1.一种阵列基板，包括：
衬底基板；
栅极线，设置在所述衬底基板上且沿第一方向延伸；
数据线，设置在所述衬底基板上且沿第二方向延伸；
所述栅极线和所述数据线彼此交叉以限定像素区；
有机膜，设置在所述栅极线与所述数据线上以及所述像素区内；以及
像素电极，设置在所述有机膜上且在所述像素区内，
其中，位于所述数据线正上方的所述有机膜具有第一厚度，位于所述像素电极正下方的所述有机膜具有第二厚度，所述第一厚度大于所述第二厚度。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，还包括，位于所述像素区内的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管位于所述有机膜与所述衬底基板之间，所述像素电极通过所述有机膜中的过孔连接到所述薄膜晶体管的漏极，所述薄膜晶体管正上方的所述有机膜的厚度等于所述第一厚度。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述栅极线正上方的所述有机膜的厚度等于所述第一厚度。
4.根据权利要求1-3任一项所述的阵列基板，其中，所述第二厚度与所述第一厚度的比例不小于0.5。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述像素区还设置有公共电极，所述公共电极设置在所述有机膜远离所述衬底基板的一侧，且在垂直于所述衬底基板的方向上，所述公共电极与所述数据线和所述栅极线的至少之一有交叠。
6.根据权利要求5所述的阵列基板，其中，所述公共电极设置在所述像素电极远离所述衬底基板的一侧或设置在所述像素电极与所述有机膜之间。
7.根据权利要求5或6所述的阵列基板，其中，所述公共电极为透明导电电极。
8.一种显示装置，包括权利要求1-7任一项所述的阵列基板。
9.一种阵列基板的制作方法，包括：
在衬底基板上形成沿第一方向延伸的栅极线以及沿第二方向延伸的数据线，所述栅极线和所述数据线彼此交叉以限定像素区；
在所述栅极线和所述数据线上以及所述像素区形成有机膜；以及
在所述有机膜上形成像素电极，所述像素电极位于所述像素区内，
其中，位于所述数据线正上方的所述有机膜具有第一厚度，位于所述像素电极正下方的所述有机膜具有第二厚度，所述第一厚度大于所述第二厚度。
10.根据权利要求9所述的阵列基板的制作方法，还包括：
在所述像素区形成薄膜晶体管，且所述薄膜晶体管形成于所述有机膜与所述衬底基板之间，所述像素电极通过所述有机膜中的过孔连接到所述薄膜晶体管的漏极，所述薄膜晶体管正上方的所述有机膜的厚度等于所述第一厚度。
11.根据权利要求10所述的阵列基板的制作方法，其中，所述有机膜采用半色调掩模工艺形成。
12.根据权利要求10所述的阵列基板的制作方法，还包括：在所述像素区形成公共电极，其中，所述公共电极形成在所述有机膜远离所述衬底基板的一侧，且在垂直于所述衬底基板的方向上，所述公共电极与所述数据线和所述栅极线的至少之一有交叠。
13.根据权利要求12所述的阵列基板的制作方法，其中，所述公共电极形成在所述像素电极远离所述衬底基板的一侧或形成在所述像素电极与所述有机膜之间。