液晶显示装置及其制造方法

液晶显示装置及其制造方法
【专利摘要】本申请公开了一种液晶显示装置及其制造方法，特别公开了一种柔性液晶显示装置及其制造方法。柔性液晶显示装置包括第一柔性基板和第二柔性基板。在第一柔性基板上布置层，并且在第二柔性基板上布置第一像素控制线。液晶显示装置还包括在第一柔性基板和第二柔性基板之间布置的维持第一柔性基板和第二柔性基板之间的单元间隙的聚合物壁。聚合物壁与第一像素控制线和在第一柔性基板上布置的层中的透光间隙大致对齐。
【专利说明】液晶显示装置及其制造方法【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示(IXD)装置，更具体地涉及包括用于维持单元间隙(cellgap)的聚合物壁的IXD装置。
【背景技术】
[0002]由于诸如良好的便携性和低操作电压引起的低功耗等优势，液晶显示(LCD)装置广泛应用于笔记本计算机、监视器、宇宙飞船、飞机等各种领域。
[0003]IXD装置包括下基板、上基板和在下基板和上基板之间形成的液晶层。
[0004]最近，对基于柔性塑料基板的柔性IXD装置的关注增加。柔性IXD装置是像纸一样可卷曲或者弯曲的装置，因而柔性LCD装置使得能够容易抓握和便于便携。由于这些优点，柔性显示装置已经被持续研究和开发作为下一代显示装置。
[0005]然而，当卷曲或者弯曲柔性LCD装置时，会具有涉及下基板和上基板之间的单元间隙不均匀的问题。为了克服这个单元间隙不均匀的问题，提出了在下基板和上基板之间应用聚合物壁的方法。
[0006]在下文，将描述包括聚合物壁的现有技术IXD装置。
[0007]图1A是现有技术IXD装置的立体图。图1B是现有技术IXD装置的截面图。
[0008]如图1A所示，现有技术IXD装置包括下基板10、上基板20、聚合物壁30和液晶40。
[0009]下基板10被设置在上基板20下方，并且聚合物壁30在下基板10和上基板20之间以矩阵构造形成。另外，液晶40设置在每个聚合物壁30之间的空间中。因而，即使现有技术LCD装置被重复卷曲或者弯曲，但是由于聚合物壁30，下基板10和上基板20之间的单元间隙仍被均匀地维持。
[0010]可以通过将下基板10和上基板20彼此接合同时提供紫外(UV)固化的化合物与液晶40的混合物，并且通过用UV光照射UV固化化合物形成具有期望形状的聚合物壁30的过程，来制造现有技术LCD装置。根据UV光的照射，UV固化化合物被固化为与液晶40相分离(phase s印aration)。另外，液晶40被放置在每个聚合物壁30之间。将参照图1B详细描述聚合物壁30。
[0011]如图1B所示，在现有技术IXD装置的下基板10上形成有线12，并且在线12上形成有钝化层14。在现有技术LCD装置的上基板20上，存在多个遮光层22、在每个遮光层22之间的滤色器层24和滤色器层24上的保护层(overcoat layer)26。另外,聚合物壁30形成在下基板10和上基板20之间，液晶40设置在每个聚合物壁30之间的空间中。
[0012]如上所述，通过用UV光照射UV固化化合物形成聚合物壁30。因而，为了形成聚合物壁30,下基板10的下表面或者上基板20的上表面必须被UV光照射。
[0013]然而，在上基板20上形成的遮光层22和滤色器层24具有较低的UV光透射率。因而，如果用UV光照射上基板20的上表面，则难以形成聚合物壁30。另外，在C0T(TFT上滤色器)结构(其中在下基板10上形成滤色器)的情况下，可以通过用UV光照射上基板20的上表面来形成聚合物壁30。在这种情况下，IXD装置的结构仅限于COT结构。
[0014]为了制造IXD装置的各种结构，必须通过在下基板10的下表面上照射UV光来形成聚合物壁30。也就是说，如附图所示，在下基板10下方放置包括透明部分50a和不透明部分50b的掩模50,接着,按照UV光从掩模50的下侧发射到下基板10的下表面的方式进行UV照射。因此，UV固化化合物被穿过透明部分50a的UV光照射，因而形成聚合物壁30。在此情况下，以与掩模50的透明部分50a的图案相同的图案形成聚合物壁30。
[0015]在此情况下，在下基板10上形成有诸如选通线或者数据线的线12，并且UV光不能够穿过这些线12。因此，掩模50的透明部分50a被放置为对应于除线12之外的其它区域。结果，聚合物壁30形成在除了线12之外的其它区域中，也就是说，它们形成在用于显示图像的像素区域中。由于聚合物壁30形成在用于显示图像的像素区域中，因而降低了 LCD装置的光透射率，因此也劣化了亮度。

