一种显示面板及其制作方法、显示装置与流程

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。

背景技术：

现有的显示面板通常包括对盒的两个显示基板、填充在两个显示基板之间的液晶、以及设置在其中一个显示基板的非开口区内用来保持盒厚的隔垫物。以显示面板包括阵列基板和彩膜基板，且隔垫物设置在阵列基板上为例，如图1所示，阵列基板包括由多条栅线11和多条数据线13交叉限定出的多个像素区，每个像素区包括开口区1(即显示面板的开口区1)以及围绕开口区1的非开口区2(即显示面板的非开口区2)，隔垫物20通常设置在非开口区2内与栅线相对应的区域内。

基于上述结构，在阵列基板的非开口区2内设置的隔垫物20虽然可以支撑盒体，以保持一定盒厚，但是仍存在如下弊端：当阵列基板和彩膜基板对盒形成显示面板后，如若显示面板被施加了一定的外力，隔垫物20可能会在外力的作用下移动至开口区1内，这样不仅会影响隔垫物20周围的液晶的排布，还会遮挡经开口区1透过的光，造成开口率的降低，从而影响显示面板的显示性能。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种显示面板，用于防止因隔垫物移动至开口区而导致显示面板的显示性能降低。

为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种显示面板，包括开口区和围绕所述开口区的非开口区，以及设于所述非开口区内的隔垫物，所述非开口区内还设置有衬垫结构，所述衬垫结构位于所述隔垫物旁，用于防止所述隔垫物移动至所述开口区。

优选地，所述显示面板包括第一衬底基板及位于所述第一衬底基板上对应于所述非开口区的区域内的栅线，所述隔垫物位于所述非开口区内与栅线对应的区域内；所述衬垫结构位于所述第一衬底基板上，所述衬垫结构包括位于所述非开口区内的第一衬垫和第二衬垫，其中，所述第一衬垫和所述第二衬垫分别位于所述隔垫物的两侧，且所述第一衬垫和所述第二衬垫分别位于所述栅线的两侧；所述第一衬底基板上与所述第一衬垫对应的区域内的各膜层结构的总厚度，大于所述第一衬底基板上与所述栅线对应的区域内的各膜层结构的总厚度；所述第一衬底基板上与所述第二衬垫对应的区域内的各膜层结构的总厚度，大于所述第一衬底基板上与所述栅线对应的区域内的各膜层结构的总厚度。

优选地，所述第一衬垫包括：与所述栅线同层的第一垫高层，和/或，与数据线同层的第二垫高层，和/或，与有源层同层的第三垫高层；所述第二衬垫包括：与所述栅线同层的第四垫高层，和/或，与所述数据线同层的第五垫高层，和/或，与所述有源层同层的第六垫高层。

优选地，所述显示面板还包括公共电极线，所述公共电极线与所述栅线同层，且所述公共电极线位于所述栅线的一侧；所述第一衬垫与所述公共电极线对应，所述公共电极线与所述第一衬垫对应的部分充当所述第一垫高层；或者，所述第二衬垫与所述公共电极线对应，所述公共电极线与所述第二衬垫对应的部分充当所述第四垫高层。

在本发明所提供的显示面板中，通过设置在显示面板的非开口区内、隔垫物旁的衬垫结构，对隔垫物的位置进行限定，防止隔垫物移动至开口区内，以防止因隔垫物的位置发生移动而导致隔垫物周围的液晶的排布发生变化，同时防止因隔垫物移动至开口区而造成隔垫物遮挡经开口区透过的光，从而可以防止因隔垫物移动至开口区而影响液晶的排布以及显示面板的开口率，进而改善显示面板的显示性能。

本发明的目的还在于提供一种显示面板的制作方法，用于防止因隔垫物移动至开口区而导致显示面板的显示性能降低。

为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种显示面板的制作方法，所述显示面板的制作方法用于制作如上述技术方案所述的显示面板，所述显示面板的制作方法包括：

在所述显示面板的非开口区内形成衬垫结构，所述衬垫结构位于设于所述非开口区内的隔垫物旁，用于防止所述隔垫物移动至所述开口区。

优选地，所述隔垫物位于所述非开口区内与栅线对应的区域内；所述衬垫结构包括第一衬垫和第二衬垫；

在所述显示面板的非开口区内形成衬垫结构的步骤包括：

提供一第一衬底基板；

在所述第一衬底基板上对应于所述显示面板的非开口区的区域内形成所述第一衬垫和所述第二衬垫；其中，所述第一衬垫和所述第二衬垫分别位于所述隔垫物的两侧，且所述第一衬垫和所述第二衬垫分别位于所述栅线的两侧；所述第一衬底基板上与所述第一衬垫对应的区域内的各膜层结构的总厚度，大于所述第一衬底基板上与所述栅线对应的区域内的各膜层结构的总厚度；所述第一衬底基板上与所述第二衬垫对应的区域内的各膜层结构的总厚度，大于所述第一衬底基板上与所述栅线对应的区域内的各膜层结构的总厚度。

