技术总结
本发明提出一种对准系统及对准方法，该对准系统包括：掩模版，提供投影曝光图案和对准标记；投影物镜焦面测量标记，设置于所述掩模版上；投影物镜，对掩模版上的曝光图案、标记成像到硅片方像方焦面；工件台，承载有同轴镜头、基准板和硅片，其中同轴镜头对对准标记、投影物镜焦面测量标记和调焦标记进行成像，基准板承载有调焦标记和参考标记，并提供水平向和垂向测量基准，硅片承载有硅片对准标记；调焦调平系统，对硅片表面调平，控制硅片上表面与硅片焦面重合；离轴对准系统，对硅片图案对准。本发明旨在为调焦调平、对准、焦面探测建立统一的测量基准，提高垂向、水平向测量分系统对温度变化等情况的适应能力。
技术研发人员：于大维;杜荣
受保护的技术使用者：上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
文档号码：201510859907
技术研发日：2015.11.30
技术公布日：2017.06.09