匀胶版制造工艺的制作方法
【专利摘要】一种匀胶版制造工艺，包括以下步骤：抛光，提供所要生产的匀胶版提供相应尺寸的玻璃基板并进行抛光处理，所述抛光处理包括粗抛与精抛两次抛光处理；清洗，清洗时在清洗机的水箱内增加支撑架支撑抛光后的玻璃基板，并将风刀设置于第二段对玻璃基板进行吹干；镀膜，在清洗后的玻璃基板上先镀一层氮化金属膜，然后再镀一层氮化金属膜和一层氧化金属膜；涂胶，在玻璃基板的膜上涂一层光刻胶，所述光刻胶采用采用静止滴胶的方式边旋转边滴胶；以及坚膜，玻璃基板在涂胶后先水平静置再竖立坚膜，在利用常规尺寸匀胶版的制造设备的基础上，通过对各环节工艺参数的改进，生产出非常规的大尺寸的匀胶版，大幅缩减了生产成本。
【专利说明】匀胶版制造工艺
【技术领域】
[0001]本发明涉及匀胶版的制造，特别是涉及大尺寸匀胶版的制造工艺。
【背景技术】
[0002]匀胶版是一种硬面光掩模基版，具有高的感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清洁处理、使用寿命长等特点，被广泛应用于1C、LCD、PCB、PDP等产品掩膜版的制作，是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料。
[0003]匀胶版具有几种常规尺寸，如450mm*550mm、406.4mm*457.2mm等，相应地匀胶版
的生产设备也是根据其常规尺寸相配备的，当需要制作常用尺寸的匀胶版时，则需要更改现有的生产设备或另外制造相匹配的设备，前者会对这个制造工艺的稳定性造成一定的影响，后者则会大幅度的增加生产成本，另外，对于大尺寸的匀胶版的生产，以现有生产设备和工艺标准会存在一系列问题，如抛光机摆臂范围超出、抛光粉痕迹清洗不掉、旋涂机功率小惯性过大等。
【发明内容】
[0004]有鉴于此，提供一种匀胶版制造工艺，适用于非常规的大尺寸的匀胶版的生产制造。
[0005]一种匀胶版制造工艺，包括以下步骤:抛光，提供所要生产的匀胶版提供相应尺寸的玻璃基板并进行抛光处理，所述抛光处理包括粗抛与精抛两次抛光处理；清洗，清洗时在清洗机的水箱内增加支撑架支撑抛光后的玻璃基板，并将风刀设置于第二段对玻璃基板进行吹干；镀膜，在清洗后的玻璃基板上先镀一层氮化金属膜，然后再镀一层氮化金属膜和一层氧化金属膜；涂胶，在玻璃基板的膜上涂一层光刻胶，所述光刻胶采用采用静止滴胶的方式边旋转边滴胶；以及坚膜，玻璃基板在涂胶后先水平静置，再竖立烘焙坚膜。
[0006]本发明匀胶版生成工艺在利用常规尺寸匀胶版的制造设备的基础上，通过对各环节工艺参数的改进，生产出非常规的大尺寸的匀胶版，大幅缩减了生产成本。
【专利附图】
【附图说明】
[0007]图1为本发明匀胶版制造工艺流程图。
【具体实施方式】
[0008]以下将结合附图及【具体实施方式】对本发明进行详细说明。
[0009]本发明匀胶版制造工艺用于生产制造非常规的大尺寸的匀胶版，如规格为508mm*609mm的匀胶版等，利用现有常规尺寸的匀胶版的生产设备，最大程度上缩减生产成本。如图1所示，本发明匀胶版的生产工艺包括以下步骤:抛光、清洗、镀膜、涂胶以及坚膜。以下以生产508mm*609_的勻胶版为例，对本发明勻胶版制造工艺进行详细说明。
[0010]首先，根据所要制造的匀胶版的尺寸提供相应尺寸的玻璃基板，并对玻璃基板进行抛光处理使其达到较高的平整度与光洁度。