优选地，所述第一衬垫包括第一垫高层、第二垫高层和/或第三垫高层；

在所述第一衬底基板上对应于所述显示面板的非开口区的区域内形成所述第一衬垫的步骤包括：

在所述第一衬底基板上对应于所述显示面板的非开口区的区域内形成所述第一垫高层，所述第一垫高层与所述栅线同层；

和/或，

在所述第一衬底基板上对应于所述显示面板的非开口区的区域内形成所述第二垫高层，所述第二垫高层与数据线同层；

和/或，

在所述第一衬底基板上对应于所述显示面板的非开口区的区域内形成所述第三垫高层，所述第三垫高层与有源层同层。

优选地，所述第一垫高层与所述栅线通过一次构图工艺形成，所述第二垫高层与所述数据线通过一次构图工艺形成，所述第三垫高层与所述有源层通过一次构图工艺形成。

优选地，所述第二垫高层与所述第三垫高层通过一次构图工艺形成。

优选地，所述第二衬垫包括第四垫高层、第五垫高层和/或第六垫高层；

在所述第一衬底基板上对应于所述显示面板的非开口区的区域内形成所述第二衬垫的步骤包括：

在所述第一衬底基板上对应于所述显示面板的非开口区的区域内形成所述第四垫高层，所述第四垫高层与所述栅线同层；

和/或，

在所述第一衬底基板上对应于所述显示面板的非开口区的区域内形成所述第五垫高层，所述第五垫高层与数据线同层；

和/或，

在所述第一衬底基板上对应于所述显示面板的非开口区的区域内形成所述第六垫高层，所述第六垫高层与有源层同层。

优选地，所述第四垫高层与所述栅线通过一次构图工艺形成，所述第五垫高层与所述数据线通过一次构图工艺形成，所述第六垫高层与所述有源层通过一次构图工艺形成。

优选地，所述第五垫高层与所述第六垫高层通过一次构图工艺形成。

优选地，所述显示面板包括公共电极线，所述公共电极线与所述栅线同层，所述公共电极线位于所述栅线的一侧，所述第一衬垫与所述公共电极线对应；

在所述第一衬底基板上对应于所述显示面板的非开口区的区域内形成第一垫高层的步骤包括：

在所述第一衬底基板上对应于所述显示面板的非开口区的区域内形成所述公共电极线，所述公共电极线与所述第一衬垫对应的部分充当所述第一垫高层；

或者，

所述显示面板包括公共电极线，所述公共电极线与所述栅线同层设置，所述公共电极线位于所述栅线的一侧，所述第二衬垫与所述公共电极线对应；

在所述第一衬底基板上对应于所述显示面板的非开口区的区域内形成第四垫高层的步骤包括：

在所述第一衬底基板上对应于所述显示面板的非开口区的区域内形成公共电极线，所述公共电极线与所述第二衬垫对应的部分充当所述第四垫高层。

所述显示面板的制作方法与上述显示面板相对于现有技术所具有的优势相同，在此不再赘述。

本发明的目的还在于提供一种显示装置，用于防止因隔垫物移动至开口区而导致显示面板的显示性能降低。

为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种显示装置，包括如上述技术方案所述的显示面板。

所述显示装置与上述显示面板相对于现有技术所具有的优势相同，在此不再赘述。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1为现有技术一种显示面板的平面图；

图2为本发明实施例提供的一种显示面板的平面图；

图3为图2中a-a剖面图；

图4为本发明实施例提供的另一种显示面板的平面图；

图5为图4中b-b剖面图；

图6为本发明实施例提供的显示面板的制作方法的流程图一；

图7为本发明实施例提供的显示面板的制作方法的流程图二；

图8为本发明实施例提供的显示面板的制作方法的流程图三；

图9为本发明实施例提供的显示面板的制作方法的流程图四；

图10为本发明实施例提供的显示面板的制作方法的流程图五。

附图标记：

1-开口区，2-非开口区，

10-第一衬底基板，11-栅线，

12-公共电极线，13-数据线，

14-薄膜晶体管，141-栅极，

142-栅极绝缘层，143-有源层，

144-源极，145-漏极，

15-钝化层，16-像素电极，

20-隔垫物，30-衬垫结构，

31-第一衬垫，311-第一垫高层，

312-第二垫高层，313-第三垫高层，

32-第二衬垫，321-第四垫高层，

322-第五垫高层，323-第六垫高层，

40-第二衬底基板，41-彩膜层，

42-黑矩阵。

具体实施方式

为了进一步说明本发明实施例提供的显示面板及其制作方法、显示装置，下面结合说明书附图进行详细描述。

请参阅图2、图3或图4、图5，本发明实施例提供的显示面板包括开口区1和围绕开口区1的非开口区2，以及设于非开口区2内的隔垫物20，非开口区2内还设置有衬垫结构30，衬垫结构30位于隔垫物20旁，用于防止隔垫物20移动至开口区1。

