载台定位系统及光刻设备的制作方法

本申请主张2014年1月31日提交的欧洲申请14153404.0和2014年3月24日提交的欧洲申请14161344.8的权益，其通过援引而全文合并到本发明中。

技术领域

本发明涉及载台定位系统和包括载台定位系统的光刻设备。

背景技术：

光刻设备是一种可以用在集成电路(IC)的制造中的设备。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成于所述IC的单层上待形成的电路图案。该图案可以由辐射束经由投影系统转移到衬底(诸如硅晶片)上的目标部分上。图案的转移通常是经由成像至设于衬底上的辐射敏感材料的层上而执行。

所述光刻设备通常具有载台定位系统以相对于所述投影系统来移动衬底或图案形成装置。所述图案形成装置相对于所述投影系统移动并且通过辐射束来被扫描以将完整图案转移至所述衬底上。所述衬底相对于所述投影系统移动以随后将图案转移至衬底上的相邻目标部分上。

技术实现要素：

为了增加光刻设备的生产率，倾向于改进所述载台定位系统以便实现更高速度和更高加速度。然而，更高速度和更高加速度需要可在更高带宽下操作的控制器。这种控制器的带宽受到所述载台定位系统的主自然频率的限制。增加所述带宽超出此极限将会造成控制器不稳定。

本发明的目标是提供一种载台定位系统，其对所述载台定位系统的主自然频率较不敏感。

在本发明的第一方面中，提供一种载台定位系统，所述载台定位系统包括：第一本体；第二本体；及联接件，所述联接件被布置成用以将所述第一本体与所述第二本体彼此联接。所述联接件包括被布置成用以将所述第一本体与所述第二本体彼此联接的粘弹性元件。

根据本发明的第一方面，所述粘弹性元件连接至所述第一本体和所述第二本体。因为所述粘弹性元件连接至所述第一本体和所述第二本体二者，则所述粘弹性元件能够减少所述第一本体、所述第二本体、或由所述第一本体、所述第二本体及所述联接件形成的动态系统的主自然频率的振幅。通过减小所述振幅，使所述载台定位系统对所述主自然频率较不敏感。

在本发明的第二实施例中，所述载台定位系统包括传感器和致动器。所述传感器用以提供表示所述第一本体的位置的信号。所述致动器用以移动所述第一本体。所述第二本体被布置成用以将所述致动器与所述联接件彼此联接。

根据本发明的第二实施例，所述致动器是振动源。这些振动中的一些可由所述传感器感测。由所述传感器感测的所述振动可使所述传感器提供未准确地表示所述第一本体的位置的信号。因为所述联接件在所述致动器与所述传感器之间的路径中，所以由所述致动器造成且由所述传感器感测的所述振动经由所述联接件传播。因为那些振动经由所述联接件而传播，则所述粘弹性元件能够衰减那些振动中的将会使所述第一本体在所述主自然频率的情况下谐振的振动。

在本发明的第三实施例中，所述第二本体包括所述致动器。

根据本发明的第三实施例，所述第二本体包括所述致动器。所述致动器的质量相比于所述第一本体的质量常常是显著的。所述第二本体结合所述联接件的所述显著质量造成所述第一本体在大的频率范围上的阻尼。在所述大的频率范围上的所述阻尼有利于衰减多个主自然频率。通过制造所述第二本体的致动器部件，无需额外质量来实现在所述大的频率范围上的阻尼。

在本发明的第四实施例中，所述致动器包括磁阻致动器。

根据本发明的所述第四实施例，在所述磁阻致动器的两个部件之间存在间隙。所述两个部件相对于彼此可移动。所述两个部件之一可被认为是定子，所述两个部件中的另一个可被认为是动子。所述定子和所述动子协同工作以产生力。需要最小化所述间隙，这是因为减小所述间隙会增加所述磁阻致动器的效率。然而，在所述载台定位系统崩溃(crash)的状况下，所述磁阻致动器的所述两个部件可彼此碰撞。通过运用所述粘弹性元件而使所述磁阻致动器联接至所述联接件，所述粘弹性元件可吸收由所述碰撞导致的能量中的一些或全部。可省略额外能量吸收器，并且可最小化所述间隙。

在本发明的第五实施例中，所述载台定位系统包括长行程模块。所述长行程模块被布置成用以相对于投影系统来移动所述致动器。所述致动器被布置成用以相对于所述长行程模块来移动所述第一本体。

