一种密接型曝光装置制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种密接型曝光装置，包括固定架和微型液压系统；所述固定架包括上底板、下底板、固定杆和掩膜基片载板，所述固定杆对称设置有两根，所述固定杆支撑在所述上底板和下底板之间，所述上底板中心位置处设置有上底板曝光通光孔，所述掩膜基片载板中心位置处设置有掩膜基片载板曝光通光孔，所述掩膜基片载板设置在所述固定杆上，并且位于所述上底板的下方；所述微型液压系统包括手动液压泵和微型液压缸，所述手动液压泵和微型液压缸之间连接有液压胶管，所述微型液压缸固定在所述下底板上，所述微型液压缸中部包括有一个支撑平板型光刻胶基片用的液压活塞平台；本实用新型适用于密接型光刻场合，结构简单，功能完善，性价比高。
【专利说明】一种密接型曝光装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种密接型曝光装置，具体地说是一种适用于平板型掩膜基片和平板型光刻胶基片密接的曝光装置。
【背景技术】
[0002]投影光刻是目前光学光刻中的一个重要技术手段，能方便地用于掩膜结构转移，即通过投影的方式将掩膜图案曝光在涂有光刻胶的基片上，然后再进行显影、刻蚀等操作，完成掩膜转移、复制，该方法在半导体加工业中得到了广泛地应用。一般情况下，通常要求掩膜基片与光刻胶基片紧密接触，目前使用较多的是将两者之间抽成真空状态而使其密接的真空负压方法。一方面，该方法需要真空泵，密封装置等，结构相对复杂，成本较高?’另一方面，掩膜基片与光刻胶基片的密接程度受大气压、基片尺寸及真空泵的制约，密接程度存在限制，无法有效用于一些密接程度要求较高的场合，如近场光刻。
【发明内容】
[0003]本实用新型要解决的技术问题是提供一种密接程度可调、使用简便的适用于平板型掩膜基片和平板型光刻胶基片密接的密接型曝光装置。
[0004]为解决上述问题，本实用新型采用如下技术方案:
[0005]一种密接型曝光装置，包括固定架和微型液压系统；所述固定架包括上底板、下底板、固定杆和掩膜基片 载板，所述固定杆对称设置有两根，所述固定杆支撑在所述上底板和下底板之间，所述上底板中心位置处设置有上底板曝光通光孔，所述掩膜基片载板中心位置处设置有掩膜基片载板曝光通光孔，所述掩膜基片载板设置在所述固定杆上，并且位于所述上底板的下方，所述掩膜基片载板与所述上底板之间留有夹设平板型掩膜基片用的间隙；所述微型液压系统包括手动液压泵和微型液压缸，所述手动液压泵和微型液压缸之间连接有液压胶管，所述微型液压缸固定在所述下底板上，所述微型液压缸中部包括有一个支撑平板型光刻胶基片用的液压活塞平台。
[0006]作为优选的技术方案，所述手动液压泵连接有压力表。
[0007]作为优选的技术方案，所述平板型光刻胶基片设置在所述平板型掩膜基片的正下方，并且所述平板型光刻胶基片与掩膜基片载板曝光通光孔相对。
[0008]本实用新型的有益效果是:本实用新型将微型液压系统用于掩膜基片与光刻胶基片的密接程度控制，在定标的基础上，两者的密接程度可由压力表直接得出，且在基片的应力承受范围之内，对两者的密接程度没有限制，操作简单便捷、省时省事。本实用新型适用于密接型光刻场合，结构简单，功能完善，性价比高。
【专利附图】
【附图说明】
[0009]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0010]图1为本实用新型的结构示意图。
[0011]图中附图标记:
[0012]1、上底板；2、上底板曝光通光孔；3、平板型掩膜基片；4、掩膜基片载板；5、掩膜基片载板曝光通光孔；6、平板型光刻胶基片；7、液压活塞平台；8、微型液压缸；9、固定杆；10、下底板；11、液压胶管；12、压力表；13、手动液压泵。
【具体实施方式】
[0013]下面结合附图对本实用新型的优选实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
[0014]参阅图1所示的一种密接型曝光装置，包括固定架和微型液压系统；所述固定架包括上底板、下底板、固定杆和掩膜基片载板，所述固定杆对称设置有两根，所述固定杆支撑在所述上底板和下底板之间，所述上底板中心位置处设置有上底板曝光通光孔，所述掩膜基片载板中心位置处设置有掩膜基片载板曝光通光孔，所述掩膜基片载板设置在所述固定杆上，并且位于所述上底板的下方，所述掩膜基片载板与所述上底板之间留有夹设平板型掩膜基片用的间隙；所述微型液压系统包括手动液压泵和微型液压缸，所述手动液压泵和微型液压缸之间连接有液压胶管，所述微型液压缸固定在所述下底板上，所述微型液压缸中部包括有一个支撑平板型光刻胶基片用的液压活塞平台。
[0015]本实用新型中一个较佳的实施例，所述手动液压泵连接有压力表。
[0016]本实用新型中一个较佳的实施例，所述平板型光刻胶基片设置在所述平板型掩膜基片的正下方，并且所述平板型光刻胶基片与掩膜基片载板曝光通光孔相对。
[0017]本实用新型的【具体实施方式】:使用时，先将平板型掩膜基片3置于掩膜基片载板4上，再将平板型光刻胶基片6置于液压活塞平台7上，然后通过手动液压泵13使液压活塞平台7上升，直至平板型掩膜基片3和平板型光刻胶基片6紧密接触，完成密封。
[0018]本实用新型的有益效果是:本实用新型将微型液压系统用于掩膜基片与光刻胶基片的密接程度控制，在定标的基础上，两者的密接程度可由压力表直接得出，且在基片的应力承受范围之内，对两者的密接程度没有限制，操作简单便捷、省时省事。本实用新型适用于密接型光刻场合，结构简单，功能完善，性价比高。
[0019]以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。
【权利要求】
1.一种密接型曝光装置，其特征在于:包括固定架和微型液压系统；所述固定架包括上底板、下底板、固定杆和掩膜基片载板，所述固定杆对称设置有两根，所述固定杆支撑在所述上底板和下底板之间，所述上底板中心位置处设置有上底板曝光通光孔，所述掩膜基片载板中心位置处设置有掩膜基片载板曝光通光孔，所述掩膜基片载板设置在所述固定杆上，并且位于所述上底板的下方，所述掩膜基片载板与所述上底板之间留有夹设平板型掩膜基片用的间隙；所述微型液压系统包括手动液压泵和微型液压缸，所述手动液压泵和微型液压缸之间连接有液压胶管，所述微型液压缸固定在所述下底板上，所述微型液压缸中部包括有一个支撑平板型光刻胶基片用的液压活塞平台。
2.根据权利要求1所述的密接型曝光装置，其特征在于:所述手动液压泵连接有压力表。
3.根据权利要求1所述的密接型曝光装置，其特征在于:所述平板型光刻胶基片设置在所述平板型掩膜基片的正下方，并且所述平板型光刻胶基片与掩膜基片载板曝光通光孔相对。
【文档编号】G03F7/20GK203825366SQ201420236380
【公开日】2014年9月10日 申请日期:2014年5月9日 优先权日:2014年5月9日
【发明者】许富洋 申请人:浙江师范大学