专利名称：光学部件及其制备方法
技术领域：
本发明涉及显示减反射性能的光学部件和该光学部件的制备方法。更具体地，本发明涉及适合在可见至红外区域中长时间稳定地显示高减反射性能的光学部件并且涉及该部件的制备方法。
背景技术：
已知具有不大于可见光波长的微细周期结构的减反射结构体，在该微细周期结构具有适当的间距和高度时，在宽波长区域内显示优异的减反射性能。作为形成微细周期结构的方法，例如，已知其中使具有不大于波长的颗粒直径的细颗粒分散的膜的涂布。 特别地，已知作为在基材上生长的氧化铝的勃姆石的凹凸结构显示出高减反射效果。通过采用例如液相法(溶胶-凝胶法)形成的氧化铝的膜的水蒸汽处理或者热水浸溃处理而得到勃姆石的凹凸结构(参见非专利文献K. Tadanaga, N. Katata,和T. Minami, “Super-Water-Repellent A1203Coating Films with High Transparency，，，J. Am. Ceram. Soc.，80 (4) ,1040-42，1997)。不幸的是，该方法中，在暴露于水蒸汽或热水的过程中玻璃基材可能被损坏。已发现，通过在基材与氧化铝的勃姆石的凹凸结构之间设置溶剂可溶性聚酰亚胺的层，能够防止水分或水蒸汽引起的玻璃基材的损坏(参见日本专利公开 No. 2008-233880)。但是，聚酰亚胺的层与包括基材的其他层的亲合性和粘合性低，因此难以直接使用(参见日本专利公开No. 61-171762)。特别地，通过热水浸溃处理形成氧化铝的凹凸结构的情况下，由于凹凸形成过程中的应变应力，可能发生聚酰亚胺层与其邻接层之间的剥离或者聚酰亚胺层自身或其邻接层中的开裂。通过在基材上使勃姆石生长的方法形成的具有凹凸结构的氧化铝层中，该方法简单并且具有高生产率，并且该层显示出优异的光学性能。但是，在通过浸入热水中而形成凹凸结构的过程中容易发生基材的侵蚀或者基材组分例如碱离子的洗脱。因此，为了在防止基材损坏的同时增加减反射性能，采用在勃姆石的凹凸结构与基材之间形成薄膜的多层结构。但是，多层结构产生凹凸结构形成过程中的应变应力以产生各层之间的剥离或开裂。
发明内容
鉴于本领域的上述情况完成了本发明并且提供光学部件，该光学部件能够保持高效率的减反射效果，在制造过程中而且即使长时间使用后也不产生膜的剥离或开裂，并且提供该光学部件的制备方法。本发明提供具有下述构成的光学部件和该光学部件的制备方法。本发明的光学部件包括在基材的表面上形成的多个层。该多个层包括具有由氧化铝的晶体形成的凹凸结构的层和具有聚酰亚胺的层，并且该聚酰亚胺在主链中包括式(I) 所示的重复单元和式(2)所示的结构
权利要求
1.光学部件，包括在基材的表面上形成的多个层，其中该多个层包括具有由氧化铝的晶体形成的凹凸结构的层和具有聚酰亚胺的层；并且该聚酰亚胺在主链中包括式(I)所示的重复结构和式(2)所示的结构
2.根据权利要求I的光学部件，其中该聚酰亚胺中含有的式(2)所示的结构的摩尔量为O. 002-0. 05，基于该聚酰亚胺中含有的式(I)所示的重复单元I摩尔。
3.根据权利要求I的光学部件，其中该聚酰亚胺在末端具有式(3)所示的结构
4.根据权利要求I的光学部件，其中该聚酰亚胺在末端具有式(4)所示的结构
5.根据权利要求I的光学部件，其中该具有聚酰亚胺的层具有10nm-150nm的厚度。
6.根据权利要求I的光学部件，其中该具有聚酰亚胺的层与该基材直接接触。
7.光学部件的制备方法，包括通过将具有下式(5)所示的重复结构的聚酰亚胺和下式(6)所示的硅烷化合物添加到有机溶剂中而制备聚酰亚胺溶液；在基材或基材上形成的层上将该聚酰亚胺溶液铺展；通过干燥和/或烘烤该铺展的聚酰亚胺溶液而形成聚酰亚胺薄膜；和形成由氧化铝的晶体形成的凹凸结构
8.根据权利要求7的光学部件的制备方法，其中该聚酰亚胺具有96% -99. 9%的酰亚胺化率。
9.根据权利要求7的光学部件的制备方法，其中该聚酰亚胺在末端具有式(J)所示的结构
10.根据权利要求7的光学部件的制备方法，其中基于100重量份的该聚酰亚胺，以O. 3重量份-5重量份的量将该硅烷化合物添加到该有机溶剂中。
11.照相光学系统，包括根据权利要求I的光学部件。
12.观察光学系统，包括根据权利要求I的光学部件。
13.投影光学系统，包括根据权利要求I的光学部件。
全文摘要
本发明提供光学部件，其中至少将具有聚酰亚胺作为主要组分的层和具有由含有氧化铝作为主要组分的晶体形成的凹凸结构的层依次堆叠。该聚酰亚胺经由酰胺键在侧链中包括硅烷基团。
文档编号G02B1/10GK102602069SQ201210018478
公开日2012年7月25日 申请日期2012年1月16日 优先权日2011年1月19日
发明者中山宽晴, 槇野宪治 申请人:佳能株式会社