[0011]所述玻璃基板可以是钠钙玻璃板、硼硅玻璃板、石英玻璃板等。如本实施例中所使用的玻璃基板的尺寸为508mm*609mm*4.8mm,进行抛光时,缺陷点大，通过粗抛、精抛两次抛光的方式，采用现有抛光粉，第一次粗抛按正反两面抛光30分钟，当缺陷被抛掉后，第二次精抛时间为正面小于I分钟，反面1-3分钟，把缺陷研磨在接受范围内，同时玻璃基板背面残留的抛光粉痕迹得到有效的处理，便于后续清洗。在抛光过程中，为避免撞到四周的围栏，可以适当调小抛光机摇臂摆幅。
[0012]在抛光完成后，需要对玻璃基板进行清洗，去除玻璃基板表面的碎屑、灰尘、残留的抛光粉等。
[0013]由于所使用的玻璃基板较常规尺寸大，玻璃基板的重量也相应地更大，抛光后手直接清洁很费力，可以在水箱内加一个支撑架后得到较好清洗效果。清洗时，由于风刀第一段水量较大，大尺寸的玻璃基板离风刀口太近，导致吹得不是特别干净，第二段再用风刀吹的时候会留下印子，经过对风刀的多次试验更换调节，将风刀由原来放置在第一段改在第二段，第一段风刀停止不用，避免一次性风刀不能吹干表面，引起的水溃现象。另外，可以相应地更改滚刷及滚刷出的啮合齿轮，使大尺寸的玻璃基板可以顺畅通过滚刷段，如将滚刷加长至510mm。
[0014]经过清洗之后，即进行镀膜，在玻璃板上生成氮化/氧化金属膜层。
[0015]由于常规镀膜车架并不适合大尺寸的玻璃基板镀膜，可以将2个限制的常规镀膜车架更改成大尺寸玻璃基板镀膜的专用车架。所述镀膜包括两次镀膜，第一次在玻璃基板上只镀一层氮化金属膜，镀膜时电流调小一倍。第一次镀膜之后进行清洗，然后再进行第二次镀膜，第二次镀膜是在玻璃基板上镀一层氮化金属膜和一层氧化金属膜，两次镀膜所形成氮化/氧化金属膜层，针孔非常少，制版后效果显著。
[0016]镀膜完成后，即进行涂胶操作，在玻璃基板的氮化/氧化金属膜层上涂覆光刻胶。
[0017]常规的旋涂机功率小、惯性大，用于大尺寸的玻璃基板的涂胶工艺，涂胶后四角中间严重不均匀，且出现下盘印。本发明对现有旋涂机的滴胶方式、滴胶压力、滴胶转速、加速转速、恒速时间、光刻胶粘度、以及制作托盘的PVC垫板均进行了更改或调整。以508mm*609mm*4.8mm规格玻璃基板为例，滴胶方式采用静止滴胶，边旋转边滴胶，所使用的PVC垫板上开有吸气小孔，其它具体参数如表I所示:
表1508mm*609mm*4.8mm玻璃基板涂胶工艺参数
【权利要求】
1.一种匀胶版制造工艺，包括以下步骤: 抛光，提供所要生产的匀胶版提供相应尺寸的玻璃基板并进行抛光处理，所述抛光处理包括粗抛与精抛两次抛光处理； 清洗，清洗时在清洗机的水箱内增加支撑架支撑抛光后的玻璃基板，并将风刀设置于第二段对玻璃基板进行吹干； 镀膜，在清洗后的玻璃基板上先镀一层氮化金属膜，然后再镀一层氮化金属膜和一层氧化金属膜； 涂胶，在玻璃基板的膜上涂一层光刻胶，所述光刻胶采用采用静止滴胶的方式边旋转边滴胶；以及 坚膜，玻璃基板在涂胶后先水平静置，再竖立烘焙坚膜。
2.如权利要求1所述的匀胶版制造工艺，其特征在于，所述粗抛按正反两面抛光30分钟。
3.如权利要求1所述的匀胶版制造工艺，其特征在于，所述精抛时间为正面小于I分钟，反面1-3分钟。
4.如权利要求1所述的匀胶版制造工艺，其特征在于，坚膜中玻璃基板水平静置的时间为20分钟。
5.如权利要求1所述的匀胶版制造工艺，其特征在于，涂胶中，滴胶时间为28s，压力为0.llMPa，滴胶段数为第二段。
6.如权利要求1所述的匀胶版制造工艺，其特征在于，所述玻璃基板为尺寸为508mm*609mm,所制造的勻胶版为尺寸为508mm*609mm。
【文档编号】G03F1/60GK103823330SQ201410052503
【公开日】2014年5月28日 申请日期:2014年2月14日 优先权日:2014年2月14日
【发明者】石孟阳, 熊波, 庄奎乾, 谢庆丰 申请人:深圳市科利德光电材料股份有限公司