【发明内容】

[0016]因此，本发明的实施方式旨在提供一种IXD装置及其制造方法，其基本上消除了由现有技术的局限和缺点导致的一个或多个问题。
[0017]本发明的实施方式的一个方面旨在提供一种IXD装置及其制造方法，其由于通过在上基板的上表面上的UV照射而形成聚合物壁，使得能够制造LCD装置的各种结构，并且还防止由在与选通线或者数据线对应的区域中形成的聚合物壁引起的亮度劣化。
[0018]在随后的描述中将会部分地阐述本发明的实施方式的附加的优点和特征，并且部分优点和特征通过下面的描述对于本领域的技术人员来说将是显而易见的，或者可以从本发明的实施方式的实践获知。通过在给出的描述及其权利要求以及附图中特别地指出的结构，可以实现并且获得本发明的目的和其它的优点。
[0019]在一个实施方式中，公开了一种柔性液晶显示(IXD)装置，其包括第一柔性基板和第二柔性基板。在第一柔性基板上布置有层，并且在第二柔性基板上布置有第一像素控制线。LCD装置还包括在第一柔性基板和第二柔性基板之间布置的维持第一柔性基板和第二柔性基板之间的单元间隙的聚合物壁。聚合物壁与第一像素控制线和在第一柔性基板上布置的层中的透光间隙大致对齐。
[0020]在一个实施方式中，在第一柔性基板上布置的层是滤色器层，并且透光间隙是滤色器层中的间隙。另选地，在第一柔性基板上布置的层是遮光层，并且透光间隙是遮光层中的间隙。在一个实施方式中，透光间隙对于紫外UV光是透明的。
[0021]在一个实施方式中，第一像素控制线是选通线，并且聚合物壁与选通线大致对齐。另选地，第一像素控制线是数据线，并且聚合物壁与数据线大致对齐。在一个实施方式中，与第一像素控制线交叉的第二像素控制线布置在第二柔性基板上，并且聚合物壁还与第二像素控制线大致对齐。
[0022]在一个实施方式中，聚合物壁形成为连续地横穿像素列或者像素行中的至少一个的直线。另选地，聚合物壁形成为间断地横穿像素列或者像素行中的至少一个的直线。
[0023]在一个实施方式中，液晶材料位于聚合物壁之间。
[0024]在一个实施方式中，柱间隔体与透光间隙交叠，并且被布置在第一柔性基板和第二柔性基板之间。所述柱间隔体还可以被聚合物壁包围。[0025]在一个实施方式中，公开了一种制造柔性IXD装置的方法。制备第一柔性基板，其中，在第一柔性基板上布置有层。制备第二柔性基板，其中，在第二柔性基板上布置有第一像素控制线。在第一柔性基板和第二柔性基板之间形成维持第一柔性基板和第二柔性基板之间的单元间隙的聚合物壁。聚合物壁与第一像素控制线和在第一柔性基板上布置的层中的透光间隙大致对齐。
[0026]在所述方法的一个实施方式中，在第一柔性基板和第二柔性基板之间设置光固化化合物和液晶的混合物。接着通过经由在第一柔性基板上布置的层中的透光间隙将所述混合物曝光来形成聚合物壁。
[0027]在所述方法的一个实施方式中，通过经由在第一柔性基板上布置的层中的透光间隙将所述混合物暴露于紫外(UV)光来形成聚合物壁。在所述方法的一个实施方式中，通过提供具有与透光间隙相匹配的掩模图案的掩模，并且经由掩模的掩模图案和在第一柔性基板上布置的层中的透光间隙将所述混合物曝光，来形成聚合物壁。
[0028]在所述方法的一个实施方式中，在第二柔性基板上布置与第一像素控制线交叉的第二像素控制线，并且聚合物壁被形成为与第二像素控制线大致对齐。
[0029]在一个实施方式中，制备所述第一柔性基板包括形成在第一柔性基板上布置的与第一柔性基板中的透光间隙交叠的柱间隔体。另选地，所述聚合物壁被形成为包围柱间隔体。
[0030]应该理解的是，本发明的实施方式的前面的一般性描述和下面的详细描述都是示例性和解释性的，旨在对所要求保护的本发明提供进一步的解释。
【专利附图】

【附图说明】
[0031]附图被包括在本申请中以提供对本发明的进一步理解，并结合到本申请中且构成本申请的一部分，附图示出了本发明的实施方式，并且与说明书一起用于解释本发明的原理。在附图中:
[0032]图1A是示意地例示现有技术IXD装置的立体图，图1B是示意地例示现有技术IXD装置的截面图；
[0033]图2A是例示根据本发明的第一实施方式的IXD装置的上基板的平面图，图2B是例示根据本发明的第一实施方式的LCD装置的下基板的平面图，图2C是例示根据本发明的第一实施方式的LCD装置中的聚合物壁的平面图，图2D是根据本发明的第一实施方式的IXD装置的截面图；
[0034]图3A是例示根据本发明的第二实施方式的IXD装置的上基板的平面图，图3B是例示根据本发明的第二实施方式的LCD装置中的聚合物壁的平面图；
