本实用新型涉及一种镀膜玻璃，具体涉及一种高红外反射电致变色玻璃。
背景技术：
镀膜玻璃具有节能减排及装饰幕墙的双重功效，推出市场后，深受人们喜爱，Low-E玻璃也叫做低辐射镀膜玻璃，传统的LOW-E玻璃，装上墙后可见光及红外的透过率及反射率均固定，无法再改变，被称之为被动节能；而目前电致变色玻璃，虽然能主动节能，但其对红外的反射不论是着色成还是褪色态都不明显。
技术实现要素：
本实用新型的一种高红外反射电致变色玻璃，采用主动节能与被动节能相复合，产品全波段透过率可调，具有高红外反射效果。
本实用新型另一目的是提供一种高红外反射电致变色玻璃的制备方法。
本实用新型是通过以下技术方案实现的：
一种高红外反射电致变色玻璃，包括第一玻璃基板和第二玻璃基板，所述第一玻璃基板和第二玻璃基板间设有电解质层，所述第一玻璃基板包括第一基板和依次设于所述第一基板和电解质层间的ITO层和WO3层。
优选的，第二玻璃基板包括第二基板和依次设于所述第二基板和电解质层间的ITO层、AZO层、Ag层和NiO层。
优选的，所述ITO层膜厚120～135nm，方阻<15欧。
优选的，所述WO3层膜厚500～600nm。
优选的，所述电解质层电导率>10-6μs/cm。
优选的，所述NiO层膜厚50～100nm。
优选的，所述Ag层膜厚8～12nm。
优选的，所述AZO层膜厚300～400nm。
优选的，所述第一基板和第二基板分别为厚度4～8mm的浮法玻璃。
一种制备高红外反射电致变色玻璃的方法，包括以下步骤：
1、磁控溅射ITO层，用交流电源、Ar气作为保护气体，磁控溅射氧化铟锡靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，用Ar气流量800SCCM；
2、磁控溅射WO3层，用交流电源、Ar气、O2气作为保护气体，磁控溅射钨靶，氩氧流量比为400～425SCCM:600～630SCCM；
3、制备电解质层，将PVB、锂盐、助剂按重量比60～70：10～20：10～30挤出流延制成，其中锂盐为高氯酸锂、钽酸锂等的混合物，其它助剂为注塑剂、抗氧化剂、紫外吸光剂、稳定剂；
4、磁控溅射NiO层，用交流电源、Ar气、O2气作为保护气体，磁控溅射钨镍靶W：Ni＝8：92(wt％)，氩氧流量比为380～400SCCM:600～625SCCM；
5、磁控溅射Ag层，直流电源溅射，用Ar气作为保护气体，气体流量500～550SCCM；
6、制备AZO层，铝掺杂的氧化锌层；
7、合片，由第一基板、ITO层和WO3层组成第一玻璃基板，由第二基板、ITO层、AZO层、Ag层、NiO层组成第二玻璃基板，第一玻璃基板、电解质层与第二玻璃基板通过高压釜进行合片，制备得高红外反射电致变色玻璃。
一种装配有所述双色防透明扩散板支架的电视机。
与现有技术相比，本实用新型具有如下优点：
1、本实用新型的高红外反射电致变色玻璃，氧化铟锡膜层具有透明导电功能，且抗化学性能稳定，可有效对红外进行反射同时，可起到保护功能膜层的作用，具有LOW-E玻璃高红外反射的被动节能效果；
2、本实用新型的高红外反射电致变色玻璃，具有电致变色的主动节能效果，对红外线反射率达到80％以上；
3、本实用新型的高红外反射电致变色玻璃，可与智能家居互联，通过控制电路实现智能控制；
4、本实用新型的高红外反射电致变色玻璃制备方法，功能膜层依次沉积在玻璃基片上，膜层具有耐候性和耐腐蚀性能优秀、辐射率低、表面电阻小、均匀性好、结合力强的优点。
【附图说明】
图1是本实用新型结构示意图。
【具体实施方式】
