激光直写曝光机内层对位的装置的制作方法

文档序号:2694023阅读:173来源:国知局
专利名称:激光直写曝光机内层对位的装置的制作方法
技术领域
本实用新型属于印刷线路板曝光设备领域,具体涉及一种激光直写曝光机内层对位的装置。
背景技术
在制作印刷线路板时,往往需要对位一块印刷线路板的正反两面,即内层对位的功能。激光直写曝光机内层对位是通过提取印刷电路板边缘,印刷电路板上对位孔或者特征图形的坐标并与CAM图像上的对位坐标匹配计算,使CAM图像进行涨缩,平移和旋转,以此实现CAM图形与印刷线路板相匹配。印刷电路板上大都没有合适对位孔或者特征图形,因此提取印刷电路板上对位孔或者特征图形的方向并不被广泛使用;提取印刷电路板边缘的方法一般需要复杂的成像镜头以及CXD相机作为装置,其占用的空间大,成本高,而且对位的精度低,一般在20um以上。

实用新型内容本实用新型的目的是提供一种激光直写曝光机内层对位的装置,解决现有技术对位装置体积大,对位精度低的问题。本实用新型采用的技术方案是激光直写曝光机内层对位的装置,其特征在于包括有光源、透镜、光栏、待对位的内层电路板,所述的光源、透镜、光栏依次放置并处于同一水平线上,所述的光栏上开有一个光栏孔,待对位的内层电路板覆在光栏的背面;所述的光源发射的散射光经透镜聚成一束平行光束穿过光栏孔标记在待对位的内层电路板上。所述光源为LED,LED的波长为405nm,光束发散角为60°。所述透镜为平凸透镜。所述光栏的光栏孔为圆形,直径为a。本实用新型的有益效果在于 本实用新型体积小,成本低,而且对位精度高。

图1为本实用新型的结构示意图。图2为本实用新型光栏的A向视图。
具体实施方式
以下将结合一个实施例对本实用新型的作进一步的详细描述。如图1所示,激光直写曝光机内层对位的装置,包括有光源1、透镜2、光栏3、待对位的内层电路板,光源1、透镜2、光栏3依次放置并处于同一水平线上,光栏3上开有一个光栏孔4,待对位的内层电路板覆在光栏3的背面;光源I发射的散射光经透镜2聚成一束平行光束穿过光栏孔4标记在待对位的内层电路板上。光源I为LED,LED的波长为405nm,光束发散角为60°。透镜2为平凸透镜。如图2所示,光栏3的光栏孔4为圆形,直径为a=3mm。本实用新型的工作步骤为首先点亮光源1,光源I发出的扩散光经过透镜2变为平行光并照在光栏3上,在激光直写曝光机做内层电路板板时,内层电路板与光栏3相接触,内层电路板A面曝光图形的同时,B面便可以通过该装置获得直径为3_的圆形标记。
权利要求1.一种激光直写曝光机内层对位的装置,其特征在于包括有光源、透镜、光栏、待对位的内层电路板,所述的光源、透镜、光栏依次放置并处于同一水平线上,所述的光栏上开有一个光栏孔,待对位的内层电路板覆在光栏的背面;所述的光源发射的散射光经透镜聚成一束平行光束穿过光栏孔标记在待对位的内层电路板上。
2.根据权利要求1所述的一种激光直写曝光机内层对位的装置,其特征在于所述的光源为LED,LED的波长为405nm,光束发散角为60°。
3.根据权利要求1所述的一种激光直写曝光机内层对位的装置,其特征在于所述的透镜为平凸透镜。
4.根据权利要求1所述的一种激光直写曝光机内层对位的装置,其特征在于所述的光栏的光栏孔为圆形,直径为a。
专利摘要本实用新型公开了一种激光直写曝光机内层对位的装置,包括有光源、透镜、光栏、待对位的内层电路板,光源、透镜、光栏依次放置并处于同一水平线上,光栏上开有一个光栏孔,待对位的内层电路板覆在光栏的背面;光源发射的散射光经透镜聚成一束平行光束穿过光栏孔标记在待对位的内层电路板上。本实用新型体积小、成本低,而且对位精度高。
文档编号G03F7/20GK202837809SQ20122027143
公开日2013年3月27日 申请日期2012年6月8日 优先权日2012年6月8日
发明者吴俊 , 李文静, 李显杰, 刘文海 申请人:合肥芯硕半导体有限公司
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