[0035]图4A是例示根据本发明的第三实施方式的IXD装置的上基板的平面图，图4B是例示根据本发明的第三实施方式的LCD装置中的聚合物壁的平面图；
[0036]图5A是例示根据本发明的第四实施方式的LCD装置的上基板的平面图，图5B是例示根据本发明的第四实施方式的LCD装置中的聚合物壁的平面图；
[0037]图6A是例示根据本发明的第五实施方式的IXD装置的上基板的平面图，图6B是例示根据本发明的第五实施方式的LCD装置的下基板的平面图，图6C是例示根据本发明的第五实施方式的LCD装置中的聚合物壁的平面图，图6D是根据本发明的第五实施方式的IXD装置的截面图；
[0038]图7A是例示根据本发明的第六实施方式的LCD装置的上基板的平面图，图7B是例示根据本发明的第六实施方式的LCD装置中的聚合物壁的平面图；
[0039]图8A是例示根据本发明的第七实施方式的IXD装置的上基板的平面图，图SB是例示根据本发明的第七实施方式的LCD装置中的聚合物壁的平面图；
[0040]图9A是例示根据本发明的第八实施方式的LCD装置的上基板的平面图，图9B是例示根据本发明的第八实施方式的LCD装置中的聚合物壁的平面图；以及
[0041]图1OA是例示根据本发明的第九实施方式的IXD装置的上基板的平面图，图1OB是例示根据本发明的第九实施方式的LCD装置中的聚合物壁的平面图。
【具体实施方式】
[0042]下面将参照附图来详细地描述本发明的实施方式。
[0043]图2A是例示根据本发明的第一实施方式的IXD装置的上基板的平面图，图2B是例示根据本发明的第一实施方式的LCD装置的下基板的平面图，图2C是例示根据本发明的第一实施方式的LCD装置中的聚合物壁的平面图，图2D是根据本发明的第一实施方式的IXD装置的截面图。
[0044]如图2A所示，在根据本发明的第一实施方式的IXD装置的上基板100上，存在遮光层110和在遮光层110内散置的滤色器层120。
[0045]遮光层110防止光泄漏到除用于显示图像的像素区域之外的其它区域中。遮光层110可以包括第一遮光图案112、第二遮光图案114和第三遮光图案116。
[0046]第一遮光图案112形成在上基板100的周边。也就是说，第一遮光图案112形成在上基板100的不显示图像的四个侧边。
[0047]第二遮光图案114和第三遮光图案116形成在第一遮光图案112的内侧。也就是说，第二遮光图案114和第三遮光图案116形成在上基板100的显示图像的中部。
[0048]第二遮光图案114沿第一方向(例如，与IXD装置的下基板上的选通线相同方向的水平方向)形成。第三遮光图案116沿不同于第一方向的第二方向(例如，与LCD装置的下基板上的数据线相同方向的竖直方向)形成。
[0049]在第二遮光图案114内部，存在对UV光透明的透光部分114a。另外，在第三遮光图案116内部设置有透光部分116a。UV光穿过透光部分116a。透光部分114a和透光部分116a是遮光层110和/或滤色器层120中的间隙。当被一起或者单独考虑时，透光部分114a和透光透部分116a形成对UV光透明的透光图案。
[0050]因此，当用UV光照射上基板100的上表面时，UV光可以不穿过对应于遮光层110和滤色器层120的区域，而UV光可以容易地穿过透光部分114a和116a。因此，可以按照与透光部分114a和116a的图案相对应并且相匹配的图案来形成要描述的聚合物壁。
[0051]如图2B所示，在IXD装置的下基板200上形成有彼此交叉的选通线210和数据线220，因而限定多个像素。选通线和数据线承载用于控制像素的操作的像素控制信号。如此处所使用的，术语像素控制线可以用于指选通线210或者数据线220。
[0052]选通线210彼此平行并且沿第一方向(例如，与上述第二遮光图案114相同方向的水平方向)形成。数据线220彼此平行，并且沿不同于第一方向的第二方向(例如，与上述第三遮光图案116相同方向的竖直方向)形成。
[0053]在选通线210和数据线220的交叉区域处，存在用作开关元件的薄膜晶体管T。薄膜晶体管T电连接到它们各自的像素电极230。
[0054]在一个实施方式中，取决于LCD装置的驱动模式，例如，扭曲向列(TN)模式、垂直对准(VA)模式、面内切换(IPS)模式、边缘场切换(FFS)模式等，上基板100和下基板200的详细结构可以不同。
[0055]如图2C所示，根据本发明的第一实施方式的IXD装置的聚合物壁300可以包括第一壁图案310和第二壁图案320。
