一种剥离液供给系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及半导体制造加工技术领域，具体地说，涉及一种剥离液供给系统。
【背景技术】
[0002]在一般薄膜晶体管TFT制造工艺流程中，采用4?5道光罩工艺逐次形成所需的电路图案，其中每道工艺几乎均需进行剥离作业。剥离作业通常通过剥离机实现。剥离机中药液储槽的药液补给一般由化学品中央供给系统CCSS实现。药液补给结束后，用栗从药液储槽抽取药液，经过滤器过滤，供给到各剥离设备单元的喷淋系统，将药液喷洒在基板上，溶解去除光阻。
[0003]目前常见剥离机的药液供给系统不利于药液统一管理及成本降低。另外，由于各剥离机独自控制药液使用，增加了各机台的栗、过滤器等设备的投资。
【发明内容】
[0004]为解决以上问题，本发明提供了一种剥离液供给系统，用以对药液进行统一管理并降低剥离成本。
[0005]根据本发明的一个实施例，提供了一种剥离液供给系统，包括:
[0006]若干药槽，用于盛放剥离液；
[0007]多个剥离设备单元，基于预定原则分组，且分组后同一组内的剥离设备单元连接至同一药槽，用以接收药槽供给的剥离液来对被剥离物进行剥离处理。
[0008]根据本发明的一个实施例，基于预定原则分组包括:将具有相同剥离液种类、剥离液浓度和喷射条件的剥离设备单元分为一组。
[0009]根据本发明的一个实施例，同一组内的所述剥离设备单元各通过一条连接管路与同一药槽连接，并且在各个连接管路上设置一用以从所述药槽中抽取剥离液的栗。
[0010]根据本发明的一个实施例，在各个所述剥离设备单元与所述药槽的连接管路上设置有一位于所述栗与所述剥离设备单元之间的过滤器，用以对从所述药槽中抽取的剥离液进行过滤。
[0011]根据本发明的一个实施例，同一组内的各个所述剥离设备单元与所述药槽的连接管路汇集为一公用连接管路，通过所述公用连接管路与所述药槽连接，并在所述共用连接管路上配置一用以从所述药槽中抽取剥离液的栗。
[0012]根据本发明的一个实施例，在所述共用连接管路上设置有一位于所述栗与各个所述剥离设备单元之间的过滤器，用以对从所述药槽中抽取的剥离液进行过滤。
[0013]根据本发明的一个实施例，在各个所述剥离设备单元与所述过滤器之间的连接管路上各设置一自动阀，用以控制连接管路的开/闭。
[0014]根据本发明的一个实施例，通过控制与所述剥离设备单元连接的自动阀及所述剥离设备单元与所述药槽连接管路上的栗协同工作，以实现从所述药槽中抽取剥离液并将剥离液送至对应的剥离设备单元。
[0015]根据本发明的一个实施例，若干所述药槽基于其内部剥离液种类和杂质浓度的大小通过连接管道依次连通，用以在所述药槽中的剥离液达到更换条件后实现所述药槽间的级联换液。
[0016]根据本发明的一个实施例，若干所述药槽与化学品中央供给系统连接，所述化学品中央供给系统用于向所述药槽提供剥离液。
[0017]本发明的有益效果:
[0018]本发明通过将符合一定原则的药槽合并或将符合一定原则的剥离设备单元分至同一组后连接至同一药槽，可以减化药槽使用数量，减化设备硬件结构，降低设备投资。将同一组内的各个剥离设备单元与药槽的连接管路汇集为一公用连接管路，并在该共用连接管路上设置一个栗和过滤器，可以进一步降低设备投资。另外，由同一药槽向同一组内的剥离设备单元供液，有利于药液统一管理，并具有较好的药液浓度等均匀性，从而间接改善了药液导致的产品作业均匀性。此外，由于药液便于管理，药液中杂质容易控制，从而有利于改善剥离液中杂质导致的光阻残留。
[0019]本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
【附图说明】
[0020]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要的附图做简单的介绍:
[0021]图1是现有技术中的半导体/TFT制造工艺流程图；
[0022]图2是现有技术中的剥离机的药液供给系统结构示意图；
[0023]图3是根据本发明的一个实施例的剥离液供给系统示意图；以及
[0024]图4是根据本发明的另一个实施例的剥离液供给系统示意图。
