保护剂供给构件、保护层形成装置及成像设备的制作方法

专利名称：保护剂供给构件、保护层形成装置及成像设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种保护剂供给构件、一种保护层形成装置、以及一种成像设备。
背景技术：
不论所用的显影系统是什么，传统电子照相系统的成像设备一般对其大致为鼓状或带形的图像承载构件(常常称为感光体)均勻充电，在转动载像体的同时，用激光之类在图像承载构件上形成潜像图案，且通过其显影装置使潜像可视化而形成可见的图像，接着将可见图像(调色剂图像)转印到转印介质以形成图像。在调色剂图像转印到转印介质上之后，一些未被转印的调色剂残留物保持在图像承载构件上。如果图像承载构件带着这些残留物经受充电处理，这些残留物会影响图像承载构件的均勻充电。所以，在转印步骤之后，通常在清洁步骤中去除残留在图像承载构件上的残留物之类，在图像承载构件的表面已经彻底清洁的情况下进行充电。在成像的各个步骤中，存在各种物理应力和电应力。随着时间的流逝，已经接受各种物理应力或电应力的图像承载构件改变其表面状况。例如，已经公知，在上述应力中，在清洁步骤中摩擦力造成的应力磨损图像承载构件，并在图像承载构件上形成划痕。为了解决上述问题，已经公知，在图像承载构件上施加保护剂是有效的。通过在图像承载构件上涂覆保护剂，图像承载构件表面的摩擦系数减小，抑制了清洁刮片或图像承载构件的劣化，并且，提高了例如由于转印在图像承载构件上沉积的调色剂残留物的释放性能，及时防止产生清洁失败，或者防止镀膜的出现。作为一种往图像承载构件上涂覆保护剂的技术，公开了一种保护层形成装置，包括保护剂块；保护剂供给构件，由可转动的刷构件形成，用于与保护剂块相接触并将其上所承载的保护剂涂覆到图像承载构件；以及保护剂按压构件，用于按压保护剂块，以使保护剂块与保护剂供给构件相接触(参见，例如，日本专利申请特许公开(JP-A)第2007-65100 号)。但是，在所提出的这种技术中，大量通过可转动的刷构件的转动从保护剂块刮除的保护剂的粉末扩散，从而造成大量保护剂的浪费。而且，由于刷纤维随着时间的流逝而收缩(collapse)或者磨损，保护剂的消耗量不稳定，所以可能无法长期提供恒定量的保护剂。为了解决这个问题，公开了一种技术，使用具有泡沫层并呈辊形的保护剂供给构件作为保护层形成装置的保护剂供给构件(参见，例如，JP-A第2009-150986号)。根据所提出的这种技术，几乎不会产生由于磨损造成的保护剂粉末的扩散。但是，在这种技术中，具有泡沫层并呈辊形的保护剂供给构件是软的，因而其刮擦保护剂块的力较小。结果，保护剂不能充分地涂覆在图像承载构件上，可能很难充分地防止图像承载构件的镀膜。如果试图通过以更高压力来按压保护剂块来增加保护剂供给构件所刮除的保护剂块的量，大负荷施加到保护剂块上，保护剂块不能在长度方向上被均勻地刮擦，这会造成保护剂块长度方向上保护剂的供给量的变化。结果，在保护剂的供给量较小的地方，图像承载构件上没有保护剂的保护作用，在这样的部分会产生镀膜。因此，当前的情况是，希望有一种具有泡沫层并呈辊形的保护剂供给构件，能够减小因磨损造成的保护剂粉末的扩散，不需要使用大量保护剂，并能够防止镀膜，还希望有一种采用该保护剂供给构件的保护层形成装置。

发明内容
本发明旨在解决现有技术中存在的各种问题，并达到如下目的。本发明的一个目的是提供一种保护剂供给构件，其能防止由于具有泡沫层的辊形保护剂供给构件的摩擦造成的粉末状保护剂的扩散、抑制保护剂的消耗量、且可防止镀膜，还提供使用该保护剂供给构件的一种保护层形成装置以及使用该保护剂供给构件的成像设备。用于解决上述问题的方法如下<1> 一种保护剂供给构件，包括芯部；以及形成于芯部圆周上的泡沫层，其中保护剂供给构件是辊形，以及其中泡沫层具有在其表面上均勻布设的凹陷。<2>如<1>所述的保护剂供给构件，其中保护剂供给构件满足如下关系0.5mm，禾口a2 ^ 0. 2mm,其中al是泡沫层的内圆周表面与凹陷的底面之间的平均距离，a2是凹陷的底面与凹陷的顶面之间的平均距离。<3>如<1>或<2>所述的保护剂供给构件，其中保护剂供给构件具有如下范围内的 c/b比率0. 25 彡 c/b ^ 0. 75,其中b是彼此相邻的一对凹陷之间的平均距离，c是彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的平均宽度。<4>如<1>至<3>中任意一个所述的保护剂供给构件，其中凹陷布设成网格图案。<5>如<4>所述的保护剂供给构件，其中布设成网格图案的凹陷具有分别在以下范围内的比率cl/bl和c2/b2 0. 25 彡 cl/bl 彡 0. 75，和0. 25 彡 c2/b2 彡 0. 75，其中bl是相对于一个方向彼此相邻的一对凹陷之间的平均距离，Cl是相对于所述一个方向彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的平均宽度，b2是相对于与所述一个方向垂直的方向彼此相邻的一对凹陷之间的平均距离，c2是相对于与所述一个方向垂直的方向上彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的平均宽度。<6>如<1>至<5>中任意一个所述的保护剂供给构件，其中泡沫层包括聚亚安酯泡沫。<7>如<1>至<6>中任意一个所述的保护剂供给构件，其中泡沫层是互连胞孔结构(interconnected cell structure)的泡沫层。<8>如<1>至<7>中任意一个所述的保护剂供给构件，其中泡沫层每英寸包含 25-300个胞孔，并具有50N至500N的硬度。<9> 一种保护层形成装置，包括保护剂块；以及由<1>至<8>中任意一个所限定的保护剂供给构件。<10>如<9>所述的保护层形成装置，其中保护剂块包含脂肪酸金属盐和无机润滑剂。<11>如<10>所述的保护层形成装置，其中脂肪酸金属盐是硬脂酸锌。<12>如<10>或<11>所述的保护层形成装置，其中无机润滑剂是氮化硼。<13>如<9>至<12>中任意一个所述的保护层形成装置，还包括压力施加构件，用于按压保护剂块以使保护剂块与保护剂供给构件相接触；以及保护层形成构件，用于摊薄涂覆在图像承载构件表面上的保护剂以形成保护层。<14> 一种成像方法，包括在图像承载构件上形成静电潜像；用调色剂使静电潜像显影以形成可见图像；将可见图像转印到记录介质上；可见图像已经从图像承载构件转印后，将保护剂涂覆到图像承载构件的表面上以形成保护层；将转印后的可见图像定影到记录介质上；其中由<9>至<13>中任意一个所限定的保护层形成装置进行涂覆。<15> —神成像设备，包括图像承载构件；静电潜像形成构件，用于在图像承载构件上形成静电潜像；显影单元，用于用调色剂使静电潜像显影以形成可见图像；转印单元，用于将可见图像转印到记录介质上；保护层形成单元，用于在可见图像已经从图像承载构件转印后，将保护剂涂覆到图像承载构件的表面上以形成保护层；以及定影单元，用于将转印后的可见图像定影到记录介质上，其中保护层形成单元是由<9>至<13>中任意一个所限定的保护层形成装置。<16> 一种处理盒，包括图像承载构件；以及如<9>至<13>中任意一个所限定的保护层形成装置，
其中处理盒可拆卸地安装在成像设备的主体上。 本发明能解决前面所述的本领域中的各种问题，并能提供一种保护剂供给构件， 其能防止由于具有泡沫层的辊形保护剂供给构件的摩擦造成的粉末状保护剂的扩散、抑制保护剂的消耗量、且可防止镀膜，还提供使用该保护剂供给构件的一种保护层形成装置以及使用该保护剂供给构件的成像设备。


图1是本发明保护剂供给构件一个实施例的示意性正视图。图2是图1中保护剂供给构件的剖面图。图3是图2所示内容的一部分的放大示图。图4是泡沫层表面的一个实施例的放大剖面图。图5是本发明保护剂供给构件另一实施例的示意性正视图。图6是本发明保护剂供给构件另一实施例的示意性正视图。图7是本发明保护剂供给构件另一实施例的示意性正视图。图8是图6所示的保护剂供给构件的泡沫层的表面的放大示图。图9是闭合孔结构的泡沫层的实施例的示意性剖面图。图10是互连胞孔结构的泡沫层的实施例的示意性剖面图。图IlA是保护剂供给构件实施例的正视图。图IlB是保护剂供给构件的泡沫层的实施例的放大示图。图12是使用保护剂块制造装置通过压缩制成保护剂块的过程的透视图。图13是图12所示制造装置的侧面剖视图。图14是保护剂块的形状的一个实施例的示图。图15是本发明保护层形成装置的一个实施例的示意性剖视图。图16是本发明成像设备的一个实施例的示意性剖视图。图17是本发明处理盒的一个实施例的示意性剖视图。