根据本发明的所述第五实施例，所述长行程模块可相对于所述投影系统在大范围上移动所述致动器。所述致动器可相对于所述长行程模块在小范围上移动所述第一本体。因为所述致动器的范围可以小，则所述致动器可被优化以用于准确移动。因为所述致动器相对于所述长行程模块而移动，则所述长行程模块并不必须准确地移动，因此，所述长行程模块可被优化以用于在大范围上移动。通过使用所述长行程模块，则可以在大范围上以高准确度移动所述第一本体。

在本发明的第六实施例中，所述联接件包括弹性元件。所述弹性元件被布置成用以与所述粘弹性元件并行地将所述第一本体与所述第二本体彼此联接。

根据本发明的所述第六实施例，所述粘弹性元件可具有的刚度不足以在低频率下以足够刚度将所述第一本体与所述第二本体彼此联接，所述低频率低于所述主自然频率。所述弹性元件具有在所关注的频率范围下的与频率无关的刚度，因此，所述弹性元件的刚度可被选择为用以在低频率下在所述第一本体与所述第二本体之间实现足够量的刚度。

在本发明的第七实施例中，所述粘弹性元件具有频率依赖刚度。所述频率相关刚度以玻璃转变区为特征。所述第一本体形成了以主自然频率为特征的动态系统。所述主自然频率在所述载台定位系统的操作温度处于所述玻璃转变区中。

根据本发明的第七方面，所述载台定位系统的激发可造成所述第一本体在所述主自然频率发生振动。因为所述第一本体与所述第二本体经由所述联接件而彼此联接，所以所述第一本体的所述振动将经由所述联接件而至少部分地传播。因为所述主自然频率处于所述玻璃转变区中，所以所述粘弹性元件能够衰减所述振动，这是因为所述粘弹性元件在所述玻璃转变区处具有高阻尼。通过衰减所述振动，减低了所述振动的振幅。通过减小所述振动的振幅，已使所述载台定位系统对所述主自然频率较不敏感。

在本发明的第八实施例中，所述弹性元件具有具备第一值的刚度。所述频率相关刚度以玻璃区为特征。所述频率依赖刚度以橡胶区为特征。所述频率依赖刚度在第二频率具有第二值。所述第二频率在所述载台定位系统的所述操作温度处于所述橡胶区中。所述频率依赖刚度在第三频率具有第三值。所述第三频率在所述载台定位系统的所述操作温度处于所述玻璃区中。所述第二频率低于所述主自然频率。所述第三频率高于所述主自然频率。所述第一值大于所述第二值。所述第一值小于所述第三值。

根据本发明的所述第八实施例，所述玻璃转变区在围绕所述主自然频率的频率范围内。即使当制造所述载台定位系统时未正确地预测所述主自然频率的频率，所述主自然频率仍将会处于所述玻璃转变区中。结果，仍将会有效地衰减具有经移位的主自然频率的频率的振动。可使用动态模型来预测所述主自然频率。这种动态模型的参数可包括所述载台定位系统的部件的质量和刚度。在预测所述参数的值时的不准确度可能造成所述主自然频率在稍微不同于所预期频率的频率下发生。

在本发明的第九实施例中，所述频率依赖刚度在所述主自然频率具有第四值。所述第四值大于所述第一值。

根据本发明的所述第九实施例，所述粘弹性元件在所述主自然频率的刚度大于所述弹性元件在所述主自然频率的刚度。因为所述粘弹性元件的刚度大于所述弹性元件的刚度，所以具有所述主自然频率的振动的大多数能量将在所述第一本体与所述第二本体之间经由所述粘弹性元件而非经由所述弹性元件而传播。因为大多数能量经由所述粘弹性元件而传播，则所述粘弹性元件能够衰减所述振动的大部分。

在本发明的第十实施例中，所述第一本体、所述第二本体、和所述联接件一起形成具有另一自然频率的另一动态系统。所述另一自然频率对应于实质上由所述联接件的变形而确定的谐振模式。所述主自然频率(fn)等于所述另一自然频率。

根据本发明的所述第十实施例，使所述载台定位系统振动的具有所述另一自然频率的振动导致所述载台定位系统在所述另一自然频率发生谐振。因为所述另一自然频率等于所述主自然频率，则所述第一本体也将在所述主自然频率发生谐振。因为所述另一自然频率对应于实质上由所述联接件的变形而确定的谐振模式，则所述粘弹性元件能够衰减具有所述主自然频率的所述振动的大部分。