【具体实施方式】
[0025]以下将结合附图及实施例来详细说明本发明的实施方式，借此对本发明如何应用技术手段来解决技术问题，并达成技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。需要说明的是，只要不构成冲突，本发明中的各个实施例以及各实施例中的各个特征可以相互结合，所形成的技术方案均在本发明的保护范围之内。
[0026]如图1所示为现有技术中一般半导体/TFT制造工艺流程图。如图1所示，在一般半导体/TFT的制造工艺流程中，采用4?5道光罩工艺逐次形成所需的电路图案。对应于每一道光罩工艺，都要依次经历洗净、成膜、黄光、蚀刻和剥离几个步骤。由此可知，对应每一道工艺均需进行剥离作业。
[0027]现有技术中，通常采用剥离机进行剥离作业。如图2所示为现有技术中一般剥离机的药液供给系统结构示意图，虚线框内为现有的一般剥离机(对应剥离单元)的结构示意图，以下参考图2来对现有的剥离机结构及工作原理进行说明。
[0028]如图2所示，该剥离机主要由化学品中央供给系统和剥离单元构成。其中，化学品中央供给系统用于向剥离单元提供剥离液。现有的供给系统包括CCSS系统。剥离单元是剥离机的主要部分，包括多个药液储槽(如图2中的Tank-1、Tank-2、Tank-3)和对应的设备单元(如图 2 中的 Unit-1、Unit-2、Unit-3)。
[0029]药液储槽存储化学品中央供给系统提供的剥离液，用于向对应的设备单元提供剥离液。将需剥离光阻的基板依次放入各设备单元中进行光阻剥离。基于光阻的剥离条件、剥离液种类等划分为不同的设备单元。如图2中所示，设备单元可划分为高压剥离设备单元和常压剥离设备单元。为方便各设备单元从药槽中抽取剥离液，在各设备单元与对应的药槽的连接管路上设置有栗和过滤器，栗用于从药槽中抽取药液，过滤器用于去除药液中的颗粒。另外，在各设备单元中还设置有喷淋系统，用于向基板上喷淋药液。
[0030]在该剥离机工作时，首先将基板搬入高压剥离设备单元中，高压剥离设备单元将从药槽Tank-1中抽取剥离液，剥离液经过滤器过滤后，供给到Unit-1单元的喷淋系统，将药液喷洒在基板上，溶解去除光阻。在Unit-1单元中剥离完成后，基板上还是会残留光阻，接下来依次进入常压剥离设备单元Unit-2和Unit-3中，分别进行类似Unit-1单元中的光阻剥离处理。光阻剥离处理完成后，对基板进行水洗及干燥处理后，将基板搬出。在各剥离设备单元使用的剥离液种类相同时，可以将药液Tank-1、Tank-2、Tank-3进依次连接，形成级联换液系统。
[0031]图2所示的剥离机供液系统不利于药液统一管理及成本降低。另外，由于各剥离机内部的各剥离设备单元独自控制药液使用，此方法增加了剥离机的栗、过滤器等设备的投资。因此，本发明提出了一种新的剥离机药液供给系统，用以减化设备硬件结构，降低设备投资，有利于药液统一管理。
[0032]如图3所示为根据本发明的一个实施例的剥离机供液系统的结构示意图，以下参考图3来对本发明进行详细说明。
[0033]如图3所示，该剥离液供给系统包括若干药槽及多个剥离设备单元。其中，药槽用于盛放剥离液。多个剥离设备单元首先基于预定原则分组，分组后同一组内的剥离设备单元连接至同一药槽，用以接收药槽供给的剥离液来对被剥离物进行剥离处理。
[0034]具体的，在基于预定原则对多个剥离设备单元进行分组时，将具有相同剥离液种类、剥离液浓度和喷射条件(喷淋系统的喷淋流量及压力)的剥离设备单元分为一组。将依据以上原则分组后的一组剥离设备单元(如图3中的Strp l#Unit-l、StrpNfflJnit-1等))连接至同一药槽。或者，也可以将具有相同剥离液种类、剥离液浓度和喷射条件的剥离设备单元对应的药槽合并为一个药槽(如图3中的Tank-1、Tank-2和Tank-N)，由这个药槽向该组内的剥离设备单元统一提供剥离液。这样，就不需要设置与剥离设备单元一一对应、相同数量的药槽，有利于减化设备硬件结构，降低设备投资。由同一药槽向同一组内的多个剥离设备单元供液，有利于药液统一管理，能更有效地改善剥离残留。如某个药槽作业的N个剥离设备单元中，