具体实施例方式保护剂供给构件
本发明的保护剂供给构件至少包括芯部和泡沫层，如有必要还可以包括其它构件。保护剂供给构件是辊形。芯部芯部的材料、形状、尺寸和结构可以根据想达到的目的适当选择，而没有任何限制。芯部的材料的例子包括树脂和金属。树脂的例子包括环氧树脂和酚树脂。金属的例子包括铁、铝和不锈钢。芯部的形状的例子包括柱形和圆柱形。泡沬层泡沫层形成于芯部的圆周上。泡沫层在其表面上具有凹陷。在保护剂供给构件与图像承载构件相接触的区域(夹持部)，同时发生以下两个动作(1)保护剂供给构件将保护剂涂覆到图像承载构件上的动作，(2)保护剂供给构件将保护剂从图像承载构件上清除的动作。由于泡沫层在其表面上布设有凹陷，保护剂供给构件与保护剂块的接触区域较小。由于接触面积小，所以施加到图像承载构件上的压力减小，清除施加到图像承载构件上的保护剂的动作被抑制。所涂覆的保护剂会很长时间不被刮除，图像承载构件可以连续得以保护。结果，能够防止图像承载构件的镀膜。凹陷
泡沫层的表面上具有规则地布设的凹陷。术语“规则地布设”意指基本上相同的形状、基本上相同的尺寸且基本上均勻地布设在泡沫层的表面上的凹陷。泡沫层的内圆周表面与凹陷的底面之间的平均距离(al)可以根据想达到的目的适当选择，而无任何限制，但优选0. 5mm或更大(al彡0. 5mm)，更加优选2. Omm至2. 8mm (2. Omm ^ al ^ 2. 8mm)。当平均距离(al)小于0. 5mm时，防止图像承载构件镀膜的效果以及防止充电构件污染的效果可能较差。反之，当平均距离(al)在上述更加优选的范围内时，由于能获得优良的防止图像承载构件镀膜的效果，则较有利。泡沫层的内圆周表面与凹陷的底面之间的平均距离(al)是通过测量随机选择的 5个点处的泡沫层的内圆周表面与凹陷的底面之间的距离所获得的值的平均值。凹陷的底面与凹陷的顶面之间的平均距离(a2)可以根据想要达到的目的适当选择，而无任何限制，但优选0. 2mm或更大(a2彡0. 2mm)，更加优选0. 2mm至 1. Omm(0. 2mm彡a2彡1. Omm)。当平均距离(a”小于0. 2mm时，防止图像承载构件镀膜的效果以及防止充电构件污染的效果可能较差。反之，当平均距离(a2)在上述更加优选的范围内时，由于能获得优良的防止图像承载构件镀膜的效果，则较有利。凹陷的底面与凹陷的顶面之间的平均距离(a2)是通过测量随机选择的5个点处凹陷的底面与凹陷的顶面之间的距离所获得的值的平均值。根据想要达到的目的，适当选择彼此相邻的一对凹陷之间的平均距离(b)、彼此相邻的一对凹陷之间出现的泡沫层的平均宽度(C)、以及比值(c/b)，无任何限制，但比值(C/ b)优选为0. 25至0. 75 (0. 25 ( c/b ( 0. 75)。当比值(c/b)小于0. 25时，防止图像承载构件镀膜的效果会较差。当比值(c/b)大于0. 75时，防止图像承载构件镀膜的效果会较差。当比值(c/b)在上述优选的范围内时，由于能获得优良的防止图像承载构件镀膜的效果，则较有利。而且，当平均距离(al)为2. Omm彡al彡2. 7mm时，比值(c/b)优选0. 5彡c/ b 彡 0. 75。当平均距离(al)为2. 7mm彡al彡2. 8mm时，比值(c/b)优选0. 25彡c/b彡0. 5。通过计算测量在随机选择的5个点处两个相邻凹陷得到的值的平均值，可以获得彼此相邻的一对凹陷的平均距离(b)。通过计算测量在随机选择的5个点处两个相邻凹陷之间的泡沫层的宽度得到的值的平均值，可获得彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的平均宽度(c)。根据想要达到的目的选择适当的泡沫层中凹陷的形状和布置，而无任何限制。凹陷的形状的例子基本上包括四棱柱形。泡沫层中的凹陷的形状和布置的例子包括一实施例，其中每个基本上呈四棱柱形形的凹陷在基本平行于保护剂供给构件的轴向的方向上排列，并布置成在保护剂供给构件的圆周方向上相邻两者之间具有恒定间隔，另一实施例中，每个基本上呈四棱柱形的凹陷布设成网格图案。在凹陷布设成网格图案(也称为棋盘图案)的情况下，根据想达到的目的，适当地选择彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的平均宽度(Cl)与在一个方向上彼此相邻的一对凹陷之间的平均距离(bl)的比值(cl/bl)，而无任何限制，但优选0.25 Scl/ bl<0.75。当比值(cl/bl)小于0.25mm时，防止图像承载构件镀膜的效果可能较差。当比值(cl/bl)大于0.75mm时，防止图像承载构件镀膜的效果可能较差。反之，当比值(cl/ bl)在上述更加优选的范围内时，由于能获得优良的防止图像承载构件镀膜的效果，则较有利。而且，在凹陷布设成网格图案的情况下，根据想达到的目的适当地选择彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的平均宽度(W)与在垂直于上述一个方向的方向上彼此相邻的一对凹陷之间的平均距离( )的比值(c2A2)，而无任何限制，但优选0.25<c2/ Id2<0.75。当比值(c2A2)小于0.25mm时，防止图像承载构件镀膜的效果可能较差。当比值(c2/b2)大于0.75mm时，防止图像承载构件镀膜的效果可能较差。反之，当比值(c2/ b2)在上述更加优选的范围内时，由于能获得优良的防止图像承载构件镀膜的效果，则较有利。通过测量在随机选择的5个点处的两个相邻凹陷的距离(bl’ )或者两个相邻凹陷的距离(b2’)，并从测量到的数值计算平均值，可以分别获得彼此相邻的一对凹陷的平均距离(bl)以及彼此相邻的一对凹陷的平均距离0^)。通过测量在随机选择的5个点处的彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的宽度(cl’ )或者彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的宽度(c2’)，并从测量到的数值计算平均值，可以获得彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的平均宽度(cl)以及彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的平均宽度 (c2)。下面参照附图解释凹陷的形状和布置。图1是本发明保护剂供给构件一个实施例的示意性正视图。图2是图1中保护剂供给构件的剖面图。图1和2中的保护剂供给构件 25具有辊形芯部23以及设置在芯部23圆周上的圆筒形泡沫层对。而且，在泡沫层M上， 凹陷26在基本平行于保护剂供给构件25的轴向的方向上排列，并且基本上沿着保护剂供给构件25的圆周方向以相等间隔均勻布设。各凹陷沈呈立方体形。图3是图2的部分放大示图。标记al’表示泡沫层的内圆周表面与凹陷底面之间的距离，标记a2’表示凹陷的底面与凹陷的顶面之间的距离，标记b’表示彼此相邻的一对凹陷之间的距离，标记C’表示彼此相邻的一对凹陷之间出现的泡沫层的宽度。在本说明书中，术语凹陷是指以外表面27作为基准平面，在泡沫层M的最外层表面27上形成的凹陷26。如果凹陷的底面不是平面，为了测量泡沫层的内圆周表面与凹陷的底面之间的距离，凹陷的底面的标准是基于连接凹陷中两个壁的最小距离的中心与包括凹陷的壁的中心的辊形保护剂供给构件的横截面圆的中心的连线与凹陷之底面的交点。换言之，凹陷底面与凹陷顶面之间的距离(a2’ )是凹陷的深度。凹陷的顶面是构成泡沫层的最外层表面27的一部分的平面。彼此相邻的一对凹陷之间的距离(b’)是两个相邻凹陷中的另一凹陷一侧的凹陷的顶面的一端与面向上述两个相邻凹陷中的相邻凹陷这一侧的另一凹陷的顶面一端之间的距离。彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的宽度 (c’ )是泡沫层的外表面27上的两个相邻凹陷之间的宽度方向上存在的泡沫层的宽度。下面参照图5至7描述凹陷的布置的其它实施例。图5是保护剂供给构件的另一实施例的示意性正视图。图5中，保护剂供给构件 25是辊形，并具有芯部23以及在芯部23圆周上的圆筒形泡沫层24。而且，在泡沫层M中， 凹陷沈在与保护剂供给构件25的轴向成一定角度的方向上排列，并在垂直于与上述一定角度的方向平行的方向的方向上基本上以相等间距均勻布设。各凹陷26基本上呈四棱柱形，并以螺旋式布设。图6是保护剂供给构件另一实施例的示意性正视图。图6中所示的保护剂供给构件25包括辊形芯部23以及在芯部23圆周上的圆筒形泡沫层24。而且，在泡沫层M中，各凹陷沈基本上呈四棱柱形，并均勻地形成为网格图案(也称为棋盘图案)。保护剂供给构件具有网格图案，其中各凹陷和泡沫体交替地在轴向和圆周方向(即，与轴向垂直的方向) 上排列。图7是保护剂供给构件另一实施例的示意性正视图。图7中所示的保护剂供给构件25包括辊形芯部23以及在芯部23圆周上的圆筒形泡沫层24。而且，在泡沫层M中，各凹陷沈基本上呈四棱柱形，并均勻地布设成网格图案(也称为棋盘图案)。保护剂供给构件具有网格图案，其中各凹陷和泡沫体交替地在与轴向呈45度角的轴向上以及与上述方向垂直的方向上排列。下面参照附图解释彼此相邻的一对凹陷之间的距离(bl’ )、彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的宽度(Cl’)、彼此相邻的一对凹陷之间距离(b2’ )以及彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的宽度(c2’)。图8是图6中的保护剂供给构件的表面的放大示图。在图8中，凹陷沈排列成网格图案(棋盘图案)。在图8中，彼此相邻的一对凹陷之间的距离(bl’ )是保护剂供给构件的轴向上彼此相邻的两个凹陷之间的距离；彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的宽度(Cl，)是保护剂供给构件的轴向上彼此相邻的两个凹陷之间存在的泡沫层的宽度；彼此相邻的一对凹陷之间距离(b2’)是保护剂供给构件的圆周方向上彼此相邻的两个凹陷之间的距离；彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的宽度(c2’ )是保护剂供给构件的圆周方向上彼此相邻的两个凹陷之间存在的泡沫层的宽度。在保护剂供给构件中，优选凹陷基本上均勻地形成于泡沫层中，以防止图像承载构件整个表面上发生镀膜。但是，只要获得的泡沫层不会影响本发明的预期效果，泡沫层的一部分上可以不形成凹陷。例如，凹陷可以形成也可以不形成在泡沫层的边缘处，这里会与没有用调色剂形成可见图像(调色剂图像)的图像承载构件的边缘接触。根据想达到的目的适当选择泡沫层中凹陷的形成方法，而无任何限制。其实施例包括利用能够在泡沫层的模制过程中在泡沫层的最外层表面上形成凹陷的模具而在泡沫层中形成凹陷的方法，以及以凹陷形状切除凹形泡沫层的最外层表面以在泡沫层中形成凹陷的方法。图4是泡沫层的表面的剖面放大示图。如图4所示，泡沫层在其内部和其表面上具有微孔观。因此，由于这些不规则排列的微孔所形成的凹陷出现在泡沫层的表面上。为了测量泡沫层中的各种距离，以泡沫层的最外层表面作为标准。如图4所示，最外层表面是其中存在构成泡沫层M的材料(暴露出的表面27)的泡沫层对的最外层平面。 注意，对于泡沫层M的凹陷的底面，存在构成泡沫层M的材料的泡沫层M的最外层平面用作测量基准。而且，对于泡沫层M的内圆周表面，与最外层平面27类似，存在构成泡沫层M的材料的最内层平面用作测量泡沫层的厚度的基准。根据想达到的目的适当选择泡沫层的材料，而无任何限制，其实施例包括聚亚安酯泡沫。聚亚安酯泡沬根据想达到的目的无限制地适当选择聚亚安酯泡沫，其实施例包括至少混合多元醇、多异氰酸酯、催化剂和发泡剂预制成的聚亚安脂泡沫，还可适当地在其中混合其它物质，例如泡沫调节剂，并允许混合物反应。多元醇根据想达到的目的适当选择聚亚安脂泡沫，而无任何限制，其实施例包括聚醚多元醇、聚酯多元醇。在上面列出的原料中，优选聚醚多元醇，因为它具有理想的加工特性，而且很容易控制所产生的泡沫层的硬度。聚醚多元醇是，例如，通过环氧乙烷、或环氧丙烷、或这两者与引发剂开环加成聚合预制的聚醚多元醇，这是有2到8个活性氢的基团的低分子量的聚醚多元醇，或是具有2 至8个活性氢基团的低分子量的多胺，或两者兼而有之。而且，聚醚多元醇是，例如，选自在制备软质聚亚安脂泡沫时常用的那些，例如聚醚聚醚多元醇，聚酯聚醚多元醇，聚合物聚醚多元醇。对于聚醚多元醇，为了具有更好的可成形性能，优选其最终产品中环氧乙烷占 5mol %的或更多的聚醚聚醚多元醇。聚酯多元醇的实施例包括通过二元酸或其酸酐(如己二酸，邻苯二甲酸酐，间苯二甲酸，对苯二甲酸，顺丁烯二酸酐)与乙二醇或三醇(如乙二醇，二甘醇，三甘醇，丙二醇， 二丙二醇，1，4" 丁二醇，甘油，三羟甲基丙烷)聚合得到的聚酯多元醇。而且，关于聚酯多元醇，也可以使用对苯二甲酸乙二醇酯树脂的聚乙烯废料与上面列出的乙二醇解聚获得。上述所列的多元醇，可单独使用或组合使用。聚亚安酯根据想达到的目的无限制地适当选择聚亚安酯，其实施例包括2，4_甲代亚苯基(2,4-TDI) ,2,6- 二异氰酸盐 0，6-TDI)，tolidinedusocyanate (TODI)，亚萘基二异氰酸盐(NDI)，亚二甲苯基二异氰酸盐O(DI)，4，4' -二苯基甲烷二异氰酸盐(MDI)，碳二酰亚胺改性MDI，聚甲烯聚苯基聚异氰酸酯，高分子量的多异氰酸酯。可单独使用或组合使用聚异氰酸酯。根据想达到的目的适当选择聚异氰酸酯的用量，而无任何限制，例如，当三甘醇的异氰酸酯基团与多元醇的羟基等比例(NC0/0H)时，其范围是1. 0到3. 0。催化剂根据想达到的目的适当选择催化剂，而无限制，其实施例包括胺为基础的催化剂，有机金属基催化剂。胺基催化剂的例子包括三乙烯二胺，二甲基乙醇胺，二( 二甲氨基)乙醚。有机金属基催化剂的例子包括二辛基锡，distearyl tin dibutylate。催化剂可以是一种反应的催化剂，如具有活性氢的二甲氨基乙醇。这些可独立或组合使用。根据想达到的目的无限制地适当选择催化剂的用量，例如，100质量份的多元醇加入0. 01质量份至20质量份的催化剂。发泡剂根据想达到的目的无限制地适当选择发泡剂，其实施例包括水，氟碳化合物，低沸点烃类化合物。氟碳化合物的例子包括HCFC-141b，HFC-13^，HFC-M5fa，HFC-365mfc。低沸点烃类化合物的例子包括环戊烷，正戊烷，异戊烷，正丁烷。作为发泡剂，这些可单独使用或组合。根据想达到的目的无限制地适当选择发泡剂的用量，例如，100质量份的多元醇加入5质量份至50质量份的发泡剂。泡沬调节剂根据想达到的目的无限制地适当选择泡沫调节剂，其实施例包括有机硅表面活性剂。有机硅表面活性剂商业产品的例子包括二甲基硅氧烷为基础的泡沫调节剂(例如， Dow Coming Toray Co. ,Ltd.生产的SRX-253和Shin-Etsu Chemical Co.生产的F-122)，以及聚醚改性二甲基硅氧烷为基础的泡沫调色剂(例如，均由NipponUnicarCompanyLimited 生产的L-5309和SZ-1311)。根据想达到的目的无限制地适当选择泡沫调节剂的用量，例如，100质量份的多元醇加入0. 2质量份至10质量份的泡沫调节剂。其他物质其他物质的例子包括交联剂、消泡剂之类，用于控制闭合孔或互连胞孔的形成。根据想达到的目的适当选择交联剂，而无任何限制，其实施例包括三乙醇胺，二乙醇胺。根据想达到的目的无限制地适当选择消泡剂，其实施例包括上述提到的作为泡沫调色剂的具有高消泡能力的泡沫调色剂。对于聚亚安脂泡沫塑料，常用的一种方法中，预混排除聚异氰酸酯的聚亚安脂泡沫原料，在就要成型前将得到的混合物与聚异氰酸酯混合。根据想达到的目的适当选择泡沫层的形状，而无任何限制。例如，它是圆筒形。根据想达到的目的适当选择泡沫层的平均厚度，而无任何限制。