[0056]以与上述第二遮光图案114和第三遮光图案116中包括的透光部分114a和116a相对应的图案形成聚合物壁300。也就是说，第一壁图案310设置在第一方向(也就是说，与第二遮光图案114中包括的透光部分114a的方向相同的方向)上。第一壁图案310、选通线210和透光部分114a全部大致地彼此对齐。第二壁图案320设置在第二方向(也就是说，与第三蔽光图案116中包括的透光部分116a的方向相同的方向)上。第二壁图案320、数据线220和透光部分116a全部大致地彼此对齐。
[0057]在下文，将参照图2D描述根据本发明的第一实施方式的LCD装置的截面结构及其制造方法。
[0058]如图2D所示，其中包括透光部分116a的第三蔽光图案116形成在上基板100上，并且滤色器层120形成在每个第三蔽光图案116之间的间隔中。上基板100可以由柔性塑料形成。
[0059]滤色器层120可以与第三蔽光图案116交叠，但是滤色器层120不与透光部分116a交叠。如果滤色器层120延伸到透光部分116a，则难以获得聚合物壁300的期望图案。因此，滤色器层120不与透光部分116a交叠。
[0060]可以在滤色器层120上形成保护层130。如果IXD装置是TN模式或者VA模式，则可以形成公共电极而不是保护层130。
[0061]如图2D的放大部分所示,在保护层130上形成有柱间隔体(column spacer) 140。柱间隔体140被设置为在形成聚合物壁300之前维持初始单元间隙。柱间隔体140被接合到上基板100，但是不被接合到下基板200。
[0062]柱间隔体140可以形成在非显示区域(例如，用于选通线或者数据线的区域中)。也就是说，柱间隔体140可以与透光部分116a交叠。因此，如果如图2D的上部放大部分所示，柱间隔体140的宽度小于透光部分116a，则柱间隔体140被聚合物壁300包围。然而，如果如图2D的下部放大部分所示，柱间隔体140的宽度大于透光部分，则柱间隔体140不被聚合物壁300包围。
[0063]同时，柱间隔体140可以形成在不与选通线或者数据线对应的区域中，例如，柱间隔体140可以形成在形成薄膜晶体管的区域中。
[0064]如在本发明的实施方式的以下描述中所示的，透光部分可以不形成在与选通线或者数据线的一些部分相对应的区域中。在此情况下，柱间隔体140可以形成在与不形成透光部分的区域相对应的选通线或者数据线处。
[0065]在上基板200上形成有栅绝缘膜215，并且在栅绝缘膜215上形成有数据线220。下基板200可以由柔性塑料形成。另外，在数据线220上形成有钝化层225，并且在钝化层225上形成有像素电极230。如果IXD装置是IPS模式，则像素电极230可以以手指结构形成，并且可以与像素电极230平行地附加设置公共电极。
[0066]用于维持单元间隙的聚合物壁300形成在上基板100和下基板200之间，并且液晶400设置在每个聚合物壁300之间。
[0067]聚合物壁300与上基板100上的遮光图案116中包括的透光部分116a相交叠并且对齐。并且聚合物壁300与下基板200上的数据线220相交叠并且对齐。由于聚合物壁300与数据线220交叠并且对齐，因此不会由于聚合物壁300而降低IXD装置的光透射率。
[0068]下面将详细描述制造根据本发明的第一实施方式的LCD装置的方法。
[0069]首先，制备上述的上基板100和下基板200。
[0070]接着，在将UV固化化合物和液晶400的混合物提供到上基板100和下基板200之间的空间中时，将上基板100和下基板200彼此接合。混合物可以包括附加的光引发剂。UV固化化合物和光引发剂可以由本领域技术人员通常已知的各种材料形成。
[0071]可以通过真空注射法或者液晶分配法(dispensing method)进行上基板100和下基板200的接合处理。在真空注射法的情况下，通过使用具有入口的密封剂将上基板100和下基板200彼此附接之后，在真空状态下通过入口注入UV固化化合物和液晶400的混合物。在液晶分配法的情况下，在将UV固化化合物和液晶400的混合物分配在上基板100和下基板200中的任意一个上之后，通过使用没有入口的密封剂将上基板100和下基板200彼此附接。
[0072]接着，通过UV照射将UV固化化合物固化到上基板100的上表面上。也就是说，当不使用附加掩模而将UV光照射在上基板100的上表面时，UV光通过遮光层110中包括的透光部分114a和116a入射在UV固化化合物上。因而，UV固化化合物被固化为与液晶400相分离，因而形成聚合物壁300，并且液晶400形成在每个聚合物壁300之间。