在本发明的第十一方面中，提供一种光刻设备，其包括支撑结构、投影系统、衬底台，和根据上文所描述的所述实施例之一的所述载台定位系统。所述支撑结构用于支撑具有图案的图案形成装置。所述投影系统用于将所述图案投影到衬底上。所述衬底台用于保持所述衬底。所述第一本体包括所述支撑结构和所述衬底台之一。

根据本发明的第二方面，使所述支撑结构和所述衬底台之一对所述主自然频率更不敏感。由于对所述主自然频率的有所减小的敏感度，则所述支撑结构或所述衬底台可相对于所述投影系统较准确地定位。有所改进的定位准确度改善了使用所述光刻设备而制造的集成电路的品质。

附图说明

现在将仅作为举例、参考所附的示意图来描述本发明的实施例，附图中相应的附图标记指示了相应的部件，并且其中：

图1示出根据本发明的光刻设备；

图2示出根据本发明实施例的载台定位系统；

图3以曲线图示出粘弹性元件的依赖于频率的刚度；

图4以曲线图示出粘弹性元件的依赖于频率的刚度；

图5以曲线图示出联接的刚度；

图6示出根据本发明另一实施例的载台定位系统。

具体实施方式

图1示意性地描绘根据本发明的具有定位系统的光刻设备。该设备可包括照明系统IL、支撑结构MT、衬底台WT及投影系统PS。

照明系统IL被配置成用以调节辐射束B。照明系统IL可包括用于导向、成形、或控制辐射的各种类型的光学部件，诸如，折射、反射、磁性、电磁、静电或其他类型的光学部件，或其任何组合。

照明系统IL接收来自辐射源SO的辐射束。所述辐射源SO和所述光刻设备可以是分立的实体(例如当该辐射源SO为准分子激光器时)。在这种情况下，不会将该源考虑成形成光刻设备的一部分，并且通过包括例如合适的定向反射镜和/或扩束器的束传递系统BD的帮助，将所述辐射束B从所述辐射源SO传到所述照明系统IL。在其它情况下，所述辐射源SO可以是所述光刻设备的组成部分(例如当所述辐射源SO是汞灯时)。可以将所述辐射源SO和所述照明系统IL、以及如果需要时设置的所述束传递系统BD一起称作辐射系统。

所述照明系统IL可以包括用于调整所述辐射束的角强度分布的调整器AD。此外，所述照明系统IL可以包括各种其它部件，例如整合器IN和聚光器CO。可以将所述照明系统IL用于调节所述辐射束B，以在其横截面中具有所需的均匀性和强度分布。

这里使用的术语“辐射束B”包含全部类型的电磁辐射，包括：紫外(UV)辐射(例如具有365、355、248、193、157或126nm的波长)和极紫外(EUV)辐射(例如具有5-20nm范围内的波长)，以及粒子束，例如离子束或电子束。

支撑结构MT用于支撑图案形成装置(例如，掩模或掩模版)MA。支撑结构MT连接至第一载台定位系统PM，第一载台定位系统PM被配置成根据某些参数来准确地定位所述图案形成装置MA。

支撑结构MT支撑(即，承载)所述图案形成装置MA的重量。所述支撑结构MT以依赖于图案形成装置MA的方向、光刻设备的设计以及诸如图案形成装置MA是否保持在真空环境中等其他条件的方式保持所述图案形成装置MA。所述支撑结构MT可以采用机械的、真空的、静电的、或其它夹持技术来保持图案形成装置MA。所述支撑结构MT可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。所述支撑结构MT可以确保图案形成装置MA位于所需的位置上(例如相对于投影系统)。

这里所使用的术语“图案形成装置MA”应该被广义地理解为表示能够用于将图案在辐射束B的横截面上赋予辐射束、以便在衬底W的目标部分C上形成图案的任何装置。应该注意的是，赋予辐射束B的图案可能不与衬底W的目标部分C上的所需图案精确地对应(例如，如果所述图案包括相移特征或所谓的辅助特征)。通常，被赋予辐射束B的图案将与在目标部分C上形成的器件中的特定的功能层相对应，例如集成电路。