为了小型化并减轻最终得到的装置的重量，其平均厚度优选Imm至5mm。如果泡沫层是圆筒形，圆筒的内圆周表面和外表面之间的距离(A)确定为厚度， 如图3所示。在本说明书中，平均厚度是在泡沫层上随意选择的5个点处测量的泡沫层厚度的值的平均值。根据想达到的目的适当选择泡沫层的结构，而无任何限制，其例子包括包含闭合胞孔(isolated cell)的结构，以及含有互连胞孔(interconnected cell)的结构。其中， 优选包含互连胞孔的结构，因为这种结构的泡沫层具有较小的压缩残余应变，因而泡沫层在压缩后容易返回到原来的形状，长期使用后也很难变形。需要注意的是，闭合胞孔结构的泡沫层是这样的泡沫层，其结构具有闭合孔(也可称为“胞孔”)，且不允许空气或水通过，如图9所示。互连胞孔结构的泡沫层是这样的泡沫层，其结构中相邻胞孔彼此连接，且允许空气或水通过，如图10所示。根据想达到的目的适当选择泡沫层中胞孔的数量，而无任何限制，但优选每英寸 25至300个，更优选每英寸50至150个。当胞孔数量小于每英寸25个时，难以防止图像承载构件的镀膜。当其数量大于每英寸300个时，也可能难以防止图像承载构件上的镀膜。反之，当胞孔的数量在上述优选范围内时，由于能获得优良的防止图像承载构件镀膜的效果， 则较有利。胞孔的数量是通过以下方法测量出的平均值。在泡沫层表面上随机选择3个点 (图IlA中的20和21)作为测量点，三个点分别是在相对于保护剂供给构件轴向上邻近泡沫层的边缘的部分、以及中心部分。需要注意的是，图IlA是保护剂供给构件的正视图。保护剂供给构件25具有在芯部23圆周上设置的泡沫层24。在图IlA中，20表示边缘处的测量点，而21表示位于中心部分的测量点。接着，在各测量点处，在圆周方向上再选择两个点(图IlA中未示出)，从而总共选择9个点作为测量点。然后，通过显微镜观察每个测量点的摄影图像。如图IlB所示，在摄影图像的中心部分，画一条全尺寸对应于1英寸(大约 25mm)长度的直线22，数出沿着直线存在的胞孔的数量，获得在9个测量点处得到的数量的平均值。注意，与1英寸长的直线22相接触的胞孔，无论多么微小，都会被计为一个。在图 IlB所示的例子中，例如，胞孔的数量是12。根据想达到的目的适当选择泡沫层的硬度，无任何限制。但优选50N至500N，理优选100N至300N。当其硬度小于50N时，难以防止图像承载构件的镀膜。当其硬度大于500N 时，也可能难以防止图像承载构件上的镀膜。反之，当其硬度在上述更加优选的范围内时， 由于能获得优良的防止图像承载构件镀膜的效果，则较有利。所述硬度是根据JIS K 6400 所述的方法，在泡沫层的表面上随机选择3个点测量硬度得到的值的平均值。可以通过适当调整所使用的聚亚安脂泡沫的原料、所使用发泡剂的量以及在生产聚亚安脂泡沫过程中的反应条件，来控制泡沫层的结构，例如闭合胞孔结构和互连胞孔结构，泡沫层中胞孔的数量，泡沫层的硬度。根据想达到的目的适当选择保护剂供给构件的生产方法，而无任何限制。作为保护剂供给构件生产方法的一个实施例，下面解释生产实施例，其中聚亚安脂泡沫用作泡沫层的原料。首先，使聚亚安脂泡沫的原料起泡，并通过形成聚亚安脂泡沫的传统方法中的任何一种形成块状。将块状聚亚安脂泡沫切成预定形状，其表面被抛光，并被处理成其表面上具有开口胞孔的圆筒形聚亚安脂泡沫。之后，芯部被插入圆筒的内部。可以在芯部上涂覆胶粘剂以提高与泡沫层之间的粘合。之后，用能够进行精细加工的研磨或切削的方法切除聚亚安脂泡沫制成的泡沫层的表面部分以形成凹陷。用上述方法生产保护剂供给构件。下面将解释生产保护剂供给构件的另一实施例。聚亚安脂泡沫的原料被倒入保护剂供给构件的模具中，其中已经放置了芯部，然后使聚亚安脂泡沫的原料起泡并熟化。为了在熟化过程中在泡沫层表面上形成凹陷，在熟化将会接触到的模具的表面上形成凸起部分。用上述方法生产保护剂供给构件。在使用模具的生产方法中，优选在形成具有理想孔隙的泡沫层的模具的内表面上设置氟树脂包衣剂或释放剂的释放层，而无需任何复杂处理。保护层形成装置本发明的保护层形成装置至少包括保护剂块和保护剂供给构件，如有必要，还可包括其它构件，如压力施加构件和保护层形成构件。保护剂块根据想达到的目的适当选择保护剂块而无任何限制，其实施例包括至少含有脂肪酸金属盐并适当地包含如无机润滑剂的其它物质的保护剂块。脂肪酸金属盐根据想达到的目的无限制地适当选择脂肪酸金属盐，其实施例包括硬脂酸金属盐，油酸金属盐，棕榈酸酯金属盐，辛酸金属盐，亚麻酸金属盐，蓖麻醇酸金属盐。硬脂酸金属盐的例子包括硬脂酸钡，硬脂酸铅，硬脂酸铁，镍硬脂酸，钴，硬脂酸硬脂酸铜，锶硬脂酸， 硬脂酸钙，硬脂酸镉，硬脂酸镁，硬脂酸锌。油酸金属盐的例子包括锌油酸，油酸镁，铁油酸， 钴油酸，铜油酸，油酸铅，锰油酸。棕榈酸金属盐的例子包括棕榈酸锌，棕榈酸钴，导致棕榈酸，棕榈酸镁，铝棕榈酸，钙棕榈。辛酸金属盐的例子包括铅辛酸。亚麻酸金属盐的例子包括锌亚麻酸，亚麻酸占，钙亚麻酸。蓖麻醇酸金属盐的例子包括蓖麻醇酸酯锌，蓖麻醇酸酯镉。其中，考虑到抑制图像承载构件镀膜的优良性能，优选硬脂酸金属盐，更加优选硬脂酸锌。上述脂肪酸金属盐可独立或组合使用。无机润滑剂保护剂块优选包含无机润滑剂，用于防止充电构件的污染。根据想达到的目的无限制地适当选择无机润滑剂，其实施例包括云母，氮化硼，二硫化钼，二硫化钨，滑石，高岭土，蒙脱石，氟化钙和石墨。其中，优选氮化硼，因为它具有抑制充电构件污染的优良性能。 上述无机润滑剂可用于独立或组合。根据想达到的目的无限制地适当选择脂肪酸金属盐和无机润滑剂的配比(脂肪酸金属盐/无机润滑剂(按质量))，但优选100/0至50/50，更优选95/5至60/40。当在配比中脂肪酸金属盐小于50/50时，可能难以防止图像承载构件上的镀膜。反之，当配比在上述优选范围内时，由于能获得优良的防止图像承载构件镀膜的效果，则较有利。根据想达到的目的无限制地适当选择保护剂块的尺寸和形状，但其形状例如是棒形。棒形的实施例包括四棱柱和圆柱形。根据想达到的目的无限制地适当选择形成保护剂块的方法，其实施例包括压缩和融合成型。MM根据想达到的目的无限制地适当选择压缩的方法。下面参照附近描述压缩的方法的一个实施例。图12是用形成保护剂块的设备通过压缩形成保护剂块的过程的透视图。图 13是图12中设备的剖面侧视图。如图12和13所示，用于形成保护剂块50的设备包括下模51 ；—对侧模52，该对侧模52夹持下模51，并且提供在长度方向上延伸的保护剂块的侧平面；一对边模53，该对边模53夹持下模51和侧模52，并且提供相对于长度方向的保护剂块的边缘平面；以及上模54。在图12中，一个边模53处于分解状态，但其实际上处于与另一边模53相对应的位置，在压缩保护剂块的时候，这些边模53、下模51和侧模52形成部分密闭的空间，该空间在上模M进入的方向上开口。而且，一旦上模M在图12和13中箭头V所示的方向上移动而将上模M导入密闭空间，下模51、侧模52、边模53和上模M就会形成完全密闭的空间。作为保护剂块原料的粉末G被填入取下上模M的状态下而形成的空间中。粉末 G可以是粉末或颗粒，或两者兼而有之。一旦完成粉末G的充填，上模M就在V所示的方向上导入部分密闭的空间中，在形成完全密闭空间的同时进行按压，从而形成保护剂块。以上述方法，通过压缩生产如图14 所示的四棱柱形状的保护剂块。注意，通过融合成型形成的保护剂块是半透明的，而通过压缩形成的保护剂块是白色的，所以可以直观地区分它们。保护剂供给构件保护剂供给构件是本发明的保护剂供给构件，用于从保护剂块上刮下保护剂并将保护剂涂覆到图像承载构件的表面上。压力施加构件根据想达到的目的无限制地适当选择压力施加构件，只要其是用于按压保护剂块以使保护剂块与保护剂供给构件相接触的构件即可，其实施例包括压簧。保护层形成构件根据想达到的目的无限制地适当选择保护层形成构件，只要其能摊薄涂覆在图像承载构件表面上的保护剂而形成保护层即可，其实施例包括刮片。根据想达到的目的无限制地适当选择刮片的材料，其实施例包括聚亚安脂橡胶， 氯醚橡胶(印ichlorhydrin rubber)，硅橡胶，含氟橡胶。这些可独立或组合使用。可以用涂抹或浸渍的方法用低摩擦系数的材料涂覆上述刮片与图像承载构件的接触区域。