反射式显示面板及其制造方法、显示装置与流程

本申请涉及显示技术领域，特别涉及一种反射式显示面板及其制造方法、显示装置。

背景技术：

随着显示技术的发展，出现了各种各样的显示面板，其中，反射式显示面板可以在未设置有背光源的情况下显示图像。

相关技术中，反射式显示面板可以包括相对设置的第一基板和第二基板，以及设置在第一基板和第二基板之间的液晶。第一基板可以包括第一衬底基板以及设置在第一衬底基板上薄膜晶体管层，薄膜晶体管层上可以设置有像素电极层，且该像素电极层能够反射光。第二基板包括第二衬底基板以及依次设置在第二衬底基板上的色阻层和公共电极层，色阻层可以包括红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块。环境光能够从第二基板远离第一基板的一侧，依次穿过色阻层和液晶到达第一基板上的像素电极层，再被像素电极层反射，并再次穿过液晶和色阻层，最终射出第二基板。需要说明的是，环境光中的红光能够穿过红色色阻块、环境光中的绿光能够穿过绿色色阻块，环境光中的蓝光能够穿过蓝色色阻块，在需要控制显示面板显示图像时，可以通过控制各个色阻块对应的液晶的偏转角度，调整显示面板上色阻块对应区域的光通量，使得显示面板显示图像。

由于相关技术中，每个色阻块允许穿过的光的频率范围较大，反射式显示面板上每个色阻块对应的区域能够发出较多种颜色的光，因此，反射式显示面板上每个色阻块对应的区域所发出的光的纯度较低，反射式显示面板的显示效果较差。

技术实现要素：

为了解决反射式显示面板的显示效果较差的问题，本发明实施例提供了一种反射式显示面板及其制造方法、显示装置。所述技术方案如下：

第一方面，提供了一种反射式显示面板，所述反射式显示面板包括：

相对设置的第一基板和第二基板，以及设置在所述第一基板和所述第二基板之间的液晶；

所述第一基板包括反射层和光致发光层，且所述光致发光层设置在所述反射层与所述液晶之间，所述光致发光层用于在激发光的作用下发出被激发光。

可选的，所述光致发光层包括量子点层，所述量子点层用于在激发光的作用下发出至少一种颜色的被激发光。

可选的，所述量子点层包括：红色量子点块、绿色量子点块和透明块，

所述红色量子点块用于在蓝色的激发光的作用下发出红色的被激发光，所述绿色量子点块用于在蓝色的激发光的作用下发出绿色的被激发光。

可选的，所述光致发光层朝向所述第二基板的一侧，沿远离所述光致发光层的方向依次设置有两个偏振器。

可选的，所述液晶为宾主液晶，所述两个偏振器中的一个偏振器为所述宾主液晶，另一个偏振器为偏光片。

可选的，所述偏光片设置在所述第二基板远离所述液晶的一侧。

可选的，所述第一基板包括：第一衬底基板，所述第一衬底基板上设置有薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层包括阵列排布的多个薄膜晶体管；设置有所述薄膜晶体管层的第一衬底基板上设置有绝缘层；设置有所述绝缘层的第一衬底基板上设置有所述反射层，所述反射层的材质为导体，所述反射层包括阵列排布的多个反射块，且所述多个反射块通过所述绝缘层上的过孔与所述多个薄膜晶体管中的漏极一一连接；设置有所述反射层的第一衬底基板上设置有所述光致发光层；设置有所述光致发光层的第一衬底基板上设置有平坦层；设置有所述平坦层的第一衬底基板上设置有第一配向层；

所述第二基板包括：第二衬底基板，所述第二衬底基板朝向所述液晶的一侧设置有黑矩阵和平坦层，所述黑矩阵和所述平坦层位于同一层；设置有所述黑矩阵和所述平坦层的第二衬底基板上设置有公共电极层；设置有所述公共电极层的第二衬底基板上设置有第二配向层。

可选的，所述第一基板包括：第一衬底基板，所述第一衬底基板上设置有所述反射层；设置有所述反射层的第一衬底基板上设置有所述光致发光层；设置有所述光致发光层的第一衬底基板上设置有平坦层，设置有平坦层的第一衬底基板上设置有第一配向层；

