技术总结
一种浸没光刻设备包括：投影系统，用于通过投影系统的最终透镜元件的光学上有效的部分将图案化的辐射束朝向由衬底台支撑的衬底投影，最终透镜元件具有露出的底部表面；液体限制结构，被配置用于将浸没液体供给至浸没空间并限制在浸没空间中，所述浸没空间在投影系统的最终透镜元件与由衬底和衬底台中的至少一个形成的表面之间；和处于投影系统与液体限制结构之间的通路形成件，以及在通路形成件与最终透镜元件的光学上有效的部分之间的通路，所述通路通过开口与浸没空间液体连通，并且相对于投影系统的光轴沿径向向外延伸至少至最终透镜元件的露出的底部表面的边缘，所述通路被构造和配置成使得在使用时通过毛细作用、由来自浸没空间的液体填充所述通路。
技术研发人员：G·彼得斯;T·W·波莱;J·J·M·巴塞曼斯;W·J·博曼;T·M·默德曼;C·M·诺普斯;B·斯米特斯;K·斯蒂芬斯;R·范德哈姆
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
文档号码：201580035549
技术研发日：2015.06.04
技术公布日：2017.05.10