而且， 可以在刮片中散布例如有机填料和无机填料的填充物，以调节刮片的硬度。通过例如粘附或融合的任何方法将刮片固定在刮片支架上，从而使刮片的边缘能压靠并接触图像承载构件的表面。刮片的厚度不易调节，因为其根据为压缩而施加的压力而变化，但优选0. 5mm至5mm，更优选Imm至3mm。而且，允许刮片从刮片支架伸出并弯曲的刮片长度，即，刮片的净长度，不易调节，因为其根据为压缩而施加的压力而变化，但优选 Imm 至 15mm,更优选 2mm 至 IOmm0保护层形成构件的另一结构包括如下特征，即其中使用诸如涂抹和浸渍这样的方法直接在诸如弹簧片的弹性金属表面上形成树脂，橡胶，弹性体之类的涂层，或者如果必要的话，在二者之间使用偶联剂或底料物质，并可选择对其进行热固化涂层的处理，还可选择对其进行表面抛光。涂层至少包含粘合剂树脂和填料，如有必要还可包含其它物质。根据想达到的目的无限制地适当选择粘合剂树脂，其实施例包括氟树脂，如全氟烷氧基烷(PFA)，聚四氟乙烯(PTFE)，四氟乙烯-六氟丙烯共聚物(FEP)，聚偏二氟乙烯(PVdF)；氟橡胶；和诸如甲基硅弹性体的有机硅弹性体。根据想达到的目的无限制地适当选择弹性金属刮片的厚度，但优选0. 05mm至 3mm，更优选0. Imm至1mm。在安装后在基本平行于心轴的方向上对弹性金属刮片进行弯曲处理，从而防止刮片的挠曲。关于保护层形成构件按压图像承载构件的力，可以扩散保护剂使之形成保护层的力就足够，当其确定为线性压力时，该力优选5gf/cm至80gf/cm，更优选lOgf/cm至60gf/ cm0保护层形成构件也可作为清洁构件。为了更可靠地形成保护层，优选地，预先用清洁构件清除残留在图像承载构件上的以调色剂为主要成分的残留物，从而使残留物不会混入保护层中。下面参照附图描述保护层形成构件。图15是本发明保护层形成构件的一个实施例的示意性剖视图。面向作为图像承载构件的感光鼓11设置的保护层形成构件18主要包括保护剂块13、保护剂供给构件14、压力施加构件15、保护层形成构件16等。通过压力施加构件15的压力，保护剂块13与辊形保护剂供给构件14相接触。保护剂供给构件14以与感光鼓11不同的线速度转动，并被感光鼓11摩擦。在保护剂供给构件14的转动和摩擦过程中，保护剂供给构件的表面所保持的保护剂被涂覆到图像承载构件的表面。注意，存在这样的情况，即根据所选择使用的材料，涂覆到图像承载构件表面上的保护剂不足以形成保护层。为了更均勻地形成保护层，例如通过具有片形构件的保护层形成构件16将保护剂形成薄层，从而形成保护层。例如，通过高压电源(未示出)使被施加直流电压或交流电压叠加直流电压的充电辊17接触或接近已经形成保护层的图像承载构件的附近，从而通过在微孔 (mocrocavities)中放电进行图像承载构件的充电。在充电过程中，保护层部分溶解，或者被电应力(electrical stress)氧化，空气中的电晕产物沉积到保护层的表面上。注意，图像承载构件的劣化的保护剂是一种带有诸如残留在图像承载构件上的调色剂这种成分的普通清洁单元。这种清洁单元也可以作为上述保护层形成构件16。但是， 有些情况下，构件的适当磨损状态对于清除图像承载构件表面上残留物的作用与形成保护层的作用是不同的。因此，优选将这些作用分开，清洁单元包括清洁构件12、清洁压力施加单元(未示出)等设置在保护剂供给构件的上游，如图15所示。成像方法和成像设备成像方法至少包括静电潜像形成步骤，显影步骤，转印步骤，保护剂形成步骤，以及定影步骤，优选还包括清洁步骤，如果必要的话还可以包括其它步骤，如消电 (diselectrificafion)步骤，回收步骤，和控制步骤。本发明的成像设备至少包括图像承载构件，静电潜像形成单元，显影单元，转印单元，保护剂形成单元，定影单元，优选还包括清洁单元，如果必要的话还可以包括任意的其它单元，如消电(diselectrification)单元、 回收单元、控制单元。这里描述的成像方法可由本发明的成像设备适当地执行；静电潜像形成步骤可由静电潜像形成单元执行；显影步骤可由显影单元执行；转印步骤可由转印单元执行；保护层形成步骤可由保护剂形成单元执行；定影步骤可由定影单元执行；上述其它步骤可由上述其它单元执行。静电潜像形成步骤和静电潜像形成单元静电潜像形成步骤是在图像承载构件上形成静电潜像的步骤。图像承载构件可以在本领域已知的方案中无限制地适当选择图像承载构件(本说明书中也可称为“感光体”)的材料、形状、结构、尺寸等，但图像承载构件的优选形状的实施例包括鼓形，其材料的实施例包括诸如无定形硅和硒这样的的无机半导体；诸如硅烷和酞菁多甲川(phthalopolymethine)这样的有机半导体。本发明的成像设备中使用的图像承载构件(感光体)包括导电支架，并至少包括设置在导电支架上的感光层，如果必要还可以包括其它层。关于感光层，存在其中电荷产生材料与电荷传输材料共存的单层感光层；依次层压感光层，其中电荷传输层设置在电荷产生层上面；以及其中电荷产生层设置在电荷传输层上面的反向层压感光层。而且，最外层可以设置在感光层上面，用于改善感光体的物理强度，耐磨性，抗气体的特性，清洁能力等。而且，在导电支架之间可以设置底涂层。另外，如果必要，可以向各层中添加适量的增塑剂，抗氧剂，勻染剂，或类似物。根据想达到的目的无限制地适当选择导电支架，只要它具有LOXIOkiQ 或更低的体电阻率即可，其实施例包括用真空沉积或溅射的方法形成的薄膜形或圆筒形的具有金属(如铝，镍，铬，镍铬，铜，金，银，钼)或金属氧化物(如氧化锡，氧化铟)涂层的塑料或纸质；以及管，其是通过挤压或拉伸将一个或多个铝，铝合金，镍，不锈钢的板形成管状， 然后对管进行诸如切削，超精加工，抛光这样的表面处理。鼓状支架优选直径为20mm至150mm，更优选Mmm至100mm，乃至更加优选^mm至 70mm。当鼓状支架的直径小于20mm时，物理上难以在鼓状支架的周围设置充电、曝光、显影、转印和清洁步骤中使用单元。当其直径大于150mm时，得到的成像设备的尺寸会非常大。特别是当成像设备是串联系统时，几个光导体安装于其中。由于这个原因，鼓状支架的直径优选70mm或更小，更优选60mm或更小。而且，JP-A No. 52-36016中披露的环形镍带或环形不锈钢带也可用作导电支架。感光层的底涂层可以是单层或者两个或更多层的层压层，其实施例包括(1)主要由树脂形成感光层，(2)主要由白色颜料和树脂形成的感光层，和( 作为金属氧化物薄膜的感光层，其中导电基板的表面是化学或电化学氧化的。其中，优选主要由白色颜料和树脂形成的感光层。白色颜料的实施例包括诸如二氧化钛，三氧化二铝，氧化锆和氧化锌这样的金属氧化物。其中，特别优选二氧化钛作为白色颜料使用，因为其具有防止电荷从导电支架注入的优良性能。树脂的实施例包括诸如聚酰胺，聚乙烯醇，干酪素，甲基纤维素这样的热塑性树脂；以及诸如丙烯树脂，酚醛树脂，三聚氰胺树脂，醇酸树脂，不饱和聚酯树脂，和环氧树脂这样的热固性树脂。这些可独立或组合使用。根据想达到的目的无限制地适当选择底涂层的厚度，优选0. Iym至10 μπι，更优选Iym至5 μπι。在感光层中使用的电荷产生材料的实施例包括偶氮颜料，如单偶氮 (monoazo)颜料，双偶氮颜料，三偶氮颜料，和四偶氮颜料；有机颜料或染料，如芳基甲烷 (triarylmethane)染料，硫氮杂苯染料，恶嗪染料，氧杂蒽染料，菁染料，苯乙烯着色剂，吡喃染料，二氢喹吖啶颜料(quinacf idon pigment)，靛蓝颜料，茈系颜料，多环芳烃醌颜料， 双苯并咪唑颜料，阴丹士林颜料，方酸颜料，酞菁颜料；以及无机材料，如硒，硒，砷，硒，碲， 硫化镉，氧化锌，二氧化钛，和非晶硅。这些可独立或组合使用。感光层中使用的电荷传输材料的实施例包括蒽衍生物，衍生芘，咔唑衍生物，四氮唑衍生物，茂金属衍生物，吩噻嗪衍生物，吡唑啉类化合物，腙类化合物，苯乙烯化合物， styryihydrazone化合物，烯胺化合物，丁二烯复合，联苯乙烯化合物，恶唑化合物，恶二唑化合物，噻唑类化合物，咪唑类化合物，三苯胺衍生物，苯二胺衍生物，氨基芪衍生物，以及三苯甲烷衍生物。这些可独立或组合使用。至于用于形成感光层的粘合剂树脂，可以使用电绝缘的、本领域中公知的热塑性树脂，热固性树脂，光固化树脂和光敏树脂之类。