一种用于光刻胶剥离的剥离液的制作方法
【专利摘要】本申请公开了一种用于光刻胶剥离的剥离液。本申请剥离液包括重量份2-15％有机胺化合物、75-97.5％有机溶剂和0.2-10％添加剂；有机胺化合物为MEA、DEA、TEA、MMEA和MDEA中至少两种；有机溶剂由二乙醇类溶剂和酰胺类溶剂组成，前者选自BDG、甲基卡必醇、二乙二醇叔丁基醚和二乙二醇乙醚的至少一种，后者选自NMF、DMF和DMAC的至少一种；添加剂为环己醇六磷酸脂、氨基酸的碱盐、BTA、1-HBTA、TACM和DMNA的至少一种。本申请的剥离液，用两种以上有机胺与混合溶剂配合使用，剥离快；添加剂能防止金属腐蚀，和机溶剂都有较好的亲水性，可避免光刻胶再附着、残留，且环境污染小。
【专利说明】一种用于光刻胶剥离的剥离液
【技术领域】
[0001] 本申请涉及光刻胶领域，特别是涉及一种用于光刻胶剥离的剥离液。
【背景技术】
[0002] 光刻胶又称光致抗蚀剂，主要由感光树脂、增感剂和溶剂三种成分组成。感光树脂 经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、 亲合性等发生明显变化。经曝光、显影、刻蚀、扩散、离子注入、金属沉积等工艺将所需的微 细图形从掩模版转移至加工的基板上、最后通过去胶剥离液将未曝光部分余下的光刻胶清 洗掉，从而完成整个图形转移过程。
[0003] 但是，现有的剥离液大都存在着腐蚀金属配线、光刻胶残留、环境污染、影响操作 人员安全性、剥离效果差等问题。
【发明内容】
[0004] 本申请的目的是提供一种改进的用于光刻胶剥离的剥离液。
[0005] 为了实现上述目的，本申请采用了以下技术方案：
[0006] 本申请公开了一种用于光刻胶剥离的剥离液，该剥离液的主要作用成分由重量份 2-15%的有机胺化合物、75-97. 5 %的有机溶剂和0. 2-10 %的添加剂组成；有机胺化合物 选自乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基单乙醇胺和N-甲基二乙醇胺中的至少两种；有 机溶剂由二乙醇类溶剂和酰胺类溶剂混合而成，二乙醇类溶剂选自二乙二醇单丁醚、二乙 二醇甲醚、二乙二醇叔丁基醚和二乙二醇乙醚中的至少一种，酰胺类溶剂选自N-甲基甲酰 胺、N，N-二甲基甲酰胺和二甲基乙酰胺中的至少一种；添加剂选自环己醇六磷酸脂、氨基 酸的碱盐、苯并三氮唑、1-羟基苯并三氮唑、3-羟基甲酯-1，2, 4-三氮唑和二巯基噻二唑二 钠盐中的至少一种。
[0007] 优选的，有机溶剂由30-80重量份的二乙醇类溶剂和10-60重量份的酰胺类溶剂 混合而成。
[0008] 优选的，有机胺化合物由乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺组成。
[0009] 优选的，有机溶剂由二乙二醇甲醚和N-甲基甲酰胺混合而成。
[0010] 优选的，添加剂由环己醇六磷酸脂和3-羟基甲酯-1，2, 4-三氮唑组成。
[0011] 由于采用以上技术方案，本申请的有益效果在于：
[0012] 本申请的剥离液，创造性的将至少两种有机胺化合物一起，配合采用二乙醇类溶 剂和酰胺类溶剂组成的混合有机溶剂使用，有效的提高了剥离速度，防止因长时间作用导 致残留物渗透到要形成的图形层中影响终端产品的质量，获得了更好的剥离效果。同时，本 申请的有机溶剂不仅具有较好的溶解性，同时亲水性强，在配线工艺时可以避免光刻胶的 再附着，避免了光刻胶残留。此外，本申请的剥离液中的添加剂，不仅具有很好的缓蚀作用， 能有效的防止金属配线腐蚀。本申请的剥离液中有机溶剂和添加剂都是属于水溶性成份， 不会造成残留，对环境污染小。
【具体实施方式】
