 其中，当所述液晶面板显示区中的液晶量超过预定阈值时，在所述第一电极层和所述第二电极层上施加电压，形成电场，击穿所述覆盖层，使所述液晶面板显示区通过所述液晶通道与所述液晶缓冲区连通。
9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，在阵列基板接触液晶的表面制作液晶通道，包括 在玻璃基板上依次制作栅层、栅极绝缘层、有源层、源漏电极层和钝化层；所述源漏电极层作为第一电极层； 通过过孔エ艺，在所述钝化层上表面制作一条或一条以上的沟槽作为液晶通道。
10.如权利要求8所述的方法，其特征在于，在彩膜基板接触液晶的表面制作液晶通道，包括 在玻璃基板上制作黒色矩阵、彩膜树脂； 在制作黒色矩阵或彩膜树脂的过程中，在玻璃基板的非显示区形成非显示区树脂； 在彩膜树脂和非显示区树脂上形成公共电极层作为第一电极层； 通过刻蚀エ艺，在所述公共电极层上表面制作一条或一条以上的沟槽作为液晶通道。
11.如权利要求9或10所述的方法，其特征在于，在所述液晶通道上形成覆盖层，包括在所述沟槽上覆盖树脂材料，形成覆盖层，隔断所述液晶通道和所述液晶面板显示区之间的连通。
12.如权利要求11所述的方法，其特征在于，在所述覆盖层上形成第二电极层，包括 在阵列基板接触液晶的表面制作液晶通道时，在所述覆盖层上形成公共电极层作为第ニ电极层； 在彩膜基板接触液晶的表面制作液晶通道时，在所述公共电极层的沟槽的覆盖层上形成第二电极层。
全文摘要
本发明涉及液晶显示领域技术，尤其涉及一种液晶面板及其制造方法和显示器，该液晶面板，包括位于液晶面板非显示区的、由封框胶在阵列基板与彩膜基板之间构成的至少一个真空的液晶缓冲区；连通液晶缓冲区和液晶面板显示区的、设置于阵列基板和/或彩膜基板上的液晶通道；位于液晶通道与液晶面板显示区相连处、隔断液晶通道与液晶面板显示区连通的覆盖层；以及位于液晶通道下方的第一电极层和位于覆盖层上方的第二电极层。使用本发明实施例提供的液晶面板及其制造方法和显示器，将显示区过多的液晶分流到液晶缓冲区中，避免液晶量过多造成的画面不均匀。
文档编号G02F1/1335GK102650772SQ201110362380
公开日2012年8月29日 申请日期2011年11月15日 优先权日2011年11月15日
发明者李辉, 林海云, 赵承潭, 闵泰烨, 陈旭 申请人:北京京东方光电科技有限公司