粘合剂树脂的实施例包括热塑性树脂，如聚氯乙烯，聚偏二氯乙烯，氯乙烯-醋酸乙烯共聚物，过氯乙烯-醋酸乙烯-马来酸酐共聚物，乙烯-醋酸乙烯共聚物，聚乙烯醇缩丁酸，聚乙烯醇缩酸，聚酯，苯氧基树脂，(甲基)丙烯醛树脂，聚苯乙烯，聚碳酸酯，聚丙烯，聚砜，聚醚砜，ABS树脂，热固性树脂，如酚醛树脂， 环氧树脂，聚亚安脂树脂，密胺树脂，异氰酸酯树脂，醇酸树脂，硅树脂，压克力和热固性树脂；其他如聚乙烯咔唑，聚乙烯蒽，和聚氯乙烯芘。这些可独立或组使用。设置感光体的最外层以改善感光体的物理强度，耐磨性，抗气体的特性，清洁能力等。最外层优选是这样一种，其中无机填料分散在比感光层具有更高物理强度的聚合物中。 最外层中使用的树脂可以是热塑性树脂或热固性树脂，但特别优选热固性树脂，因为其具有高物理强度，特别是具有防止由于清洁刮片的摩擦造成的磨损等高性能。只要最外层的厚度够薄，最外层就没有问题，即使其不具有电荷传输性能。但是，如果厚的最外层不具有电荷传输性能，得到的感光体倾向于具有低光敏度，在曝光后电势增大，残留电势增大。因此，优选在最外层中包含前述电荷传输材料，或者在最外层中使用具有电荷传输性能的聚合物。由于感光层的机械强度与最外层的机械强度通常差异很大，所以一旦最外层被磨损并由于清洁刮片的摩擦而消失，感光层也会很快被磨损。出于这个原因，如果感光体设置了最外层，则保证最外层的足够厚度很重要，其厚度优选0. 1 μ m至12 μ m，更优选1 μ m至 10 μ m,特别优选2 μ m至8 μ m。当其厚度小于0. 1 μ m时，最外层太薄以致其由于与清洁刮片的摩擦而易于部分消失，而从最外层已经消失的区域暴露出的感光层易于被磨损。当其厚度大于12 μ m时，容易产生光敏度的降低、曝光后电势的增大、以及残留电势的增大，特别是在使用具有电荷传输的聚合物来解决这些缺点的情况下，其中使用具有电荷传输性能的聚合物所需要的成本较高。最外层使用的树脂优选自那些用于在成像时进行写入的透光、并具有优良绝缘性能，机械强度和粘附性的树脂，这种树脂的实施例包括:ACS树脂，ABS树脂，烯烃，乙烯基单体共聚物，氯化聚醚，酚醛树脂，聚甲醛，聚酰胺，聚酰胺酰亚胺，聚丙烯，聚丙烯砜，聚丁烯， 聚对苯二甲酸乙二醇酯，聚碳酸酯，聚醚砜，聚乙烯，聚对苯二甲酸乙二醇酯，聚酰亚胺，聚丙烯树脂，聚戊烯，聚丙烯，聚苯醚，聚砜，聚苯乙烯，AS树脂，丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物，聚亚安脂，聚氯乙烯，聚偏二氯乙烯，环氧树脂。这些聚合物可以是热塑性的，但使用由含有多官能的丙烯酰基，羧基，羟基，胺基等的交联剂交联过的热固性树脂，可以提高最外层的机械强度，并显著降低由于与清洁刮片的摩擦造成的磨损。最外层优选具有电荷传输性能。为了使最外层具有电荷传输性能，存在如下方法 在最外层中组合使用聚合物和上述电荷传输材料的方法；在最外层中使用具有电荷传输性能的聚合物的方法。优选后一种方法，因为用这种方法得到的感光体具有高光敏度，并抑制在电势的增大以及残留电势的增大。为了提高最外层的机械强度，优选在最外层中包含金属颗粒，金属氧化物颗粒，或其他颗粒。金属氧化物的实施例包括二氧化钛，氧化锡，钛酸钾，氮化钛，氧化锌，氧化铟，氧化锑。其他粒子的实施例包括这样的颗粒，其中每一个颗粒中，出于提高耐磨性的目的，无机材料分散在诸如氟树脂(如聚四氟乙烯)，硅树脂，和它们的组合这样的树脂中。例如，可以通过在对图像承载构件的表面充电后，使图像承载构件的表面曝光在图像化方式的光线中，形成静电潜像，并且可以通过静电潜像形成单元来形成静电潜像。例如，静电潜像单元装配有充电器和曝光单元，充电器用于对图像承载构件的表面充电，曝光单元用于使图像承载构件的表面图像化从而使图像承载构件的表面曝光。例如，通过用充电器对图像承载构件的表面施加电压进行充电。根据想达到的目的无限制地适当选择充电器，其实施例包括装配有导电或半导电辊、刷、薄膜、橡胶片等的传统式接触充电器，以及使用诸如电晕管和电晕器这样的电晕放电的传统式非接触充电器。关于充电器，可以是具有用于施加包括交流电的电压的加压单元的那种充电器。例如，通过用曝光单元将光以图像化方式施加到图像承载构件的表面上由此使图像承载构件的表面曝光，进行曝光。根据想达到的目的无限制地适当选择曝光单元，只要其能使由充电单元充过电的图像承载构件的表面图像化曝光于光线即可，其实施例包括各种曝光装置，如再现式曝光装置，棒状透镜阵列曝光装置，激光光学曝光装置以及液晶快门光学装置。需要注意的是，可以使用其中从图像承载构件的背面进行图像化曝光的光学图像黑色辐射电照相系统进行曝光。显影步骤和显影单元显影步骤是用调色剂或显影剂显影静电潜像以形成可见图像的过程。例如，可以通过用调色剂或显影剂显影静电潜像来形成可见图像，可以用显影单元来进行显影。根据想达到的目的无限制地适当选择显影单元，只要其能用调色剂或显影剂进行显影即可，其实施例包括其中容纳调色剂或显影剂、并能以接触或非接触方式向静电潜像供应调色剂或显影剂的显影单元。调饩剂根据想达到的目的无限制地适当选择调色剂，例如，其是通过使调色剂组合物，与预聚物、聚酯、着色剂延伸或交联的化合物，以及释放剂在树脂颗粒存在的情况下在水溶液中进行交联和/或伸长反应生产的调色剂，所述调色剂组合物包括含有包含氮原子的官能团的聚酯预聚物。通过使这种调色剂的各颗粒的表面硬化，在调色剂的使用过程中可以减少热偏移的发生。含有包含氮原子的官能团的聚酯预聚物的实施例包括异氰酸酯基的聚酯预聚物。 要被伸长或与预聚物交联的化合物的实施例包括胺。含有异氰酸酯的聚酯预聚物的实施例包括通过使具有活性氢基的聚酯，其是多元醇与聚羧酸综合的产物，与聚异氰酸酯反应得到的反应产物。聚酯中所含的活性氢基的实施例包括羟基(例如，醇式羟基，酚羟基组)，氨基，羧基，和巯基。其中，特别优选醇式羟基。根据想达到的目的无限制地适当选择多元醇，其实施例包括二醇，含三价多元醇。 其中，优选单独使用二醇或者二醇与少量含三价多元醇的组合。根据想达到的目的无限制地适当选择聚羧酸，其实施例包括二羧酸，含三价聚羧酸。其中，优选单独使用二羧酸或者二羧酸与少量含三价或更高价聚羧酸的组合。多元醇与聚羧酸的比值取决于羟基
与羧基[C00H]的当量比
/[C00H]确定，该当量比优选2/1至1/1，更优选1. 5/1至1/1，特别优选1. 3/1至1. 02/1。聚异氰酸酯的实施例包括脂肪族聚异氰酸酯(例如，四亚甲基二异氰酸盐，环己烷二异氰酸盐，和2，6-dUSOCyanate甲基己酸)，脂环族聚异氰酸酯(例如，异佛尔酮二异氰酸盐；cyclohexylmehane 二异氰酸盐)；芳香二异氰酸盐(如甲苯二异氰酸盐，和二苯基甲烷二异氰酸盐)；芳香脂肪族异氰酸酯(如α，α，α ‘，α ‘-四甲基二甲苯二异氰酸盐)；isocyanirates;以及用酚衍生物，肟，己内酰胺等嵌段的聚异氰酸酯。这些可以独立或组合使用。聚异氰酸酯的比取决于聚异氰酸酯中的异氰酸酯基[NC0]和含有羟基的聚酯中的羟基
的当量比[NC0]/
确定，该当量比优选5/1至1/1，更优选4/1至1.2/1，特别优选2. 5/1至1. 5/1。当[NC0]/