图案形成装置MA可以是透射型的或反射型的。图案形成装置MA的示例包括掩模、可编程反射镜阵列以及可编程LCD面板。掩模在光刻技术中是熟知的，并且包括诸如二元掩模类型、交替型相移掩模类型、衰减型相移掩模类型和各种混合掩模类型之类的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每一个小反射镜可以独立地倾斜，以便沿不同方向反射入射的辐射束。所述已倾斜的反射镜将图案赋予由所述反射镜矩阵反射的辐射束。如此处所描绘，所述设备属于透射类型，其使用透射掩模。

衬底台WT(例如，晶片台)用于保持衬底W，例如，涂覆有抗蚀剂的晶片。衬底台WT连接至第二载台定位系统PW，第二载台定位系统PW被配置成根据某些参数来准确地定位衬底W。

投影系统PS被配置成将由图案形成装置MA赋予给辐射光束B的图案投影到所述衬底W的目标部分C上。

这里使用的术语“投影系统PS”可以广义地解释为包括任意类型的投影系统PS，包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、电磁型和静电型光学系统、或其任意组合，如对于所使用的曝光辐射所适合的、或对于诸如使用浸没液或使用真空之类的其他因素所适合的。

所述辐射束B入射到所述图案形成装置MA上，并且通过所述图案形成装置MA来形成图案。已经穿过图案形成装置MA之后，所述辐射束B通过投影系统PS，所述投影系统将辐射束聚焦到所述衬底W的目标部分C上。通过第二载台定位系统PW和位置传感器IF(例如，干涉仪器件、线性编码器或电容传感器)的帮助，可以精确地移动所述衬底台WT，例如以便将不同的目标部分C定位于所述辐射束B的路径中。类似地，可以将所述第一载台定位系统PM和另一个位置传感器(在图1中没有示出)用于相对于所述辐射束B的路径精确地定位所述图案形成装置MA。通常，可以通过长行程模块和短行程模块的帮助来实现支撑结构MT的移动。长行程模块提供短行程模块相对于投影系统PS在长范围上的粗定位。短行程模块提供所述图案形成装置MA相对于长行程模块在小范围上的精定位。类似地，可以采用形成所述第二定位系统PW的一部分的长行程模块和短行程模块来实现所述衬底台WT的移动。图6披露了长行程模块66的另一实施例。在步进机的情况下(与扫描器相反)，所述支撑结构MT可以仅与短行程致动器相连，或可以是固定的。

可以使用掩模对准标记M1、M2和衬底对准标记P1、P2来对准图案形成装置MA和衬底W。尽管所示的衬底对准标记P1、P2占据了专用目标部分，但是它们可以位于目标部分之间的空间中。类似地，在将多于一个的管芯设置在图案形成装置MA上的情况下，所述掩模对准标记M1、M2可以位于所述管芯之间。

所述光刻设备可以是具有两个或更多个衬底台WT和/或两个或支撑结构MT的类型。除了至少一个衬底台WT，所述光刻设备可以包括测量台，所述测量台被布置成用以执行量测，但未被布置成用以保持衬底W。

所述光刻设备还可以是这种类型，其中衬底的至少一部分可以由具有相对高的折射率的液体覆盖(例如水)，以便填充投影系统PS和衬底W之间的空间。浸没液体还可以施加到光刻设备的其他空间中，例如图案形成装置MA和投影系统PS之间的空间。浸没技术用于提高投影系统的数值孔径在本领域是熟知的。这里使用的术语“浸没”并不意味着必须将结构(例如衬底W)浸入到液体中，而仅意味着在曝光过程中液体位于投影系统PS和该衬底W之间。

所描绘的光刻设备可用于以下三种模式中的至少一者中：

可以将所示的设备用于以下模式中的至少一种中：

在第一模式(所谓的步进模式)中，在将支撑结构MT和衬底台WT保持为基本静止的同时，将赋予所述辐射束B的整个图案一次投影到目标部分C上。然后将所述衬底台WT沿X和/或Y方向移动，使得可以对不同目标部分C曝光。

在第二模式(所谓的扫描模式)中，在对支撑结构MT和衬底台WT同步地进行扫描的同时，将赋予所述辐射束B的图案投影到目标部分C上。衬底台WT相对于支撑结构MT的速度和方向可以通过所述投影系统PS的(缩小率)放大率和图像反转特征来确定。