举例来说，本发明实施例提供显示面板包括对盒的阵列基板和彩膜基板，阵列基板包括第一衬底基板10、及位于第一衬底基板10上且由多条栅线11和多条数据线13交叉限定出的多个像素区，每个像素区包括开口区1(即显示面板的开口区1)以及围绕开口区1的非开口区2(即显示面板的非开口区2)，且每个像素区对应设置一个像素单元，每个像素单元包括薄膜晶体管14和像素电极16，薄膜晶体管14可以为底栅薄膜晶体管，薄膜晶体管14包括栅极141、栅极绝缘层142、有源层143、源极144和漏极145，薄膜晶体管14，栅极141位于第一衬底基板10上，栅极141与对应的栅线11连接，栅极141和栅线11通过一次构图工艺形成，材料可以选用铜(cu)、铝(al)、钼(mo)、钛(ti)、铬(cr)、钨(w)等单质金属材料，也可以选用上述单质金属中的至少两种构成的合金材料，栅线11、栅极141在垂直于第一衬底基板10的方向上的结构可以为单层结构，也可以为多层结构，当栅线11、栅极141为多层结构时，可以包括由两个钼结构层和一个铝结构层构成的夹心结构(即mo\al\mo结构)，或者，由两个钛结构层和一个铜结构层构成的夹心结构(即ti\cu\ti结构)，或者，由钼钛合金结构层和铜结构层构成的双层结构(即moti\cu结构)；栅极绝缘层142覆盖第一衬底基板10和栅极141，栅极绝缘层142的材料可以采用氮化硅或氧化硅，且栅极绝缘层142可以是单层结构，也可以是多层结构，栅极绝缘层142为多层结构时，栅极绝缘层142可以包括由氧化硅结构层和氮化硅结构层构成的双层结构(即氧化硅\氮化硅结构)；有源层143位于栅极绝缘层142上并与栅极141对应，有源层143的材料可以为非晶硅、单晶硅、多晶硅、或金属氧化物半导体材料，有源层143的材料选用金属氧化物半导体材料时，可以为铟镓锌氧化物(indiumgalliumzincoxide，igzo)、氧化锌(zno)等；源极144和漏极145分别与有源层143接触，源极144、漏极145和数据线13同层设置，且通过一次构图工艺形成，源极144与对应的数据线13连接，源极144、漏极145和数据线13的材料可以选用铜(cu)、铝(al)、钼(mo)、钛(ti)、铬(cr)、钨(w)等单质金属材料，也可以选用上述单质金属中的至少两种构成的合金材料，源极144、漏极145、数据线13在垂直于第一衬底基板10的方向上的结构可以为单层结构，也可以为多层结构，当源极144、漏极145和数据线13为多层结构时，可以包括由两个钼结构层和一个铝结构层构成的夹心结构(即mo\al\mo结构)，或者，由两个钛结构层和一个铜结构层构成的夹心结构(即ti\cu\ti结构)，或者，由钼钛合金结构层和铜结构层构成的双层结构(即moti\cu结构)；像素电极16位于薄膜晶体管14的上方并位于对应的开口区1内，像素电极16与薄膜晶体管14之间形成有钝化层15，钝化层15覆盖栅极绝缘层142、源极144、漏极145、数据线13、有源层143，钝化层15的材料可以采用氮化硅或氧化硅，且钝化层15可以是单层结构，也可以是多层结构，钝化层15为多层结构时，钝化层15可以包括由氧化硅结构层和氮化硅结构层构成的双层结构(即氧化硅\氮化硅结构)；钝化层15与漏极145对应的部位设置有过孔，像素电极16通过对应的过孔与对应的漏极145连接，像素电极16的材料可以选用铟锡氧化物(indiumtinoxide，ito)、铟锌氧化物(indiumzincoxide，izo)或其它透明金属氧化物导电材料。