如附图1所示的一种高红外反射电致变色玻璃，包括第一玻璃基板1和第二玻璃基板2，所述第一玻璃基板1和第二玻璃基板2间设有电解质层3，所述第一玻璃基板1包括第一基板11和依次设于所述第一基板11和电解质层3间的ITO层12和WO3层13。本实用新型的玻璃单元由两块不同的玻璃基板及电解质层复合而成，每边的玻璃基板均由多个膜层构成，其中第一玻璃基板上复合有ITO层和WO3层，以实现被动节能的效果。
第二玻璃基板2包括第二基板21和依次设于所述第二基板21和电解质层3间的ITO层22、AZO层23、Ag层24和NiO层25。第二玻璃基板上复合有ITO层、AZO层、Ag层和NiO层，结合电解质层以实现电致变色的主动节能效果。
所述ITO层膜厚120～135nm，方阻<15欧。交流电源磁控溅射氧化铟锡靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，制备ITO层膜，用Ar气作为溅射气体，气体流量800SCCM，膜厚120～135nm，优选为125nm，1m＝109nm。
所述WO3层膜厚500～600nm。交流电源磁控溅射钨靶，用Ar气、O2作为溅射气体，气体流量控制在400～425SCCM:600～630SCCM，膜厚500-600nm，优选为550nm。
所述电解质层电导率>10-6μs/cm。电解质层由PVB-Li构成，金属锂以离子态存在，将PVB、锂盐(高氯酸锂、钽酸锂等)、助剂(注塑剂、抗氧化剂、紫外吸光剂、稳定剂)按重量比60～70：10～20：10～30挤出流延制得导电PVB，其电导率>10-6μs/cm。
所述NiO层膜厚50～100nm。采用交流电源磁控溅射钨镍靶W：Ni＝8:92，用Ar气、O2作为溅射气体，气体流量控制在380～400SCCM:600～625SCCM，膜厚50-100nm，优选为100nm。
所述Ag层膜厚8～12nm。直流电源溅射，用Ar作为溅射气体气体流量500～550SCCM，膜厚8～12nm，优选为8nm。
所述AZO层膜厚300～400nm。采用铝掺杂的氧化锌层，作为保护层，可进一步降低辐射率。
所述第一基板11和第二基板12分别为厚度4～8mm的浮法玻璃。优选的第一基板和第二基板均选择6mm的浮法玻。
一种制备高红外反射电致变色玻璃的方法，包括以下步骤：
1)、磁控溅射ITO层，用交流电源、Ar气作为保护气体，磁控溅射氧化铟锡靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，用Ar气流量800SCCM；
2)、磁控溅射WO3层，用交流电源、Ar气、O2气作为保护气体，磁控溅射钨靶，氩氧流量比为400～425SCCM:600～630SCCM；
3)、制备电解质层，将PVB、锂盐、其它助剂按重量比60～70：10～20：10～30挤出流延制成；
4)、磁控溅射NiO层，用交流电源、Ar气、O2气作为保护气体，磁控溅射钨镍靶W：Ni＝8：92(wt％)，氩氧流量比为380～400SCCM:600～625SCCM；
5)、磁控溅射Ag层，直流电源溅射，用Ar气作为保护气体，气体流量500～550SCCM；
6)、制备AZO层，铝掺杂的氧化锌层；
7)、合片，由第一基板、ITO层和WO3层组成第一玻璃基板，由第二基板、ITO层、AZO层、Ag层、NiO层组成第二玻璃基板，第一玻璃基板、电解质层与第二玻璃基板通过高压釜进行合片，制备得高红外反射电致变色玻璃。功能膜层依次沉积在玻璃基片上，膜层具有耐候性和耐腐蚀性能优秀、辐射率低、表面电阻小、均匀性好、结合力强的优点。