在第三模式中，将用于保持可编程图案形成装置MA的支撑结构MT保持为基本静止状态。在将赋予所述辐射束B的图案投影到目标部分C上的同时，对所述衬底台WT进行移动或扫描。在这种模式中，通常采用脉冲辐射源，并且在所述衬底台WT的每一次移动之后、或在扫描期间的连续辐射脉冲之间，根据需要更新所述可编程图案形成装置。这种操作模式可易于应用于利用可编程图案形成装置MA(例如，如上所述类型的可编程反射镜阵列)的无掩模光刻中。

也可以采用上述使用模式的组合和/或变体，或完全不同的使用模式。

图2描绘本发明的第一实施例。图2示出载台定位系统200，其可为第一载台定位系统PM或第二载台定位系统PW。载台定位系统200包括第一本体20、第二本体22及联接件24。联接件24将第一本体20与第二本体22彼此联接。联接件24包括将第一本体20与第二本体22彼此联接的粘弹性元件26。

粘弹性元件26可具有适合于将第一本体20与第二本体22彼此连接的任何形式或形状。粘弹性元件26可被成形为类似于圆盘或被成形为梁。粘弹性元件26具有粘弹性材料。除了粘弹性材料以外，粘弹性元件26可包括并非粘弹性的材料，例如，金属。粘弹性材料可例如通过硫化而连接至并非粘弹性的材料。并非粘弹性的材料可用以产生与第一本体20和/或第二本体22交界的界面。

尽管第一本体20被描绘为简单区块，但实际上，第一本体20可形成具有动态行为的动态系统。第一本体20的动态行为确定第一本体20如何响应于施加至第一本体20的力而振动。振动可以主要是使第一本体20变形的振动，而非将第一本体20作为刚体移动的振动。替代地或补充地，第二本体22可形成具有动态行为的动态系统。

动态系统的动态行为以主自然频率为特征。当以主自然频率的频率或接近于主自然频率的频率将振动施加至所述载台定位系统200时，则增加了振动的振幅。振幅的增加导致所述载台定位系统200在主自然频率发生谐振。

载台定位系统200可具有许多自然频率。最低自然频率可以是例如大约100Hz或500Hz。最高自然频率可高于10000Hz。然而，超出某一频率的自然频率不会实质上影响所述载台定位系统200的动态行为。而且，自然频率可对应于不会负面地影响所述载台定位系统200的性能的自然振动。

本发明旨在减小主自然频率的影响。主自然频率可以是限制载台定位系统可被定位的定位准确度的自然频率。主自然频率可以是对被布置用以控制第一本体20位置的控制器的带宽加以限制的自然频率。主自然频率可以是第一本体20与第二本体22彼此动态地解耦的频率。主自然频率可以是限制载台定位系统200寿命的自然频率。例如，在自然频率发生的载台定位系统200的振动可导致制成所述载台定位系统200的材料疲劳。总之，主自然频率是限制所述载台定位系统200的性能的自然频率。

图3以曲线图描绘所述粘弹性元件26依赖于以(例如)摄氏度为单位的温度T的刚度。众所周知，粘弹性元件的刚度取决于温度。还众所周知的是，粘弹性元件26的刚度是依赖于频率的。因此，粘弹性元件26的刚度被称作频率依赖刚度(frequency-dependent stiffness)300。在图3的曲线图中，表示频率依赖刚度300的线具有可被辨别的三个不同区。在低温度下，粘弹性元件26处于玻璃区310。在玻璃区310中，相比于其他区，粘弹性元件26的刚度高。在玻璃区310中，频率依赖刚度300的值在每单位温度T不会实质上改变。在高温度下，粘弹性元件28处于橡胶区330。在橡胶区330中，相比于其他区，粘弹性元件26的刚度低。在橡胶区330中，频率依赖刚度300的值在每单位温度T不会实质上改变。在玻璃区310与橡胶区330之间，存在玻璃转变区320。在玻璃转变区320中，相比于在玻璃区310及橡胶区330中，频率依赖刚度300的值在每单位温度实质上更多地变化。