彩膜基板包括第二衬底基板40、及形成在第二衬底基板40上的黑矩阵42和彩膜层41，黑矩阵42限定出多个开口区1(即显示面板的开口区1，显示面板的非开口区2与黑矩阵42对应)，黑矩阵42与栅线11、数据线13和薄膜晶体管14对应，彩膜层41位于第二衬底基板40上与开口区1对应的区域内。

阵列基板与彩膜基板之间设置有隔垫物20，将阵列基板和彩膜基板对盒时，隔垫物20用于支撑盒体，以保持一定盒厚，其中，隔垫物20可以设置在阵列基板对应于非开口区2(也可以理解为对应于黑矩阵42的区域)内，并位于非开口区2与阵列基板上的栅线11对应的区域内，或者，隔垫物20也可以设置在彩膜基板对应于非开口区2内，并位于非开口区2与阵列基板上的栅线11对应的区域内，也可以理解为隔垫物20设置在彩膜基板的黑矩阵42与栅线11对应的区域内；非开口区2内还设置有衬垫结构30，衬垫结构30可以设置在阵列基板上与非开口区2对应的区域内，也可以设置在彩膜基板上与非开口区2对应的区域内，衬垫结构30位于隔垫物20旁，用于对隔垫物20的位置进行限定，防止隔垫物20移动至显示面板的开口区1内。

由上述分析可知，在本发明实施例所提供的显示面板中，通过设置在显示面板的非开口区2内、隔垫物20旁的衬垫结构30，对隔垫物20的位置进行限定，防止隔垫物20移动至开口区1内，以防止因隔垫物20的位置发生移动而导致隔垫物20周围的液晶的排布发生变化，同时防止因隔垫物20移动至开口区1而造成隔垫物20遮挡经开口区1透过的光，从而可以防止因隔垫物20移动至开口区1而影响液晶的排布以及显示面板的开口率，进而改善显示面板的显示性能。

在上述实施例中，衬垫结构30设置在非开口区2内隔垫物20旁，例如，可以在隔垫物20的一侧设置衬垫结构30，或者，可以在隔垫物20相对的两侧设置衬垫结构30，或者，可以在隔垫物20的四周均设置衬垫结构30。在本发明实施例中，请继续参阅图2、图3或图4、图5，本发明实施例提供的显示面板包括第一衬底基板10及位于第一衬底基板10上对应于非开口区2的区域内的栅线11，隔垫物20位于非开口区2内与栅线11对应的区域内；衬垫结构30位于第一衬底基板10上，衬垫结构30包括位于非开口区2内的第一衬垫31和第二衬垫32，其中，第一衬垫31和第二衬垫32分别位于隔垫物20的两侧，且第一衬垫31和第二衬垫32分别位于栅线11的两侧；第一衬底基板10上与第一衬垫31对应的区域内的各膜层结构的总厚度，大于第一衬底基板10上与栅线11对应的区域内的各膜层结构的总厚度；第一衬底基板10上与第二衬垫32对应的区域内的各膜层结构的总厚度，大于第一衬底基板10上与栅线11对应的区域内的各膜层结构的总厚度。

具体地，请继续参阅图2、图3或图4、图5，隔垫物20位于非开口区2内与栅线11对应的区域内，例如隔垫物20位于图3或图5中栅线11的正上方，衬垫结构30包括第一衬垫31和第二衬垫32，第一衬垫31和第二衬垫32分设于隔垫物20的两侧，且第一衬垫31和第二衬垫32分设于栅线11的两侧，例如，第一衬垫31位于图1或图3中上面的开口区1与隔垫物20之间，第二衬垫32位于图2或图4中下面的开口区1与隔垫物20之间；第一衬底基板10上与第一衬垫31对应的区域内的各膜层结构的总厚度，大于第一衬底基板10上与栅线11对应的区域内的各膜层结构的总厚度；第一衬底基板10上与第二衬垫32对应的区域内的各膜层结构的总厚度，大于第一衬底基板10上与栅线11对应的区域内的各膜层结构的总厚度，例如，请参阅图2和图3，第一衬底基板10上与第一衬垫31对应的区域内的膜层包括第一衬垫31、栅极绝缘层142和钝化层15，第一衬底基板10上与第二衬垫32对应的区域内的膜层包括第二衬垫32、栅极绝缘层142和钝化层15，第一衬底基板10上与栅线11对应区域内的膜层包括栅线11、栅极绝缘层142和钝化层15，第一衬垫31、栅极绝缘层142、钝化层15的总厚度大于栅线11、栅极绝缘层142、钝化层15的总厚度，第二衬垫32、栅极绝缘层142、钝化层15的总厚度大于栅线11、栅极绝缘层142、钝化层15的总厚度，也就是说，如图3或图5所示，第一衬底基板10的顶部与隔垫物20对应的区域形成一个凹槽，隔垫物20位于凹槽内，凹槽的槽壁将隔垫物20的两侧挡住，防止隔垫物20移动至开口区1。