大于5/1时，调色剂具有较差的低温度定影性能。 当[NC0]的摩尔比小于1时，所得到的改性聚酯中的尿素含量低，从而导致较差的调色剂的热偏移可耐性。胺的实施例包括胺二价，三或更高的价胺，氨基醇，氨基酸硫醇，氨基酸，这些胺中block氨基。在这些胺中，优选二价胺，或者二价胺与小量三或更高的价胺的混合物。此外，如有必要，可以用伸长终止剂控制尿素改性聚酯的分子量。伸长终止剂的实施例包括单胺(如二乙基胺，二丁酯胺，丁基胺，十二烷基胺)，及其嵌段产品(blocked product)(例如酮亚胺化合物)。除了前述结构适合获得高质量图像的聚合调色剂外，通过粉碎得到的不规则形状的调色剂也可以用于成像方法和成像设备中。如果使用通过粉碎方法得到的调色剂，可大大提高装置的使用年限。形成原料没有特别限制，可以从用于电照相调色剂的那些常用调色剂中选取。显影单元可以使用干显影系统或者湿显影系统，可以是单色显影单元或者多色显影单元。显影装置的实施例包括这样一个装置，其具有用于通过搅拌产生的摩擦使调色剂或显影剂充电的搅拌器，以及可转动的磁辊。例如，在显影单元中，混合并搅拌调色剂及载体，通过搅拌产生的摩擦对调色剂充电。充过电的调色剂以刷形保持在可转动的磁辊的表面上以形成磁刷。磁刷设置在图像承载构件(感光体)附近，部分形成磁辊表面上的磁刷的调色剂通过电引力移动到图像承载构件(感光体)的表面上。结果，用调色剂使静电潜像显影而在图像承载构件(感光体) 的表面上形成调色剂可见图像。容纳在显影单元中的显影剂是显影剂，但其可以是单成分显影剂或双成分显影剂。转印步骤和转印单元转印步骤是将可见图像转印到记录构件上的过程。其优选实施方案使用中间转印构件，先将可见图像初次转印到中间转印构件上，接着再将可见图像二次转印到记录介质上，其中使用两种或多种颜色的调色剂，更优选使用全色调色剂。更优选的实施方案包括初次转印步骤，其是将可见图像转印到中间转印构件上以形成复合转印图像，以及二次转印步骤，将复合转印图像转印到记录介质上。例如，使用转印充电器对其上形成有可见图像的图像承载构件(感光体)进行充电来执行转印，可以用转印单元进行转印。转印单元的优选实施方案包括第一转印单元，用于将可见图像转印到中间转印构件上以形成复合转印图像；二次转印单元，用于将复合转印图像转印到记录介质上。根据想达到的目的无限制地适当从本领域中公知的转印构件选择中间转印构件，例如，中间转印构件优选转印带等。图像承载构件可以是中间转印构件，感光体上形成的调色剂图像初次转印到其上以叠加不同颜色的调色剂图像，叠加后的图像再从其上转印到记录介质上。具体地，图像承载构件可以是中间转印系统中用于形成图像的中间转印构件。中间转印构件中间转印构件优选具有导电率为1.0Χ105Ω · cm至1.0Χ10"Ω · cm的体电阻率。当体电阻小于1.0Χ105Ω 时，出现所谓的转印扩散，这是由于当调色剂图像从感光体转印到中间转印构件上时产生的放电引用的调色剂图像的扭曲。当其体电阻大于 1. OX IO11 Ω · cm时，在调色剂图像从中间转印构件转印到诸如纸张这样的记录介质上以后，调色剂图像的反电荷残留在中间转印构件上，这会在随后处理的图像上造成图像滞后 (残影)。例如，可以用按以下方法生产的带形或圆筒形塑料产品作为中间转印介质。具体地，单独或组合使用金属氧化物(如氧化锡，氧化铟)的导电颗粒，碳黑之类和/或导电聚合物，并和热塑性树脂揉合，对揉合后的产品进行挤压成型。除了上述方法外，也可用以下方法生产环形带式的中间转印构件。具体地，必要时，向含有热交联单体或低聚物的树脂基液体中加入上述导电颗粒和/或导电聚合物，这些原料在加热的条件下进行离心成型。如果在中间转印构件上设置表面层，选择性地使用用作排除电荷传输原料的感光体的最外层的前述原料，与导电颗粒相结合，用于控制得到的中间转印构件的电阻。转印单元(例如，第一转印单元与二次转印单元的组合)优选至少包括转印器，用于使可见图像充电，从而将图像承载构件上形成的可见图像从图像承载构件(感光体)上释放到记录介质这一侧上。转印单元的个数可以是1或2或更多。充电器的实施例包括利用电晕放电的电晕转印器、转印带、转印辊、压力转印辊和粘附转印器。所用的记录介质无限制地适当地选自本领域中公知的记录介质(记录纸)。保护层形成步骤和保护层形成单元保护层形成步骤是在转印之后将保护剂涂覆到图像承载构件表面上以形成保护层的过程。可以使用上述本发明的保护层形成装置作为保护层形成单元。定影步骤和定影单元定影步骤是用定影单元将转印到记录介质上的可见图像定影到记录介质上的过程，可以在每次一种颜色的调色剂形成的可见图像转印到记录介质上时就进行定影，或者在由每一种颜色的调色剂形成的可见图像都层压好以后一次性进行定影。根据想达到的目的无限制地适当选择定影单元，但优选本领域中公知的加热加压单元中的任何一种。加热加压单元的实施例包括加热辊和加压辊的组合，以及加热辊、加压辊和环形带的组合。加热加压单元的加热温度通常优选80°C至200°C。注意，可以使用本领域中公知的光学定影单元结合或代替定影步骤和定影单元。去电步骤和去电单元去电步骤是向图像承载构件施加去电偏压以使图像承载构件去电的过程，可以用去电单元来进行去电步骤。对去电单元没有特别限制，只要其可以向静电潜像承载构件施加去电偏压即可，其优选实施例包括去电灯。清洁步骤及清洁单元清洁步骤是清除静电潜像承载构件上的残留调色剂的清洁步骤，可以用清洁单元来进行清洁步骤。清洁单元优选设置在转印单元的下游和保护层形成单元的上游。对清洁单元没有特别限制，只要其能清除图像承载构件上的残留调色剂即可，其实施例包括磁刷清洁件、静电刷清洁件、磁辊清洁件、刮片清洁件、刷式清洁件和卷筒纸状(web)清洁件。回收步骤和回收单元回收步骤是将清洁步骤中清除的调色剂回收到显影单元中的过程，可以用回收单元来进行回收。对回收单元没有特别的限制，可以使用传统的传送单元之类作为回收单元。控制步骤和控制单元控制步骤是控制各步骤的操作的过程，可以用控制单元进行控制。根据想达到的目的无限制地适当选择控制单元，只要其能控制各个单元的操作即可，其实施例包括定序器和计算机。图16是本发明成像设备100的一个实施例的示意性剖视图。在鼓状图像承载构件1Y，1M，IC和IK的周围，设置保护层形成装置2，充电装置3，潜像形成装置8，显影装置5，转印装置6和清洁装置4，按以下操作进行图像形成。下面通过负-正过程来描述图像形成的系列过程。由具有有机光导层的感光鼓 (OPC)所代表的图像承载构件由去电灯(未示出)去电，然后由具有充电构件的充电装置3 均勻地充负电。在用充电装置对图像承载构件进行充电的过程中，适于对图像承载构件1Y， 1M，1C和IK充电以具有理想电势的适当电压水平，或者其中将交流电压叠加在前述电压上的充电电压，从电压施加单元(未示出)施加给充电构件。借助于激光光学器件等的潜像形成装置8用激光分别辐射各充过电的图像承载构件1Y，1M，IC和1K，从而形成潜像(曝光区域的电势的绝对值小于未曝光区域的电势的绝对值)。激光发自半导体激光器，其用高速转动的多边形棱镜形式的多角镜在图像承载构件的转动方向上扫描图像承载构件1Y， 1M，1C或IK的表面。用供给到作为显影装置5的显影剂承载构件的显影套筒上的调色剂颗粒，或者由调色剂颗粒及载体颗粒的混合物形成的显影剂，显影上述方法形成的潜像，从而形成调色剂可见图像。在显影潜像的时候，从电压施加单元(未示出)向设置在各个图像承载构件 1Y，1M，1C和IK的曝光区域与未曝光区域之间的显影套筒上施加适当的电压水平，或者其中向所述电压叠加交流电压的显影偏压。在各图像承载构件上所形成的调色剂图像分别对应于所用调色剂的各种颜色，分别形成在图像承载构件1Y，1M，1C和IK上的调色剂图像由转印装置6转印到中间转印构件 60上，然后从中间转印构件60转印到由送纸单元200输送的诸如纸张这样的记录介质上。在该操作过程中，优选具有与调色剂的电荷相反极性的电压施加给转印装置6作为转印偏压。在施加完上述电压后，中间转印构件60从图像承载构件分离，结果，在中间转印构件60上得到转印后的图像。残留在图像承载构件上的调色剂颗粒由清洁构件收集到清洁装置4中的调色剂收集室内。成像设备可以具有多个上述显影装置，可以是这样一个设备，其中分别有不同颜色的多个调色剂图像由多个显影装置顺序形成，所形成的调色剂图像被顺序转印，所转印后的图像进入定影单元从而将调色剂用热等进行定影。或者，成像设备是这样一个设备， 其中以与上述方法相同的方法形成的多个调色剂图像暂时顺序转印到中间转印构件上，转印后的调色剂图像一次性转印到诸如纸这样的记录介质上，之后用上述同样的方式进行定影。此外，充电装置3优选接触图像承载构件表面设置或设置在图像承载构件表面附近，在上述实施方案中使用放电丝。与使用诸如电晕管和电晕器这样的电晕放电器所产生的量相比，放电丝的使用可以显著降低在充电过程中产生的臭氧量。处理盒处理盒至少包括图像承载构件和本发明的保护层形成单元(装置)，如有必要，还可以包括其它单元，如充电单元、显影单元、显影单元、转印单元、清洁单元和去电单元。处理盒可拆卸地安装在各种电照相设备中，优选可拆卸地安装在前述本发明的成像设备中。图17是处理盒一个实施例的示意性剖视图。处理盒包括作为图像承载构件的感光鼓1，以及面对感光鼓设置的保护层形成装置2，其中保护层形成装置2包括保护剂块13、 保护剂供给构件14、压力施加构件15、保护层形成构件16等。