所述第二基板包括：第二衬底基板，所述第二衬底基板朝向所述液晶的一侧设置有黑矩阵和平坦层，所述黑矩阵和所述平坦层位于同一层；设置有所述黑矩阵和平坦层的第二衬底基板上设置有第二配向层；

其中，所述第一衬底基板上还设置有薄膜晶体管层、绝缘层和像素电极层，所述第二衬底基板上还设置有公共电极层；或者，所述第一衬底基板上还设置有公共电极层，所述第二衬底基板上还设置有薄膜晶体管层、绝缘层和像素电极层。

第二方面，提供了一种反射式显示面板的制造方法，所述方法包括：

制造第一基板；

制造第二基板；

将所述第一基板与所述第二基板相对设置；

在所述第一基板与所述第二基板之间设置液晶；

所述第一基板包括反射层和光致发光层，且所述光致发光层设置在所述反射层与所述液晶之间，所述光致发光层用于在激发光的作用下发出被激发光。

可选的，所述光致发光层包括量子点层，所述量子点层用于在激发光的作用下发出至少一种颜色的被激发光。

可选的，所述量子点层包括：红色量子点块、绿色量子点块和透明块，

所述红色量子点块用于在蓝色的激发光的作用下发出红色的被激发光，所述绿色量子点块用于在蓝色的激发光的作用下发出绿色的被激发光。

可选的，所述光致发光层朝向所述第二基板的一侧，沿远离所述光致发光层的方向依次设置有两个偏振器。

可选的，所述液晶为宾主液晶，所述两个偏振器中的一个偏振器为所述宾主液晶，另一个偏振器为偏光片。

第三方面，提供了一种显示装置，所述显示装置包括第一方面所述的反射式显示面板。

可选的，所述显示装置还包括：光源，所述光源用于向所述显示面板的第二基板发出激发光。

综上所述，本申请提供了一种反射式显示面板及其制造方法、显示装置，由于该反射式显示面板中，第一基板包括反射层和光致发光层，且该第一基板中的光致发光层可以在激发光的作用下发出被激发光，且被激励光的频率范围较小，所以，提高了显示面板上每个区域发出的光的纯度，提高了显示面板的显示效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种反射时显示面板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种反射式显示面板的局部结构示意图；

图3为本发明实施例提供的另一种反射式显示面板的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的又一种反射式显示面板的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的一种第一基板的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的另一种第一基板的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的一种第二基板的结构示意图；

图8为本发明实施例提供的一种反射式显示面板的制造方法的方法流程图；

图9为本发明实施例提供的一种制造第一基板的方法流程图；

图10-1为本发明实施例提供的第一种第一基板的局部结构示意图；

图10-2为本发明实施例提供的第二种第一基板的局部结构示意图；

图10-3为本发明实施例提供的第三种第一基板的局部结构示意图；

图10-4为本发明实施例提供的第四种第一基板的局部结构示意图；

图10-5为本发明实施例提供的第五种第一基板的局部结构示意图；

图11为本发明实施例提供的另一种制造第一基板的方法流程图；

图12-1为本发明实施例提供的第六种第一基板的局部结构示意图；

图12-2为本发明实施例提供的第七种第一基板的局部结构示意图；

图12-3为本发明实施例提供的第八种第一基板的局部结构示意图；

图12-4为本发明实施例提供的第九种第一基板的局部结构示意图；

图12-5为本发明实施例提供的第十种第一基板的局部结构示意图；

图12-6为本发明实施例提供的第十一种第一基板的局部结构示意图；

图13为本发明实施例提供的一种制造第二基板的方法流程图；

图14-1为本发明实施例提供的第一种第二基板的局部结构示意图；

图14-2为本发明实施例提供的第二种第二基板的局部结构示意图；

图14-3为本发明实施例提供的第三种第二基板的局部结构示意图；

图15为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。

如图1所示，本发明实施例提供了一种反射式显示面板0，该反射式显示面板0可以包括：相对设置的第一基板01和第二基板02，以及设置在第一基板01和第二基板02之间的液晶03；