将第一衬垫31和第二衬垫32分设于隔垫物20相对的两侧，且分别位于栅线11的两侧，因而第一衬垫31和第二衬垫32分别位于对应的开口区1与隔垫物20之间，对隔垫物20进行抵挡，以对隔垫物20的位置进行限定，进而防止隔垫物20移动至开口区1。

在上述实施例中，第一衬垫31的设置形式可以为多种，例如，请参阅图2和图3，第一衬垫31可以包括：与栅线11同层的第一垫高层311，和/或，与数据线13同层的第二垫高层312，和/或，与有源层143同层的第三垫高层313。也就是说，第一衬垫31可以包括第一垫高层311、第二垫高层312和第三垫高层313中的至少一个，其中，以图3为例进行说明，第一衬底基板10上与栅线11对应的区域内的膜层包括栅线11、栅极绝缘层142和钝化层15，第一衬底基板10上与第一衬垫31对应的区域内的膜层包括第一衬垫31、栅极绝缘层142和钝化层15，第一衬垫31包括第一垫高层311、第二垫高层312和第三垫高层313中的一个时，第一衬垫31的厚度大于栅线11的厚度，以使第一衬底基板10上与第一衬垫31对应的区域内的各膜层结构的总厚度，大于第一衬底基板10上与栅线11对应的区域内的各膜层结构的总厚度，即，第一衬垫31只包括第一垫高层311时，第一垫高层311的厚度大于栅线11的厚度，第一衬垫31只包括第二垫高层312时，第二垫高层312的厚度大于栅线11的厚度，第一衬垫31只包括第三垫高层313时，第三垫高层313的厚度大于栅线11的厚度。

在上述实施例中，第一垫高层311与栅线11同层，第一垫高层311可以单独形成，也可以与栅线11通过一次构图工艺形成，第一垫高层311优选为与栅线11通过一次构图工艺形成；第二垫高层312与数据线13同层，第二垫高层312可以单独形成，也可以与数据线12通过一次构图工艺形成，第二垫高层312优选为与数据线13通过一次构图工艺形成；第三垫高层313与有源层143同层，第三垫高层313可以单独形成，也可以与有源层143通过一次构图工艺形成，第三垫高层313优选为与有源层143通过一次构图工艺形成。第一垫高层311与栅线11通过一次构图工艺形成，第二垫高层312与数据线13通过一次构图工艺形成，第三垫高层313与有源层143通过一次构图工艺形成，可以减少制作显示面板时的工艺步骤，减少制作显示面板时所需要的掩膜版的数量，从而可以降低制作显示面板的成本，提高制作显示面板的效率。

同理，第二衬垫32的设置形式也可以为多种，例如，请参阅图2和图3，第二衬垫32可以包括：与栅线11同层的第四垫高层321，和/或，与数据线13同层的第五垫高层322，和/或，与有源层143同层的第六垫高层323。也就是说，第二衬垫32可以包括第四垫高层321、第五垫高层322和第六垫高层323中的至少一个，其中，以图3为例进行说明，第一衬底基板10上与栅线11对应的区域内的膜层包括栅线11、栅极绝缘层142和钝化层15，第一衬底基板10上与第二衬垫32对应的区域内的膜层包括第二衬垫32、栅极绝缘层142和钝化层15，第二衬垫32包括第四垫高层321、第五垫高层322和第六垫高层323中的一个时，第二衬垫32的厚度大于栅线11的厚度，以使第一衬底基板10上与第二衬垫32对应的区域内的各膜层结构的总厚度，大于第一衬底基板10上与栅线11对应的区域内的各膜层结构的总厚度，即，第二衬垫32只包括第四垫高层321时，第二垫高层321的厚度大于栅线11的厚度，第二衬垫32只包括第五垫高层322时，第五垫高层322的厚度大于栅线11的厚度，第二衬垫32只包括第六垫高层323时，第六垫高层323的厚度大于栅线11的厚度。

在上述实施例中，第四垫高层321与栅线11同层，第四垫高层321可以单独形成，也可以与栅线11通过一次构图工艺形成，第四垫高层321优选为与栅线11通过一次构图工艺形成，第五垫高层322与数据线13同层，第五垫高层322可以单独形成，也可以与数据线13通过一次构图工艺形成，第五垫高层322优选为与数据线13通过一次构图工艺形成，第六垫高层323与有源层143同层，第六垫高层323可以单独形成，也可以与有源层143通过一次构图工艺形成，第六垫高层323优选为与有源层143通过一次构图工艺形成。第四垫高层321与栅线11通过一次构图工艺形成，第五垫高层322与数据线13通过一次构图工艺形成，第六垫高层323与有源层143通过一次构图工艺形成，可以减少制作显示面板时的工艺步骤，减少制作显示面板时所需要的掩膜版的数量，从而可以降低制作显示面板的成本，提高制作显示面板的效率。