图4以曲线图描绘粘弹性元件26的依赖于以赫兹[Hz]为单位的频率的频率依赖刚度300。曲线图的水平轴线上的频率是使粘弹性元件26变形的频率。众所周知，频率依赖刚度300对频率的依赖性是与频率依赖刚度300对温度的依赖性相反的。可在DavidL.G.Jones于2001年出版的书号为ISBN13:9780471492481的粘弹性振动阻尼手册(Handbook of Viscoelastic vibration damping)中找到关于频率依赖刚度300对频率及温度的依赖性的进一步解释。在低频率下，粘弹性元件26处于橡胶区330。在高频率下，粘弹性元件26处于玻璃区310。在玻璃区310与橡胶区330之间，粘弹性元件26在玻璃转变区320中。曲线图中的频率依赖刚度300的绝对值取决于粘弹性元件26的温度。粘弹性元件26的温度增加使曲线图中的曲线向右移位，即，玻璃转变区320的起点被移位至较高频率。粘弹性元件26的温度减低使曲线图中的曲线向左移位，即，玻璃转变区320的起点被移位至较低频率。并且，频率依赖刚度300的绝对值取决于粘弹性元件26的尺寸。例如，为了增加频率依赖刚度300，可增加粘弹性元件26的横截面。

图2的实施例可具备弹性元件28。弹性元件28被布置成用以与粘弹性元件26并行地将第一本体20与第二本体22彼此联接。弹性元件28可具有用以将第一本体20与第二本体22彼此连接的任何合适形式或形状。形式可以是板或梁或支柱。弹性元件28可包括多个分离部件。弹性元件28可将第一本体20与第二本体22以一个或更多个自由度(例如，以6个自由度)彼此联接。粘弹性元件26可至少部分地围绕所述弹性元件28。粘弹性元件26可完全地围绕弹性元件28。替代地，弹性元件28可至少部分地围绕粘弹性元件26。弹性元件28可围绕粘弹性元件26以便使粘弹性元件26与周围环境隔离。周围环境可以是真空。通过围绕所述粘弹性元件26，弹性元件28可防止颗粒或气体从粘弹性元件26进入周围环境。粘弹性元件26及弹性元件28可例如通过硫化而彼此连接。

图4中描绘了弹性元件28的刚度400。弹性元件28的刚度400实质上与频率无关。可通过设定弹性元件28的尺寸来设定弹性元件28的刚度400的绝对值。例如，为了增加弹性元件28的刚度400，可增加弹性元件28的横截面。

频率依赖刚度300在频率f2具有值420。频率f2在载台定位系统200的操作温度处于橡胶区330中。频率依赖刚度300在频率f3具有值430。频率f3在载台定位系统200的操作温度处于玻璃区310中。图4示出主自然频率fn。主自然频率fn在载台定位系统200的操作温度处于玻璃转变区320中。频率依赖刚度300在主自然频率fn具有值440。

因为频率依赖刚度300的值在玻璃转变区320上显著地改变，所以粘弹性元件26导致针对频率处于玻璃转变区320中的振动的阻尼。粘弹性元件26衰减使粘弹性元件26变形且具有在玻璃转变区320中的频率的振动。因为主自然频率fn处于玻璃转变区320中，所以粘弹性元件26能够衰减具有主自然频率fn的振动。

在一实施例中，频率f2低于主自然频率fn。频率f3高于主自然频率fn。值420低于值440。值430高于值440。

频率依赖刚度300的绝对值可取决于粘弹性元件26的几何形状。在实例中，粘弹性元件26被成形为板。板具有沿着与板的主表面平行的轴线的刚度。沿着与板的主表面平行的轴线的刚度不同于沿着与板的主表面垂直的另一轴线的板的刚度。并且，频率依赖刚度300的绝对值可取决于如何将力引入至粘弹性元件26的方式。

在实施例中，频率依赖刚度300的值440高于弹性元件28的刚度400。

图5以曲线图描绘联接件24的刚度500。刚度500为频率依赖刚度300与弹性元件28的刚度400的组合。图5也示出频率依赖刚度300及弹性元件28的刚度400。在低频率下，刚度400实质上高于频率依赖刚度300，因此，刚度500实质上等于刚度400。在高频率下，频率依赖刚度300的值实质上高于刚度400的值。原则上，刚度500的值将会等于频率依赖刚度300的值。然而，刚度500的值被限于值510。值510可由若干刚度确定。实例为介于联接件24与第一本体20之间的连接的实施的刚度。连接的实施可包括具有有限刚度的胶合剂层。

刚度500以区520为特征。在区520中，刚度500在很大程度上是由粘弹性元件26确定。弹性元件28及粘弹性元件26的尺寸可以被确定为使得主自然频率fn处于区域520中。