第一基板01包括反射层011和光致发光层012，且光致发光层012设置在反射层011与液晶02之间，光致发光层03用于在激发光的作用下发出被激发光。

综上所述，由于本发明实施例提供的反射式显示面板中，第一基板包括反射层和光致发光层，且该第一基板中的光致发光层可以在激发光的作用下发出被激发光，且被激励光的频率范围较小，所以，提高了显示面板上每个区域发出的光的纯度，提高了显示面板的显示效果。

示例的，该光致发光层012可以包括量子点层，该量子点层可以用于在激发光的作用下发出至少一种颜色的被激发光。第一基板01或第二基板02为阵列基板。

图2为本发明实施例提供的一种反射式显示面板0的局部结构示意图，如图2所示，当光致发光层012包括量子点层时，该量子点层可以包括：红色量子点块R、绿色量子点块G和透明块T，红色量子点块R用于在蓝色的激发光的作用下发出红色的被激发光，绿色量子点块G用于在蓝色的激发光的作用下发出绿色的被激发光。

也即，蓝色的激发光照射在量子点层上时，红色量子点块R能够发出红色的被激发光，绿色量子点块G能够发出绿色的被激发光，蓝色的激发光能够穿过透明块T，并到达反射层011，最终被反射层011反射至透明块T，进而从透明块T射出，使得反射式显示面板上透明块T所在的区域能够发出蓝光，进而该反射式显示面板0上的各个区域分别能够发出红光、绿光和蓝光，使得该反射式显示面板0能够显示彩色图像。

需要说明的是，在光致发光层朝向第二基板的一侧，沿远离光致发光层的方向可以依次设置有两个偏振器。示例的，该两个偏振器的设置方式可以包括以下两种方式：

在第一种方式中，图3为本发明实施例提供的另一种反射式显示面板0的结构示意图，如图3所示，液晶03可以为宾主液晶，反射式显示面板0中的两个偏振器中，一个偏振器为宾主液晶，另一个偏振器为偏光片04，示例的，偏光片04可以设置在第二基板02远离液晶03的一侧。此时，该反射式显示面板0仅仅包括一个偏光片，且该偏光片位于第一基板和第二基板形成的液晶盒之外。

在使用该反射式显示面板时，可以通过调整宾主液晶分子长轴在偏光片透光轴方向的投影，来控制反射式显示面板的出光量，当液晶分子长轴在偏光片透光轴方向的投影的越大，反射式显示面板的出光量越少，当液晶分子长轴在偏光片透光轴方向的投影的越小，反射式显示面板的出光量越大。

当宾主液晶的长轴与偏光片04的透光轴平行时，宾主液晶的长轴在偏光片透光轴方向的投影最大。从偏光片04远离第二基板02的一侧射入该反射式显示面板0的激发光(自然光)能够穿过该偏光片04，并且穿过该偏光片04的激发光的偏振方向为第一方向(偏振光)；当穿过该偏光片04的激发光到达液晶03(也即宾主液晶)时，由于液晶03的长轴与偏光片04的透光轴平行，宾主液晶能够将该偏振方向为第一方向的激发光完全吸收，所以到达宾主液晶的激发光无法穿过宾主液晶，光致发光层无法被激发，使得反射式显示面板呈现暗态。

当向宾主液晶施加电压，使得宾主液晶的长轴垂直于偏光片的透光轴，此时，宾主液晶的长轴在偏光片的透光轴方向的投影最小，宾主液晶无法吸收穿过偏光片的激发光，所以穿过偏光片04的激发光可以穿过宾主液晶而到达光致发光层，从而激发光致发光层发出被激发光，且该被激发光同样可以穿过宾主液晶和偏光片，最终使得该反射式显示面板呈现亮态。

在第二种方式中，图4为本发明实施例提供的又一种反射式显示面板0的结构示意图，如图4所示，该反射式显示面板0中的液晶03并不是宾主液晶，此时，该反射式显示面板0中的两个偏振器为第一偏光片05和第二偏光片06，且该第一偏光片05可以设置在光致发光层012与液晶03之间，该第二偏光片06可以设置第二基板02远离第一基板01的一侧，第一偏光片05的透光轴垂直于第二偏光片06的透光轴。

可选的，本发明实施例中的第一基板可以为阵列基板，第二基板也可以为阵列基板，假设该第一基板为阵列基板，此时，该第一基板可以具有多种形式的具体结构，现将其中的两种实现方式进行举例说明：