在转印步骤之后，图像承载构件具有用于图像承载构件的部分劣化的保护剂或残留在其表面上的调色剂成分，残留在图像承载构件表面上的这些残留物由清洁构件12清洁。在图17中，清洁构件与图像承载构件以一定角度相接触，这是所谓的相对型(引导型)。清洁构件12从图像承载构件的表面上清除残留调色剂和/或图像承载构件的保护剂，之后保护剂从保护剂供给构件14涂覆到图像承载构件的表面上，由保护层形成构件16 形成保护层薄膜。然后，已经以上述方式使用过保护层的图像承载构件被充电，并曝光于诸如激光这样的曝光光线L，从而形成静电潜像，所形成的静电潜像被显影装置5显影，以使图像可见，之后由安装在处理盒外面的转印装置6将可见图像转印到记录介质7上。实施例下面描述本发明的实施例，但这些实施例不得解释为以任何方式限制本发明的范围。牛产实施例1保护剂块1的牛产90质量份的硬脂酸锌(GF-200，由NOF CORPORATION生产)和10质量份的氮化硼 (NX5,Momentive Performance Materials公司生产)的混合物放置在预定模具中，并抹平， 之后在130kN的压力下压缩10秒，从而产出四棱柱形状的保护剂块1，其在高度方向上长 10mm，在横向上长8mm，在长度上长320mm。牛产实施例2保护剂块2的牛产90质量份的硬脂酸锌(GF-200，由NOF CORPORATION生产)和10质量份的滑石粉 (PFI滑石粉，Miyoshi Kasei公司生产)的混合物放置在预定模具中，并抹平，之后在130kN 的压力下压缩10秒，从而产出四棱柱形状的保护剂块2，其在高度方向上长10mm，在横向上长8mm，在长度上长320mm。生产实施例3保护剂块3的生产90质量份的硬脂酸锌(GF-200，由NOF CORPORATION生产)和10质量份的云母 (SA云母，Miyoshi Kasei公司生产)的混合物放置在预定模具中，并抹平，之后在130kN的压力下压缩10秒，从而产出四棱柱形状的保护剂块3，其在高度方向上长10mm，在横向上长 8mm，在长度上长320mm。生产实施例4保护剂块4的生产硬脂酸锌(GF-200，由NOF CORPORATION生产)放置在预定模具中，并抹平，之后在 130kN的压力下压缩10秒，从而产出四棱柱形状的保护剂块4，其在高度方向上长10mm，在横向上长8mm，在长度上长320mm。生产实施例5保护剂块5的生产90质量份的硬脂酸锌(GF-200，由NOF CORPORATION生产)和10质量份的氮化硼 (NX5,Momentive Performance Materials公司生产)的混合物融合，之后将混合物放置在预定模具中，从而产出保护剂块5。所得到的保护剂块5是四棱柱形状，其在高度方向上长 10mm，在横向上长8mm，在长度上长320mm。
牛产实施例6保护剂块6的牛产在熔化硬脂酸锌(GF-200，由NOF CORPORATION生产)后，硬脂酸锌被放置在预定模具中，从而产出保护剂块6。所得到的保护剂块6是四棱柱形状，其在高度方向上长10mm， 在横向上长8mm，在长度上长320mm。表权利要求
1.一种保护剂供给构件，包括 芯部；以及形成于芯部圆周上的泡沫层，其中保护剂供给构件是辊形，且其中泡沫层具有在其表面上均勻地布设的凹陷。
2.如权利要求1所述的保护剂供给构件，其中保护剂供给构件满足如下关系 al ^ 0. 5mm，禾口a2 ^ 0. 2mm，其中al是泡沫层的内圆周表面与凹陷的底面之间的平均距离，a2是凹陷的底面与凹陷的顶面之间的平均距离。
3.如权利要求1所述的保护剂供给构件，其中保护剂供给构件具有如下范围内的c/b 比率0. 25 ( c/b ( 0. 75，其中b是彼此相邻的一对凹陷之间的平均距离，c是彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的平均宽度。
4.如权利要求1所述的保护剂供给构件，其中凹陷布设成网格图案。
5.如权利要求4所述的保护剂供给构件，其中布设成网格图案的凹陷具有分别在以下范围内的比率cl/bl和c2/b2 0. 25 ( cl/bl ( 0. 75，和 0. 25 ( c2/b2 ( 0. 75，其中bl是相对于一个方向彼此相邻的一对凹陷之间的平均距离，cl是相对于所述一个方向上彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的平均宽度，1^2是相对于与所述一个方向垂直的方向彼此相邻的一对凹陷之间的平均距离，c2是相对于与所述一个方向垂直的方向上彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的平均宽度。
6.如权利要求1所述的保护剂供给构件，其中泡沫层包括聚亚安酯泡沫。
7.如权利要求1所述的保护剂供给构件，其中泡沫层是互连胞孔(interconnected cell)结构的泡沫层。
8.如权利要求1所述的保护剂供给构件，其中泡沫层每英寸包含25-300个胞孔，并具有50N至500N的硬度。
9.一种保护层形成装置，包括 保护剂块；以及保护剂供给构件； 其中该保护剂供给构件包括 芯部；以及形成于芯部圆周上的泡沫层， 其中保护剂供给构件是辊形，以及其中泡沫层具有在其表面上均勻布设的凹陷。
10.如权利要求9所述的保护层形成装置，其中保护剂块包含脂肪酸金属盐和无机润滑剂。
11.如权利要求10所述的保护层形成装置，其中脂肪酸金属盐是硬脂酸锌。
12.如权利要求10所述的保护层形成装置，其中无机润滑剂是氮化硼。
13.如权利要求9所述的保护层形成装置，还包括压力施加构件，该压力施加构件被构造成按压保护剂块以使保护剂块与保护剂供给构件相接触；以及保护层形成构件，该保护层形成构件被构造成摊薄涂覆在图像承载构件表面上的保护剂以形成保护层。
14.如权利要求9所述的保护层形成装置，其中保护剂供给构件满足如下关系 al ^ 0. 5mm,禾口a2 ^ 0. 2mm,其中al是泡沫层的内圆周表面与凹陷的底面之间的平均距离，a2是凹陷的底面与凹陷的顶面之间的平均距离。
15.如权利要求9所述的保护层形成装置，其中泡沫层具有如下范围内的c/b比率 0. 25 ( c/b ( 0. 75，其中b是彼此相邻的一对凹陷之间的平均距离，c是彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的平均宽度。
16.如权利要求9所述的保护层形成装置，其中凹陷在泡沫层中布设成网格图案。
17.一种成像设备，包括 图像承载构件；静电潜像形成构件，用于在图像承载构件上形成静电潜像； 显影单元，用于用调色剂使静电潜像显影以形成可见图像； 转印单元，用于将可见图像转印到记录介质上；保护层形成单元，用于在可见图像已经从图像承载构件转印后，将保护剂提供到图像承载构件的表面上以形成保护层；以及定影单元，用于将转印后的可见图像定影到记录介质上， 其中保护层形成单元是保护层形成装置，其包括 芯部；以及形成于芯部圆周上的泡沫层， 其中保护剂供给构件是辊形，以及其中泡沫层具有在其表面上均勻布设的凹陷。
18.如权利要求17所述的成像设备，其中保护剂供给构件满足如下关系 al ^ 0. 5mm，禾口a2 ^ 0. 2mm，其中al是泡沫层的内圆周表面与凹陷的底面之间的平均距离，a2是凹陷的底面与凹陷的顶面之间的平均距离。
19.如权利要求17所述的成像设备，其中泡沫层具有如下范围内的c/b比率 0. 25 ( c/b ( 0. 75，其中b是彼此相邻的一对凹陷之间的平均距离，c是彼此相邻的一对凹陷之间存在的泡沫层的平均宽度。
20.如权利要求17所述的成像设备，其中凹陷在泡沫层中布设成网格图案。
全文摘要
本发明提供一种保护剂供给构件，包括芯部以及形成于芯部圆周上的泡沫层，其中保护剂供给构件是辊形，以及其中泡沫层具有在其表面上均匀地布设的凹陷。
文档编号G03G21/18GK102540840SQ20111036225
公开日2012年7月4日 申请日期2011年9月9日 优先权日2010年9月9日
发明者中井洋志, 山本幸辅, 浦山太一, 田中真也, 长谷川邦雄 申请人:株式会社理光