[0073]即使降低了光透射率，但仍有可能UV光可以穿过滤色器层120。在此情况下，可能不能获得聚合物壁300的期望形状。在一个实施方式中，在上基板100上方放置附加掩模，用于控制到上基板100的上表面上的UV光照射。在此情况下，附加掩模可以设置有透明掩模图案，其图案与透光部分114a和116a的图案相同并且相匹配。
[0074]如上所述，本发明的优点在于由于到上基板100的上表面上的UV照射，而可以应用于各种类型的LCD装置。特别地，由于遮光层110和滤色器层120被用作掩模，在没有附加掩模的情况下进行UV照射，因而可以降低成本并且简化制造过程。
[0075]下面将参照图3A、图3B、图4A、图4B、图5A和图5B描述IXD装置的第二、第三和第四实施方式。第二实施方式、第三实施方式和第四实施方式类似于图2A到图2D的第一实施方式，除了遮光层110和聚合物壁300现在具有与第一实施方式不同的图案之外。
[0076]图3A是例示根据本发明的第二实施方式的IXD装置的上基板的平面图。图3B是例示根据本发明的第二实施方式的LCD装置中的聚合物壁的平面图。
[0077]根据本发明的第二实施方式，如图3A所示，在上基板100上形成有遮光层100，并且在遮光层110的间隙中形成有滤色器层120。
[0078]遮光层110可以包括第一遮光图案112、第二遮光图案114和第三遮光图案116。
[0079]第二遮光图案114没有透光部分，并且第三遮光图案116设置有透光部分116a。因而，当用UV光照射上基板100的上表面时，UV光穿过第三遮光图案116中包括的透光透部分116a。
[0080]最终，如图3B所示，根据本发明的第二实施方式的LCD装置中的聚合物壁300包括与第三遮光层116中包括的透光部分116a相对应的第二壁图案320。
[0081]图4A是例示根据本发明的第三实施方式的IXD装置的上基板的平面图。图4B是例示根据本发明的第三实施方式的LCD装置中的聚合物壁的平面图。
[0082]根据本发明的第三实施方式，如图4A所示，在上基板100上形成有遮光层100，并且在每个遮光层110之间形成有滤色器层120。
[0083]遮光层110可以包括第一遮光图案112、第二遮光图案114和第三遮光图案116。
[0084]第二遮光图案114设置有透光部分114a，并且第三遮光图案116没有设置透光部分。因而，当用UV光照射上基板100的上表面时，UV光穿过第二遮光图案114中包括的透光部分114a。
[0085]最终，如图4B所示，根据本发明的第三实施方式的LCD装置中的聚合物壁300包括与第二遮光层114中包括的透光部分114a相对应的第一壁图案310。
[0086]图5A是例示根据本发明的第四实施方式的LCD装置的上基板的平面图。图5B是例示根据本发明的第四实施方式的LCD装置中的聚合物壁的平面图。
[0087]根据本发明的第四实施方式，如图5A所示，在上基板100上形成有遮光层100，并且在每个遮光层110之间形成有滤色器层120。
[0088]遮光层110可以包括第一遮光图案112、第二遮光图案114和第三遮光图案116。
[0089]第二遮光图案114设置有透光部分114a，并且第三遮光图案116没有设置透光部分。
[0090]在第二遮光图案114和第三遮光图案116的交叉区域中不形成透光部分114a。因而，透光部分114a形成为具有多个片段的断续直线。也就是说，根据上述本发明的上述第三实施方式，在第二遮光图案114和第三遮光图案116的交叉区域中形成透光部分114a，因而透光部分114a形成为连续横穿不同像素列的连续直线。然而，在本发明的第四实施方式的情况下，在第二遮光图案114和第三遮光图案116的交叉区域中不形成透光部分114a，因而透光部分114a形成为间断地横穿不同像素列的断续直线。
[0091]最终，如图5B所示，根据本发明的第四实施方式的IXD装置中的聚合物壁300包括与第二遮光层114中包括的透光部分114a相对应的断续直线的第一壁图案310。断续直线包括间断地横穿不同像素列的多个片段。
[0092]在上述图3A的第二实施方式中，尽管没有示出，可以不在第二遮光图案114和第三遮光图案116的交叉区域中形成透光部分116a，也就是说，透光部分116a可以形成为间断地横穿不同像素行的断续直线，因而第二壁图案320可以是间断地横穿不同像素行的断
续直线。