一方面，图5为本发明实施例提供的一种第一基板01的结构示意图，如图5所示，该第一基板01可以包括：第一衬底基板013，第一衬底基板013上设置有薄膜晶体管层014，该薄膜晶体管层014可以包括多个阵列排布的薄膜晶体管，每个薄膜晶体管可以包括栅极、源极和漏极。设置有薄膜晶体管层014的第一衬底基板013上设置有绝缘层015；设置有绝缘层015的第一衬底基板013上设置有反射层011，且该反射层011的材质为导体(如铝)，反射层011可以包括阵列排布的多个反射块，且该多个反射块通过绝缘层015上的多个过孔(图5中未示出)与多个薄膜晶体管中的漏极一一连接，也即图5中的反射层011同时还起到像素电极的作用。设置有反射层011的第一衬底基板013上设置有光致发光层012；设置有光致发光层012的第一衬底基板013上设置有平坦层016，可选的，该平坦层016的材质可以与光致发光层012中透明块的材质相同。设置有平坦层016的第一衬底基板013上设置有第一配向层017。

也即，在图5所示的第一基板中，由于该反射层同时具有像素电极的作用和反射层的作用，所以该第一基板中并不需要另外设置像素电极，因此，减小了第一基板厚度，进而减小反射式显示面板的厚度。

另一方面，图6为本发明实施例提供的另一种第一基板01的结构示意图，如图6所示，第一基板01可以包括：第一衬底基板013，第一衬底基板013上设置有反射层011(反射层的材质可以为铝)；设置有反射层011的第一衬底基板013上设置有绝缘层015；设置有绝缘层015的第一衬底基板上设置有薄膜晶体管层014；设置有薄膜晶体管层014的第一衬底基板013上设置有光致发光层012；设置有光致发光层012的第一衬底基板013上设置有像素电极层018，像素电极层018通过光致发光层012上的过孔与薄膜晶体管层014中的漏极相连接；设置有像素电极层018的第一衬底基板013上设置有平坦层016，设置有平坦层016的第一衬底基板013上设置有第一配向层017。

图7为本发明实施例提供的一种第二基板02的结构示意图，如图7所示，第二基板02包括第二衬底基板021，第二衬底基板021朝向液晶03的一侧设置有黑矩阵(英文：Black matrix；简称：BM)022和平坦层023，且黑矩阵022和平坦层023位于同一层；设置有黑矩阵022和平坦层023的第二衬底基板021上设置有公共电极层024；设置有公共电极层024的第二衬底基板021上设置有第二配向层025。该第二基板中设置的黑矩阵能够对第一基板上的薄膜晶体管结构起到遮挡作用，从而进一步的提高反射式显示面板的显示效果。

需要说明的是，将图5所示的第一基板01或图6所示的第一基板01均可以与图7所示的第二基板02相结合，本发明实施例对此不作限定。在将第一基板和第二基板相对设置后，第一基板上的第一配向层靠近第二基板设置，第二基板上的第二配向层靠近第一基板设置。

进一步的，当第二基板为阵列基板时，第一基板可以包括：第一衬底基板，第一衬底基板上设置有反射层(反射层的材质可以为铝)；设置有反射层的第一衬底基板上设置有光致发光层；设置有光致发光层的第一衬底基板上设置有平坦层，设置有平坦层的第一衬底基板上设置有公共电极层；设置有公共电极层的第一衬底基板上设置有第一配向层。

第二基板可以包括第二衬底基板，第二衬底基板朝向液晶的一侧设置有黑矩阵和平坦层，且黑矩阵和平坦层位于同一层；设置有黑矩阵和平坦层的第二衬底基板上设置有薄膜晶体管层；设置有薄膜晶体管层的第二衬底基板上设置有绝缘层；设置有绝缘层的第二衬底基板上设置有像素电极层，像素电极层通过绝缘层上的过孔与薄膜晶体管层中的漏极相连接；设置有像素电极层的第二衬底基板上设置有第二配向层。