请参阅图4和图5，当显示面板还包括公共电极线12，公共电极线12与栅线11同层，且公共电极线12位于栅线11的一侧；此时，可以将第一衬垫31与公共电极线12对应，公共电极线12与第一衬垫31对应的部分则可以充当第一衬垫31的第一垫高层311；或者，请参阅图4和图5，也可以将第二衬垫32与公共电极线12对应，公共电极线12与第二衬垫32对应的部分则可以充当第二衬垫32的第四垫高层321。也就是说，不用额外设置第一垫高层311或者第四垫高层321，如此设计，可以避免因单独设置第一垫高层311和第四垫高层321时造成需要在非开口区2内留出设置第一衬垫31和第二衬垫32的区域，从而可以减小非开口区2的面积，增加开口率；另外，将公共电极线12与第一衬垫31对应的部分充当第一衬垫31的第一垫高层311，或者，将公共电极线12与第二衬垫32对应的部分充当第二衬垫32的第四垫高层321，且公共电极线12与栅线11同层设置，公共电极线12可以与栅线11通过一次构图工艺形成，可以减少制作显示面板时的工艺步骤，减少制作显示面板时所需要的掩膜版的数量，从而可以降低制作显示面板的成本，提高制作显示面板的效率；再者，将公共电极线12与第一衬垫31对应的部分充当第一衬垫31的第一垫高层311，或者，将公共电极线12与第二衬垫32对应的部分充当第二衬垫32的第四垫高层321，在形成第一垫高层311或第四垫高层321时，所使用的掩膜版可以不用设置较小的区域用于形成第一垫高层311或第四垫高层321，因而可以简化掩膜版的结构，从而可以降低制作显示面板时的成本。

本发明实施例还提供一种显示装置，所述显示装置包括如上述实施例所述的显示面板。

所述显示装置与上述显示面板相对于现有技术所具有的优势相同，在此不再赘述。

请参阅图6，本发明实施例还提供一种显示面板的制作方法，用于制作上述实施例所述的显示面板，所述显示面板的制作方法包括：

步骤s100、在显示面板的非开口区内形成衬垫结构，衬垫结构位于设于非开口区内的隔垫物旁，用于防止隔垫物移动至开口区。

本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于显示面板的制作方法实施例而言，由于其基本相似于显示面板实施例，所以描述得比较简单，相关之处参见显示面板实施例的部分说明即可。

隔垫物位于非开口区内与栅线对应的区域内；衬垫结构包括第一衬垫和第二衬垫时，请参阅图7，步骤s100、在显示面板的非开口区内形成衬垫结构可以包括：

步骤s110、提供一第一衬底基板。

步骤s120、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第一衬垫和第二衬垫；其中，第一衬垫和第二衬垫分别位于隔垫物的两侧，且第一衬垫和第二衬垫分别位于栅线的两侧；第一衬底基板上与第一衬垫对应的区域内的各膜层结构的总厚度，大于第一衬底基板上与栅线对应的区域内的各膜层结构的总厚度；第一衬底基板上与第二衬垫对应的区域内的各膜层结构的总厚度，大于第一衬底基板上与栅线对应的区域内的各膜层结构的总厚度。

第一衬垫可以包括：与栅线同层的第一垫高层，与数据线同层的第二垫高层，和/或，与有源层同层的第二垫高层。当第一衬垫包括第一垫高层时，请参阅图8，步骤s120、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第一衬垫可以包括：

步骤s121、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第一垫高层，第一垫高层与栅线同层。

当第一衬垫包括第二垫高层时，请参阅图8，步骤s120、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第一衬垫可以包括：

步骤s122、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第二垫高层，第二垫高层与数据线同层。

当第一衬垫包括第三垫高层时，请参阅图8，步骤s120、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第一衬垫可以包括：

步骤s123、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第三垫高层，第三垫高层与有源层同层。

当第一衬垫包括第一垫高层和第二垫高层时，请参阅图8，步骤s120、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第一衬垫可以包括：

步骤s121、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第一垫高层，第一垫高层与栅线同层。

步骤s122、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第二垫高层，第二垫高层与数据线同层。

当第一衬垫包括第一垫高层和第三垫高层时，请参阅图8，步骤s120、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第一衬垫可以包括：

