技术总结
本发明公开了一种曝光设备，其包括可旋转镜，所述可旋转镜将平行光束透过设置于其下方的掩膜板的开口部对基板上的光刻胶进行曝光，其中所述可旋转镜旋转以调节所述平行光束入射到所述掩膜板表面的入射方向。该曝光设备结构简单，易于操作，可在不更换掩膜板的条件下，获得线宽不同的光刻胶图案成为现实，极大的提高了掩膜板的使用效率，降低了在获得不同线宽光刻胶图案时因掩膜板的更换而带来的较高的生产成本。本发明还公开了一种曝光方法、彩膜基板的制作方法及彩膜基板。 1
技术研发人员：肖宇;李晓光;汪栋;宋勇志
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
技术研发日：2018.01.03
技术公布日：2018.06.15