需要说明的是，当第二衬底基板为阵列基板时，薄膜晶体管层的材质需要为透明材质。

由于本发明实施例中的反射式显示面板的每个区域发出的光的纯度较高，因此，该反射式显示面板的色域较大，显示效果较好。

综上所述，由于本发明实施例提供的反射式显示面板中，第一基板包括反射层和光致发光层，且该第一基板中的光致发光层可以在激发光的作用下发出被激发光，且被激励光的频率范围较小，所以，提高了显示面板上每个区域发出的光的纯度，提高了显示面板的显示效果。

图8为本发明实施例提供的一种反射式显示面板的制造方法的方法流程图，如图8所示，该反射式显示面板的制造方法可以包括：

步骤801、制造第一基板。

步骤802、制造第二基板。

步骤803、将第一基板与第二基板相对设置。

步骤804、在第一基板与第二基板之间设置液晶。

需要说明，第一基板包括反射层和光致发光层，且光致发光层设置在反射层与液晶之间，光致发光层用于在激发光的作用下发出被激发光。

综上所述，由于本发明实施例提供的反射式显示面板的制造方法所制造的反射式显示面板中，第一基板包括反射层和光致发光层，且该第一基板中的光致发光层可以在激发光的作用下发出被激发光，且被激励光的频率范围较小，所以，提高了显示面板上每个区域发出的光的纯度，提高了显示面板的显示效果。

步骤801中制造得到的第一基板可以如图5或图6所示。

如图9所示，当步骤801中制造得到的第一基板如图5所示时，步骤801可以包括：

步骤8011a、在第一衬底基板上形成薄膜晶体管层。

如图10-1所示，在制造如图5所示的第一基板01时，可以首先在第一衬底基板013上形成薄膜晶体管层014，示例的，该薄膜晶体管层014可以包括多个阵列排布的薄膜晶体管0141，每个薄膜晶体管0141可以包括栅极、源极和漏极。也即该薄膜晶体管层014可以包括多个膜层(如栅极和栅线所在膜层、源漏极和数据线所在的膜层)，在第一衬底基板上每形成一个膜层时，均可以首先形成相应的材质层，然后采用一次构图工艺对该材质层进行处理，得到一个膜层。其中，一次构图工艺可以包括：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离，因此，采用一次构图工艺对材质层进行处理包括：在材质层上涂覆一层光刻胶，然后采用掩膜版对光刻胶进行曝光，使光刻胶形成完全曝光区和非曝光区，之后采用显影工艺进行处理，使完全曝光区的光刻胶被去除，非曝光区的光刻胶保留，之后对完全曝光区在材质层上的对应区域进行刻蚀，刻蚀完毕后剥离非曝光区的光刻胶即可得到相应的膜层。

步骤8012a、在形成有薄膜晶体管层的第一衬底基板上形成绝缘层。

如图10-2所示，在第一衬底基板013上形成薄膜晶体管层014后，可以在形成有薄膜晶体管层014的第一衬底基板013上形成绝缘层015。示例地，可以采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者等离子体增强化学气相沉积法(英文：Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition；简称：PECVD)等方法在形成有薄膜晶体管层014的第一衬底基板013上形成绝缘层015。

进一步的，在形成绝缘层015后，还可以采用一次构图工艺对绝缘层015进行处理，使得绝缘层015上形成多个过孔，且每个过孔对应一个薄膜晶体管结构中的漏极。

步骤8013a、在形成有绝缘层的第一衬底基板上形成反射层。

如图10-3所示，可以在形成有绝缘层015的第一衬底基板013上形成反射层011，且该反射层011的材质为导体(如铝)，反射层011可以包括阵列排布的多个反射块(图10-3中未示出)，且该多个反射块通过绝缘层015上的多个过孔与多个薄膜晶体管中的漏极一一连接，也即反射层011同时还起到像素电极的作用，所以，该第一基板中并不需要另外设置像素电极，因此，减小了第一基板的厚度，进而减小反射式显示面板的厚度。需要说明的是，在形成该多个反射块时，可以首先在形成有绝缘层的第一衬底基板上形成反射材质层，然后采用一次构图工艺对该反射材质层进行处理，得到多个反射块。