[0093]图6A是例示根据本发明的第五实施方式的IXD装置的上基板100的平面图，图6B是例示根据本发明的第五实施方式的LCD装置的下基板200的平面图，图6C是例示根据本发明的第五实施方式的LCD装置中的聚合物壁300的平面图，图6D是根据本发明的第五实施方式的LCD装置的截面图，其中图6D是沿着图6A和图6B的1-1截取的截面图。第五实施方式类似于图2A至图2D的第一实施方式，但是遮光层110现在具有不同的外观。对于以下描述，将省略针对第一实施方式已经描述过的结构的详细说明。[0094]如图6A所示，根据本发明的第五实施方式，遮光层110和滤色器层120形成在LCD装置的上基板100上。
[0095]遮光层110不形成在之上显示图像的上基板100的中部。也就是说，遮光层110可以包括在上基板100的周边形成的第一遮光图案112。
[0096]滤色器层120被形成为对应于多个像素。滤色器层120不形成在每个像素之间的边界区域中，更具体地，不形成在与下基板200上的选通线210和数据线220相对应的区域中。也就是说，滤色器层120包括在与选通线210和数据线220相对应的区域中形成的透光部分120a。因而，当用UV光照射上基板100的上表面时，UV光容易地穿过滤色器层120的透光部分120a。因此，聚合物壁300可以按照与透光部分120a的图案相对应的图案形成。
[0097]如图6B所示，在根据本发明的第五实施方式的IXD装置的下基板200上形成有彼此交叉的选通线210和数据线220，其中选通线210设置在第一方向上，并且数据线220设置在第二方向上。在选通线210和数据线220的交叉区域处，存在薄膜晶体管T。薄膜晶体管T电连接到它们各自的像素电极230。
[0098]如图6C所示，根据本发明的第五实施方式的IXD装置中的聚合物壁300可以包括第一壁图案310和第二壁图案320。
[0099]聚合物壁300按照与透光部分120a相对应的图案形成。也就是说，第一壁图案310设置在第一方向(也就是说，与选通线210相对应的透光部分120a的方向相同的方向)上。并且第二壁图案320设置在第二方向(也就是说，与数据线220相对应的透光部分120a的方向相同的方向)上。
[0100]在下文，将参照图6D描述根据本发明的第五实施方式的LCD装置的截面结构及其制造方法。
[0101]如图6D所示，在上基板100上形成有包括透光部分120a的滤色器层120，并且在滤色器层120上形成有保护层130。
[0102]在下基板200上形成有栅绝缘膜215，并且在栅绝缘膜215上形成有数据线220。另外，在数据线220上形成有钝化层225，并且在钝化层225上形成有像素电极230。
[0103]在上基板100和下基板200之间形成有用于维持单元间隙的聚合物壁300，并且液晶400设置在每个聚合物壁300之间。
[0104]聚合物壁300可以与上基板100上的滤色器层120中包括的透光部分120a交叠。并且，聚合物壁300可以与下基板200上的数据线220交叠。
[0105]在下文，将详细描述制造根据本发明的第五实施方式的LCD装置的方法。
[0106]首先，制备上述的上基板100和下基板200。
[0107]在将UV固化化合物和液晶400的混合物提供到上基板100和下基板200之间的空间中时，将上基板100和下基板200彼此接合。混合物可以包括附加的光引发剂。
[0108]接着，通过将UV光照射到上基板100的上表面使UV固化化合物固化。也就是说，当UV光照射在上基板100的上表面时，UV光通过滤色器层120中包括的透光部分120a入射到UV固化化合物上。因而，UV固化化合物被固化为与液晶400相分离，从而形成聚合物壁300，并且液晶400形成在每个聚合物壁300之间。
[0109]下面将参照图7A、图7B、图8A、图8B、图9A、图9B、图1OA和图1OB描述LCD装置的第六、第七、第八和第九实施方式。第六实施方式、第七实施方式、第八实施方式和第九实施方式类似于图6A到图6D的第五实施方式，除了滤色器层120、遮光层110和聚合物壁300现在具有与第五实施方式不同的图案之外。
[0110]图7A是例示根据本发明的第六实施方式的IXD装置的上基板100的平面图，图7B是例示根据本发明的第六实施方式的LCD装置中的聚合物壁300的平面图。
[0111]根据本发明的第六实施方式，如图7A所示，包括第一遮光图案112的遮光层100形成在上基板100的周边，并且滤色器层120形成在上基板100的中部。
[0112]滤色器层120中包括透光部分120a。在此情况下，透光部分120a不形成在与下基板200的选通线210相对应的区域中，并且透光部分120a形成在与数据线220相对应的区域中。
