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防护膜组件框、防护膜组件及其制造方法、曝光原版及其制造方法、曝光装置以及半导体装置的制造方法与流程
文档序号:13765682
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来源:国知局
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防护膜组件框、防护膜组件及其制造方法、曝光原版及其制造方法、曝光装置以及半导体装置的制造方法与流程
技术总结
本发明提供防护膜组件框,其具备框主体,所述框主体具有:设置在一端面的槽,所述一端面是厚度方向的一端面并且是支撑防护膜侧的一端面;以及贯通外周面与设置在上述一端面的槽的壁面之间的贯通孔。
技术研发人员:
高村一夫;小野阳介;种市大树;佐藤泰之;广田俊明
受保护的技术使用者:
三井化学株式会社
文档号码:
201580018782
技术研发日:
2015.04.27
技术公布日:
2016.12.14
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