步骤s121、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第一垫高层，第一垫高层与栅线同层。

步骤s123、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第三垫高层，第三垫高层与有源层同层。

当第一衬垫包括第二垫高层和第三垫高层时，请参阅图8，步骤s120、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第一衬垫可以包括：

步骤s123、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第三垫高层，第三垫高层与有源层同层。

步骤s122、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第二垫高层，第二垫高层与数据线同层。

当第一衬垫包括第一垫高层、第二垫高层和第三垫高层时，请参阅图8，步骤s120、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第一衬垫可以包括：

步骤s121、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第一垫高层，第一垫高层与栅线同层。

步骤s123、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第三垫高层，第三垫高层与有源层同层。

步骤s122、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第二垫高层，第二垫高层与数据线同层。

在步骤s121中，第一垫高层可以与栅线通过一次构图工艺形成。在步骤s122中，第二垫高层可以与数据线通过一次构图工艺形成。在步骤s123中，第三垫高层可以与有源层通过一次构图工艺形成。如此，可以减少制作显示面板时的工艺步骤，减少制作显示面板时所需要的掩膜版的数量，从而可以降低制作显示面板的成本，提高制作显示面板的效率。

在上述实施例中，当第一衬垫同时包括有第二垫高层和第三垫高层时，即第一衬垫包括第二垫高层和第三垫高层，或者，第一衬垫包括第一垫高层、第二垫高层和第三垫高层时，第二垫高层和第三垫高层可以通过一次构图工艺形成，此时，第二垫高层与数据线同层设置，第三垫高层与有源层同层设置，因而在形成第二垫高层和第三垫高层时，则先形成有源层材料层，然后形成数据线材料层，然后利用掩膜版例如半色调掩膜版，同时形成有源层、数据线、第二垫高层和第三垫高层，以减少制作显示面板时的工艺步骤，减少制作显示面板时所需要的掩膜版的数量，从而可以降低制作显示面板的成本，提高制作显示面板的效率。

第二衬垫可以包括第四垫高层、第五垫高层和/或第五垫高层，当第二衬垫包括第四垫高层时，请参阅图8，步骤s120、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第二衬垫可以包括：

步骤s124、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第四垫高层，第四垫高层与栅线同层。

当第二衬垫包括第五垫高层时，请参阅图8，步骤s120、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第二衬垫可以包括：

步骤s125、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第五垫高层，第五垫高层与数据线同层。

当第二衬垫包括第六垫高层时，请参阅图8，步骤s120、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第二衬垫可以包括：

步骤s126、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第六垫高层，第六垫高层与有源层同层。

当第二衬垫包括第四垫高层和第五垫高层时，请参阅图8，步骤s120、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第二衬垫可以包括：

步骤s124、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第四垫高层，第四垫高层与栅线同层。

步骤s125、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第五垫高层，第五垫高层与数据线同层。

当第二衬垫包括第四垫高层和第六垫高层时，请参阅图8，步骤s120、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第二衬垫可以包括：

步骤s124、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第四垫高层，第四垫高层与栅线同层。

步骤s126、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第六垫高层，第六垫高层与有源层同层。

当第二衬垫包括第五垫高层和第六垫高层时，请参阅图8，步骤s120、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第二衬垫可以包括：

步骤s126、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第六垫高层，第六垫高层与有源层同层。

步骤s125、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第五垫高层，第五垫高层与数据线同层。

当第二衬垫包括第四垫高层、第五垫高层和第六垫高层时，请参阅图8，步骤s120、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第二衬垫可以包括：

步骤s124、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第四垫高层，第四垫高层与栅线同层。

步骤s126、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第六垫高层，第六垫高层与有源层同层。

步骤s125、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第五垫高层，第五垫高层与数据线同层。

在步骤s124中，第四垫高层可以与栅线通过一次构图工艺形成。在步骤s125中，第五垫高层可以与数据线通过一次构图工艺形成。在步骤s126中，第六垫高层可以与有源层通过一次构图工艺形成。如此，可以减少制作显示面板时的工艺步骤，减少制作显示面板时所需要的掩膜版的数量，从而可以降低制作显示面板的成本，提高制作显示面板的效率。