步骤8014a、在形成有反射层的第一衬底基板上形成光致发光层。

示例的，本发明实施例中的光致发光层可以为量子点层。量子点层用于在激发光的作用下发出至少一种颜色的被激发光。

在形成反射层011后，可以在形成有反射层011的第一衬底基板013上形成红色量子点块。可选的，可以首先在形成有反射层011的第一衬底基板013上形成红色量子点材质层，然后采用一次构图工艺对该红色量子点材质层进行处理，得到该红色量子点块。在形成红色量子点块后，可以在形成有红色量子点块的第一衬底基板013上形成绿色量子点块。可选的，可以首先在该形成有红色量子点块的第一衬底基板013上形成绿色量子点材质层，并采用一次构图工艺对该绿色量子点材质层进行处理，得到绿色量子点块。在形成绿色量子点块后，可以在形成有绿色量子点块的第一衬底基板013上形成透明块。可选的，可以首先在形成有绿色量子点块的第一衬底基板013上形成透明材质层，并采用一次构图工艺对该透明材质点层进行处理，得到透明块。需要说明的是，红色量子点块、绿色量子点块和透明块可以组成如图10-4所示的光致发光层012。

步骤8015a、在形成有光致发光层的第一衬底基板上形成平坦层。

如图10-5所示，在形成光致发光层012后，可以在形成有光致发光层012的第一衬底基板013上形成平坦层016。

需要说明的是，在本发明实施例中，步骤8014a中形成透明块和步骤8015a中形成的平坦层的材质可以相同，且可以同时形成。

步骤8016a、在形成有平坦层的第一衬底基板上形成第一配向层。

如图5所示，在形成平坦层016后，可以在形成有平坦层016的第一衬底基板013上形成第一配向层017。

如图11所示，当步骤801中制造得到的第一基板如图6所示时，步骤801可以包括：

步骤8011b、在第一衬底基板上形成反射层。

如图12-1所示，在步骤8011b中可以采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方法在第一衬底基板013上形成反射层011。示例的，反射层011的材质可以为铝，实际应用中，反射层的材质还可以为其他材质，本发明实施例对此不作限定。

步骤8012b、在形成有反射层的第一衬底基板上形成绝缘层。

如图12-2所示，在形成反射层011后，可以在第一衬底基板013上形成绝缘层015。形成绝缘层015的方法可以与形成反射层011的方法相同。

步骤8013b、在形成有绝缘层的第一衬底基板上形成薄膜晶体管层。

如图12-3所示，在形成绝缘层015后，可以在形成有绝缘层015的第一衬底基板013上形成薄膜晶体管层014，示例的，步骤8013b中形成薄膜晶体管层014的具体步骤可以参考步骤8011a中形成薄膜晶体管层的具体步骤，本发明实施例在此不做赘述。

步骤8014b、在形成有薄膜晶体管层的第一衬底基板上形成光致发光层。

如图12-4所示，在形成薄膜晶体管层014后，可以在形成有薄膜晶体管层014的第一衬底基板013上形成光致发光层012，形成光致发光层012的具体步骤可以参考步骤8014a中形成光致发光层012的具体步骤，本发明实施例在此不做赘述。

进一步的，在形成光致发光层012后，还可以采用一次构图工艺对光致发光层012进行处理，使得光致发光层012上形成多个过孔，且每个过孔对应一个薄膜晶体管结构中的漏极。

步骤8015b、在形成有光致发光层的第一衬底基板上形成像素电极。

如图12-5所示，在形成光致发光层012后，可以在形成有光致发光层012的第一衬底基板013上形成像素电极层018。且形成像素电极层018的具体步骤可以参考步骤8013a中形成反射层的具体步骤，本发明实施例在此不做赘述。

需要说明的是，像素电极层018可以通过光致发光层012上的过孔与薄膜晶体管层014中的漏极相连接。

步骤8016b、在形成有像素电极的第一衬底基板上形成平坦层。

如图12-6所示，在形成像素电极层018后，可以在形成有像素电极层018的第一衬底基板013上形成平坦层016。

步骤8017b、在形成有平坦层的第一衬底基板上形成第一配向层。

如图6所示，在形成平坦层016后，可以在形成有平坦层016的第一衬底基板013上形成第一配向层017。

如图13所示，步骤802可以包括：

步骤8021、在第二衬底基板上形成黑矩阵。

如图14-1所示，在执行步骤8021时，可以在第二衬底基板021上形成黑矩阵022。示例的，可以首先在第二衬底基板021上形成黑矩阵材质层，然后采用一次构图工艺对该黑矩阵材质层进行处理，得到网格状的黑矩阵022。