[0113]也就是说，滤色器层120不形成在沿着水平方向设置的像素行中的每个像素的之间的周边区域中。然而，滤色器层120形成在沿着竖直方向设置的像素列中的每个像素的之间的周边区域(B)中。
[0114]因而，当用UV光照射上基板100的上表面时，UV光容易地穿过在与数据线220相对应的区域中形成的透光部分120a。
[0115]因此，如图7B所示，根据本发明的第六实施方式的LCD装置中的聚合物壁300包括与上述滤色器层120中包括的透光部分120a相对应的第二壁图案320。
[0116]图8A是例示根据本发明的第七实施方式的IXD装置的上基板100的平面图，图8B是例示根据本发明的第七实施方式的LCD装置中的聚合物壁300的平面图。
[0117]根据本发明的第七实施方式，如图8A所示，在上基板100的周边形成有包括第一遮光图案112的遮光层100，并且在上基板100的中部形成有滤色器层120。
[0118]滤色器层120中包括透光部分120a。在此情况下，透光部分120a形成在与下基板200的选通线210相对应的区域中，并且透光部分120a不形成在与数据线220相对应的区域中。
[0119]也就是说，滤色器层120形成在沿着水平方向设置的像素行中的每个像素的之间的周边区域(B)中。然而，滤色器层120不形成在沿着竖直方向设置的像素列中的每个像素的之间的周边区域中。
[0120]因而，当用UV光照射上基板100的上表面时，UV光容易地穿过在与选通线210相对应的区域中形成的透光部分120a。
[0121]因此，如图SB所示，根据本发明的第七实施方式的LCD装置中的聚合物壁300可以包括与上述滤色器层120中包括的透光部分120a相对应的第一壁图案310。
[0122]图9A是例示根据本发明的第八实施方式的LCD装置的上基板的平面图，图9B是例示根据本发明的第八实施方式的LCD装置中的聚合物壁的平面图。
[0123]根据本发明的第八实施方式，如图9A所示，在上基板100上形成有遮光层110和滤色器层120。
[0124]遮光层110可以包括在上基板100的周边形成的第一遮光图案112和在上基板100的中部形成的第二遮光图案114。
[0125]滤色器层120中包括透光部分120a。在此情况下，透光部分120a形成在与下基板200的数据线220相对应的区域中，也就是说，形成在不形成第二遮光图案114的区域中。[0126]因而，当用UV光照射上基板100的上表面时，UV光容易地穿过在与数据线220相对应的区域中形成的透光部分120a。
[0127]因此，如图9B所示，根据本发明的第八实施方式的LCD装置中的聚合物壁300包括与上述滤色器层120中包括的透光部分120a相对应的第二壁图案320。
[0128]尽管在图9A中未示出，但是遮光层110可以包括在第二 (竖直)方向上设置的第三遮光图案116，而不是在第一(水平)方向上设置的第二遮光图案114。在此情况下，最终获得的聚合物壁300可以包括在第一(水平)方向上设置的第一壁图案。
[0129]图1OA是例示根据本发明的第九实施方式的IXD装置的上基板的平面图，图1OB是例示根据本发明的第九实施方式的LCD装置中的聚合物壁的平面图。
[0130]根据本发明的第九实施方式，如图1OA所示，在上基板100上形成有遮光层110和滤色器层120。
[0131]遮光层110可以包括在上基板100的周边形成的第一遮光图案112和在上基板100的中部形成的第二遮光图案114。
[0132]在上述本发明的第八实施方式中，第二遮光图案114形成为间断地横穿像素列的断续直线，因而滤色器层10中包括的透光部分120a形成为连续地横穿像素行的连续直线。因而，聚合物壁300包括形成为连续直线的第二壁图案320。
[0133]相反地，根据本发明的第九实施方式，第二遮光图案114形成为连续地横穿像素列的连续直线，因而透光部分120a形成为间断地横穿不同像素行的断续直线。因此，如图1OB所示，聚合物壁300包括形成为断续直线的第二壁图案320，该断续直线包括多个片段并且间断地横穿不同像素行。
[0134]尽管在图1OA中未示出，但是遮光层110可以包括在第二(竖直)方向上设置的第三遮光图案116，而不是在第一(水平)方向上设置的第二遮光图案114。在此情况下，最终获得的聚合物壁可以包括在第一(竖直)方向上设置的第一壁图案。
[0135]根据本发明的实施方式，由于聚合物壁300可以与选通线210或者数据线220交叠，因而聚合物壁300不会降低IXD装置的光透射率。另外，UV照射可以应用于上基板100的上表面，因而可以应用于各种结构的IXD装置的制造过程。