[0013] 现有的剥离液都是单独一种有机胺化合物和单独一种有机溶剂配合使用，本申请 经过大量试验，创造性的发现，对于一些特殊的有机胺化合物和有机溶剂而言，两种或两种 以上有机胺化合物配合使用，同时，采用二乙醇类溶剂和酰胺类溶剂组成的混合有机溶剂， 能够有效的提高剥离速度，并且具有更好的剥离效果；这些特殊的有机胺化合物包括乙醇 胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基单乙醇胺和N-甲基二乙醇胺。
[0014] 与此同时，为了防止金属配线腐蚀，本申请在剥离液中加入了特殊的添加剂，添 加剂与有机胺化合物和有机溶剂相配合，在不影响剥离速度和剥离效果的情况下，能够有 效的防止金属配线被腐蚀；这些添加剂包括环己醇六磷酸脂、氨基酸的碱盐、苯并三氮唑、 1-羟基苯并三氮唑、3-羟基甲酯-1，2, 4-三氮唑和二巯基噻二唑二钠盐。
[0015] 需要说明的是，本申请的剥离液中，除了有机胺化合物、有机溶剂和添加剂组成的 主要作用成分以外，余量为去离子水。本申请中，MEA为乙醇胺的缩写，DEA为二乙醇胺的 缩写，TEA为三乙醇胺的缩写，BDG为二乙二醇单丁醚的缩写，NMF为N-甲基甲酰胺的缩写， DMF为N，N-二甲基甲酰胺的缩写，BTA为苯并三氮唑的缩写，I-HBTA为1-羟基苯并三氮唑 的缩写，TACM为3-羟基甲酯-1，2, 4-三氮唑的缩写，DMNA为二巯基噻二唑二钠盐的缩写， MMEA为N-甲基单乙醇胺的缩写，MDEA为N-甲基二乙醇胺的缩写，DMAC为二甲基乙酰胺的 缩写，甲基卡必醇即二乙二醇甲醚。
[0016]下面通过具体实施例对本申请作进一步详细说明。以下实施例仅对本申请进行进 一步说明，不应理解为对本申请的限制。
[0017]实施例
[0018]本例采用现有技术制作带有光刻胶的基板，将所制备的带有光刻胶的基板分别浸 渍在试验组的剥离液中，剥离液温度60°C，浸泡5min，然后用纯水进行漂洗处理，各试验组 的组分和用量详见表2。剥离结果参考常规的金属防腐蚀性和剥离性评价标准进行，金属防 腐蚀性和剥离性评价标准见表1，剥离结果见表2。本例各试验组中余量为去离子水。
[0019] 表1剥离液效果评价标准
[0020]
【权利要求】
1. 一种用于光刻胶剥离的剥离液，其特征在于：所述剥离液的主要作用成分由重量份 2-15%的有机胺化合物、75-97. 5%的有机溶剂和0. 2-10%的添加剂组成； 所述有机胺化合物选自乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基单乙醇胺和N-甲基二乙 醇胺中的至少两种； 所述有机溶剂由二乙醇类溶剂和酰胺类溶剂混合而成，所述二乙醇类溶剂选自二乙二 醇单丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇叔丁基醚和二乙二醇乙醚中的至少一种，所述酰胺类溶 齐U选自N-甲基甲酰胺、N，N-二甲基甲酰胺和二甲基乙酰胺中的至少一种； 所述添加剂选自环己醇六磷酸脂、氨基酸的碱盐、苯并三氮唑、1-羟基苯并三氮唑、 3_羟基甲酯-1，2, 4-三氮唑和二巯基噻二唑二钠盐中的至少一种。
2. 根据权利要求1所述的剥离液，其特征在于：所述有机溶剂由30-80重量份的二乙 醇类溶剂和10-60重量份的酰胺类溶剂混合而成。
3. 根据权利要求1所述的剥离液，其特征在于：所述有机胺化合物由乙醇胺、二乙醇 胺、三乙醇胺组成。
4. 根据权利要求1所述的剥离液，其特征在于：所述有机溶剂由二乙二醇甲醚和N-甲 基甲酰胺混合而成。
5. 根据权利要求1所述的剥离液，其特征在于：所述添加剂由环己醇六磷酸脂和3-羟 基甲酯-1，2, 4-三氮唑组成。
【文档编号】G03F7/42GK104317172SQ201410525218
【公开日】2015年1月28日 申请日期:2014年9月30日 优先权日:2014年9月30日
【发明者】鄢艳华, 康威 申请人:深圳新宙邦科技股份有限公司