专利名称：盐、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法
技术领域：
本发明涉及ー种盐、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。
背景技术：
用于采用光刻エ艺的半导体微加工的光致抗蚀剂组合物包含具有酸不稳定基团的树脂和酸生成剂。US2008/166660A提到了包含具有酸不稳定基团和由式(I)表示的结构单元的树
脂的光致抗蚀剂组合物；
权利要求
1.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含由式(I)表示的盐
2.根据权利要求I或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中X2表示单键、亚甲基或1，2-亚乙基。
3.根据权利要求I或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中X2表示单键。
4.根据权利要求I或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中X1表示羰基或单键。
5.根据权利要求I或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中X1表示羰基。
6.根据权利要求I或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中R3表示甲基或氢原子。
7.根据权利要求I或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中R3表示甲基。
8.根据权利要求I或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中A1表示可以具有取代基的C3-C30脂环烃基，并且其中亚甲基可以被氧原子、磺酰基或羰基代替。
9.根据权利要求I或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中Z+是由式(b2-l-l)表示的有机阳离子
10.根据权利要求9所述的光致抗蚀剂组合物，其中Rbl9、Rb20和Rb21是甲基，并且V2、w2和x2各自独立地表示0或I。
11.根据权利要求I或2所述的光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物还包含具有由式(FI)表示的结构单元的树脂
12.一种用于制备光致抗蚀剂图案的方法，所述方法包括步骤(I)至(5) (1)将根据权利要求I或2所述的光致抗蚀剂组合物涂敷在基板上的步骤， (2)通过进行干燥而形成光致抗蚀剂膜的步骤， (3)将所述光致抗蚀剂膜对辐射曝光的步骤， (4)将曝光的光致抗蚀剂膜烘焙的步骤，以及 (5)将烘焙的光致抗蚀剂膜显影从而形成光致抗蚀剂图案的步骤。
13.一种由式⑴表不的盐
全文摘要
本发明提供盐、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。所述光致抗蚀剂组合物包含由式(I)表示的盐和树脂，其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，R1、R2和R3各自独立地表示氢原子或C1-C10一价脂族饱和烃基，X1和X2各自独立地表示单键、羰基或C1-C10二价脂族饱和烃基，其中氢原子可以被羟基代替，并且其中亚甲基可以被氧原子、磺酰基或羰基代替，A1表示C1-C30有机基团，ml表示1至4的整数，并且Z+表示有机阳离子，并且所述树脂难溶或不溶于碱性水溶液但是通过酸的作用可溶于碱性水溶液。
文档编号G03F7/004GK102952053SQ201210280649
公开日2013年3月6日 申请日期2012年8月8日 优先权日2011年8月11日
发明者增山达郎, 向井优一 申请人:住友化学株式会社