[0136]对于本领域技术人员而言很明显的是，可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下对本发明做出各种修改和变化。因此，本发明旨在涵盖本发明的各种修改和变化，只要它们落入所附权利要求及其等同物范围内。
[0137]相关申请的交叉引用
[0138]本申请要求于2012年10月22日提交的韩国专利申请N0.10-2012-0117161的优先权，通过引用将其并入这里。
【权利要求】
1.一种柔性液晶显示IXD装置，所述柔性IXD装置包括: 第一柔性基板； 在所述第一柔性基板上布置的层； 第二柔性基板； 在所述第二柔性基板上布置的第一像素控制线；以及 布置在所述第一柔性基板和所述第二柔性基板之间的维持所述第一柔性基板和所述第二柔性基板之间的单元间隙的聚合物壁，其中所述聚合物壁与所述第一像素控制线和在所述第一柔性基板上布置的所述层中的透光间隙大致对齐。
2.根据权利要求1所述的LCD装置，其中，在所述第一柔性基板上布置的所述层是滤色器层，并且所述透光间隙是所述滤色器层中的间隙。
3.根据权利要求1所述的LCD装置，其中，在所述第一柔性基板上布置的所述层是遮光层，并且所述透光间隙是所述遮光层中的间隙。
4.根据权 利要求1所述的LCD装置，其中，所述第一像素控制线是选通线，并且所述聚合物壁与所述选通线大致对齐。
5.根据权利要求1所述的LCD装置，其中，所述第一像素控制线是数据线，并且所述聚合物壁与所述数据线大致对齐。
6.根据权利要求1所述的IXD装置，所述IXD装置还包括: 在所述第二柔性基板上布置的与所述第一像素控制线交叉的第二像素控制线， 其中，所述聚合物壁与所述第二像素控制线大致对齐。
7.根据权利要求1所述的LCD装置，其中，所述透光间隙对于紫外UV光是透明的。
8.根据权利要求1所述的LCD装置，其中，所述聚合物壁被形成为连续地横穿像素列或者像素行中的至少一个的直线。
9.根据权利要求1所述的LCD装置，其中，所述聚合物壁被形成为间断地横穿像素列或者像素行中的至少一个的直线。
10.根据权利要求1所述的IXD装置，所述IXD装置还包括: 位于所述聚合物壁之间的液晶材料。
11.根据权利要求1所述的IXD装置，所述IXD装置还包括: 与所述透光间隙交叠并且被布置在所述第一柔性基板和所述第二柔性基板之间的柱间隔体。
12.根据权利要求11所述的LCD装置，其中，所述柱间隔体被所述聚合物壁包围。
13.一种用于制造柔性液晶显示LCD装置的方法，所述方法包括以下步骤: 制备第一柔性基板，其中，在所述第一柔性基板上布置有层； 制备第二柔性基板，其中，在所述第二柔性基板上布置有第一像素控制线；以及 在所述第一柔性基板和所述第二柔性基板之间形成维持所述第一柔性基板和所述第二柔性基板之间的单元间隙的聚合物壁，其中所述聚合物壁与所述第一像素控制线和在所述第一柔性基板上布置的层中的透光间隙大致对齐。
14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述方法还包括: 在所述第一柔性基板和所述第二柔性基板之间提供光固化化合物和液晶的混合物； 其中，通过经由在所述第一柔性基板上布置的层中的所述透光间隙将所述混合物曝光来形成所述聚合物壁。
15.根据权利要求14所述的方法，其中，形成所述聚合物壁的步骤包括以下步骤: 通过经由在所述第一柔性基板上布置的层中的所述透光间隙将所述混合物暴露于紫外UV光来形成所述聚合物壁。
16.根据权利要求14所述的方法，所述方法还包括: 提供具有与所述透光间隙相匹配的掩模图案的掩模； 其中，通过经由所述掩模的所述掩模图案和在所述第一柔性基板上布置的层中的所述透光间隙将所述混合物曝光来形成所述聚合物壁。
17.根据权利要求13所述的方法，其中，在所述第二柔性基板上布置与所述第一像素控制线交叉的第二像素控制线，并且其中所述聚合物壁被形成为与所述第二像素控制线大致对齐。
18.根据权利要求13所述的方法，其中，制备所述第一柔性基板包括形成在所述第一柔性基板上布置的与所述第一柔性基板中的所述透光间隙交叠的柱间隔体。
19.根据权利要求18所述的方法，其中，所述聚合物壁被形成为包围所述柱间隔体。
【文档编号】G02F1/1333GK103777420SQ201310216617
【公开日】2014年5月7日 申请日期:2013年6月3日 优先权日:2012年10月22日
【发明者】金东国, 蔡基成, 申东天, 张元凤, 李重夏, 郭泰亨 申请人:乐金显示有限公司