当第一基板与第二基板相对设置后，黑矩阵能够对第一基板上的薄膜晶体管结构起到遮挡作用，从而进一步的提高反射式显示面板的显示效果。

步骤8022、在形成有黑矩阵的第二衬底基板上形成平坦层。

如图14-2所示，在形成黑矩阵022后，可以在形成有黑矩阵022的第二衬底基板021上形成平坦层023，需要说明的是，形成的平坦层023可以与黑矩阵022位于同一层。

步骤8023、在形成有黑矩阵和平坦层的第二衬底基板上形成公共电极层。

如图14-3所示，在形成黑矩阵和平坦层后，可以在形成有黑矩阵022和平坦层023的第二衬底基板021上通过涂覆、磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方式形成公共电极层024，示例的，公共电极层024的材质可以为氧化铟锡。

步骤8024、在形成有公共电极层的第二衬底基板上形成第二配向层。

如图7所示，在形成公共电极层024后，可以在第二衬底基板021上再形成第二配向层025。

需要说明的是，当第二基板为阵列基板时，在801中制造第一基板时，可以首先在第一衬底基板上形成反射层；然后，在形成有反射层的第一衬底基板上形成光致发光层；再在形成有光致发光层的第一衬底基板上形成平坦层；在形成有平坦层的第一衬底基板上形成公共电极层；在形成有公共电极层的第一衬底基板上形成第一配向层。

在步骤802中制造第二基板时，可以首先在第二衬底基板朝向液晶的一侧形成黑矩阵和平坦层，且黑矩阵和平坦层位于同一层；然后在形成有黑矩阵和平坦层的第二衬底基板上形成薄膜晶体管层；再在形成有薄膜晶体管层的第二衬底基板上设置有绝缘层；在形成有绝缘层的第二衬底基板上形成像素电极层，像素电极层通过绝缘层上的过孔与薄膜晶体管层中的漏极相连接；在形成有像素电极层的第二衬底基板上形成第二配向层。

需要说明的是，当第二衬底基板为阵列基板时，薄膜晶体管层的材质需要为透明材质。

进一步的，本发明实施例中的光致发光层朝向第二基板的一侧，沿远离光致发光层的方向可以依次设置有两个偏振器。

一方面，步骤804中设置在第一基板和第二基板之间的液晶可以为宾主液晶，则在步骤804之后，该反射式显示面板的制造方法还可以包括：在第二基板远离第一基板的一侧设置偏光片。也即，该反射式显示面板中的两个偏振器可以分别为宾主液晶和偏光片。

另一方面，步骤804中设置在第一基板和第二基板之间的液晶也可以不为宾主液晶，则在步骤803之后需要在第一基板朝向第二基板的一侧设置第一偏光片，在步骤804之后，该第一偏光片位于液晶与第一基板之间。进一步的，在步骤804之后，还需要在第二基板远离第一基板的一侧设置第二偏光片，且该第一偏光片的透光轴需要垂直于第二偏光片的透光轴。

综上所述，由于本发明实施例提供的反射式显示面板的制造方法所制造的反射式显示面板中，第一基板包括反射层和光致发光层，且该第一基板中的光致发光层可以在激发光的作用下发出被激发光，且被激励光的频率范围较小，所以，提高了显示面板上每个区域发出的光的纯度，提高了显示面板的显示效果。

如图15所示，本发明实施例提供了一种显示装置150，该显示装置150可以包括反射式显示面板1501，该反射式显示面板1501可以如图2至图4任一所示。

可选的，该显示装置150还可以包括：光源1502，光源1502用于向显示面板0的第二基板发出激发光。

综上所述，由于本发明实施例提供的显示装置中的反射式显示面板中，第一基板包括反射层和光致发光层，且该第一基板中的光致发光层可以在激发光的作用下发出被激发光，且被激励光的频率范围较小，所以，提高了显示面板上每个区域发出的光的纯度，提高了显示面板的显示效果。

需要说明的是，本发明实施例提供的反射式显示面板实施例、反射式显示面板的制造方法实施例以及显示装置实施例均可以互相参考，本发明实施例对此不做限定。

以上所述仅为本申请的较佳实施例，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。