在上述实施例中，当第二衬垫同时包括有第五垫高层和第六垫高层时，即第二衬垫包括第五垫高层和第六垫高层，或者，第二衬垫包括第四垫高层、第五垫高层和第六垫高层时，第五垫高层和第六垫高层可以通过一次构图工艺形成，此时，第五垫高层与数据线同层设置，第六垫高层与有源层同层设置，因而在形成第五垫高层和第六垫高层时，则先形成有源层材料层，然后形成数据线材料层，然后利用掩膜版例如半色调掩膜版，同时形成有源层、数据线、第五垫高层和第六垫高层，以减少制作显示面板时的工艺步骤，减少制作显示面板时所需要的掩膜版的数量，从而可以降低制作显示面板的成本，提高制作显示面板的效率。

当显示面板还包括公共电极线，公共电极线与栅线同层设置，且公共电极线位于栅线的一侧时，可以将第一衬垫与公共电极线对应，此时，请参阅图9，步骤s121、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第一垫高层的步骤包括：

步骤s1211、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成公共电极线，公共电极线与第一衬垫对应的部分充当第一垫高层。

当显示面板还包括公共电极线，公共电极线与栅线同层设置，且公共电极线位于栅线的一侧时，也可以将第二衬垫与公共电极线对应，此时，请参阅图10，步骤s124、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成第四垫高层的步骤包括：

步骤s1241、在第一衬底基板上对应于显示面板的非开口区的区域内形成公共电极线，公共电极线与第二衬垫对应的部分充当第四垫高层。

为了详细描述本发明实施例提供的显示面板的制作方法，下面以图4和图5所示出的显示面板的结构为例进行说明，所述显示面板的制作方法可以包括：

提供一第一衬底基板。

采用溅射工艺(sputter)在第一衬底基板上沉积金属层例如铝(al)层，通过一次构图工艺形成栅极、栅线、公共电极线和第一垫高层，栅极与对应的栅线连接，即先在金属层上涂覆光刻胶，然后利用掩膜版对光刻胶进行曝光，然后对经曝光后的光刻胶进行显影以将金属层中需要刻蚀部位暴露出来，然后利用刻蚀工艺(干刻工艺或湿刻工艺)将金属层中需要刻蚀的部位的金属刻蚀掉，然后去除残留的光刻胶，实现栅极、栅线、公共电极线和第一垫高层的形成，其中，第一垫高层和公共电极线分设于栅线的两侧，第二衬垫与公共电极线对应，公共电极线与第二衬垫对应的部分充当第四垫高层。

采用等离子体增强化学气相沉积法(plasmaenhancedchemicalvapordeposition，pecvd)形成栅极绝缘层，栅极绝缘层覆盖第一衬底基板、栅极、栅线、公共电极线和第一垫高层，栅极绝缘层的材料可以为氮化硅或氧化硅。

在栅极绝缘层上沉积有源层材料层，通过一次构图工艺形成有源层、第三垫高层和第六垫高层，第三垫高层与第一垫高层对应，第六垫高层与公共电极线中对应于第二衬垫的部分对应，例如，有源层的材料为非晶硅时，则可以采用等离子体增强化学气相沉积法(plasmaenhancedchemicalvapordeposition，pecvd)在栅极绝缘层上沉积非晶硅层，然后采用涂覆光刻胶、曝光、显影、刻蚀、去除残余光刻胶的工艺形成有源层、第三垫高层和第六垫高层；或者，有源层的材料为金属氧化物半导体材料例如铟镓锌氧化物(igzo)时，则可以采用溅射工艺在栅极绝缘层上沉积金属氧化物半导体材料层，然后采用涂覆光刻胶、曝光、显影、刻蚀、去除残余光刻胶的工艺形成有源层、第三垫高层和第六垫高层。

采用溅射工艺(sputter)在第一衬底基板上沉积金属层例如铝(al)层，通过一次构图工艺形成源极、漏极、数据线、第二垫高层和第五垫高层，源极和漏极分别与有源层接触，源极与对应的数据线连接，第二垫高层位于第三垫高层上，第五垫高层位于第六垫高层上，即采用涂覆光刻胶、曝光、显影、刻蚀、去除残余光刻胶的工艺形成源极、漏极、数据线、第二垫高层和第五垫高层。

采用等离子体增强化学气相沉积法(plasmaenhancedchemicalvapordeposition，pecvd)形成钝化层，钝化层覆盖栅极绝缘层、有源层、源极、漏极、数据线、第二垫高层和第五垫高层，并采用涂覆光刻胶、曝光、显影、刻蚀、去除残余光刻胶的工艺，在钝化层与漏极对应的部位形成过孔，其中，钝化层的材料可以为氮化硅或氧化硅。

采用溅射工艺在钝化层上沉积透明金属氧化物导电材料层，例如铟锡氧化物材料层，采用涂覆光刻胶、曝光、显影、刻蚀、去除残余光刻胶的工艺形成像素电极，像素电极通过钝化层中的过孔与漏极连接。

在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。