第一本体20、第二本体22及联接件24—起可形成另一动态系统。该另一动态系统具有另一动态行为。该另一动态行为确定第一本体20及第二本体22如何响应于施加至载台定位系统200的力而振动。该另一动态行为是依赖频率的，这意思是取决于将力施加至载台定位系统200的频率，所述载台定位系统200的振动的振幅可以不同。

该另一动态系统以另一自然频率为特征。主自然频率fn取决于第一本体20及第二本体22的刚度、取决于第一本体20及第二本体22的质量、取决于联接件24的质量、取决于弹性元件28的刚度400，且取决于粘弹性元件26的频率依赖刚度300。通过设定这些依赖性，可使主自然频率等于该另一自然频率fn。例如，可调整所述弹性元件28的刚度400以使主自然频率等于该另一自然频率fn。在另一实例中，调整第二本体22的质量。

图6描绘根据本发明的载台定位系统200的另外实施例。该另外实施例可具有上文所描述的实施例的所有特征。另外，载台定位系统200具有参考件62、传感器64及长行程模块66。

参考件62连接至第一本体20。传感器64不连接至第一本体20。传感器64可连接至框架，例如，静止框架，或例如，支撑所述投影系统PS的框架。传感器64与参考件62协同工作以提供表示第一本体20位置的信号。替代地，传感器64连接至第一本体20，且参考件62不连接至第一本体20。传感器64可包括位置传感器IF。传感器64可以是干涉测量型的，且参考件62可包括反射镜。传感器64可以是编码器型传感器，且参考件62可包括光栅。编码器型传感器可提供表示第一本体20在一个自由度或多个自由度上的位置的信号。

第二本体22可包括被布置用以移动第一本体20的致动器。致动器可在第二本体22与长行程模块66之间提供力F。致动器可包括相对于彼此可移动且一起协同工作以产生力F的两个部件。所述两个部件可以是磁体和线圈。第二本体22可包括两个部件之一或可连接至两个部件之一。两个部件中的另一个可连接至长行程模块66。长行程模块66被布置用以相对于参考件(诸如，投影系统PS)来移动致动器，例如，沿着x轴线。致动器被布置用以相对于长行程模块66来移动第一本体20，例如，沿着x轴线。致动器可包括磁阻致动器、洛伦兹致动器，或可产生力的任何其他类型的致动器。致动器可包括通过将位移施加至第一本体20而移动第一本体20的致动器，诸如，压电致动器或滚珠丝杠主轴。

在一实施例中，第一本体20是用于将传感器64或参考件62安装至第二本体22上的安装件。

在一实施例中，传感器64或参考件62联接至第一本体20。致动器连接至第二本体22。联接件24将第一本体20与第二本体22彼此联接。

第一本体20可包括或支撑所述支撑结构MT和所述衬底台WT之一。在一实施例中，第一本体20与支撑结构MT和衬底台WT之一集成。

如上文所描述的载台定位系统200也可适合用于除了光刻设备以外的设备中。例如，载台定位系统200可用于显微镜中。第一本体20可用以移动待经由显微镜而检验的衬底W。载台定位系统200可用于检验工具中，该检验工具用于检验经曝光衬底W的属性。第一本体20可用以移动衬底W。载台定位系统200可用于第一本体20待相对于参考件而移动的任何类型的设备中。

尽管在本文中可以对用于制造集成电路的光刻设备作出了具体引用，但是应理解到，本文中所描述的光刻设备可以具有其它应用，诸如制造集成光学系统、用于磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、液晶显示器(LCD)、薄膜磁头，等等。所述衬底可以在图案转移至衬底上之前或之后被处理，例如在轨道中，量测工具和/或检验工具中。轨道是通常将一层抗蚀剂施加至衬底W并且对已由辐射光束B曝光的抗蚀剂显影的工具。此外，所述衬底W可以被多于一次地处理，例如以便产生多层集成电路，从而使得本文中所用的术语衬底W也可以表示已包含多个经过处理的层的衬底。

尽管本发明的具体实施例已在上面描述，将理解到本发明可以用如所描述以外的其它方式实施。上文描述是说明性的，而不是限制性的。因此，本领域技术人员应当清楚可以在不背离所附的权利要求的范围的情况下如所述地做出修改。