本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示用基板母板、显示用基板及显示装置。
背景技术：
现有的显示装置包括显示面板，在制作过程中，先形成显示面板母板，之后，再对显示面板母板进行切割，形成多个显示面板。其中，显示面板母板包括显示用基板母板，每个显示面板包括显示用基板。
然而，在对显示面板母板切割时，显示用基板母板中位于切割位置处(也即显示面板的边缘位置处)的无机膜层受到外力冲击容易产生裂纹(crack)；并且，切割形成多个显示面板后，多个显示用基板位于切割面处的无机膜层暴露在外，当显示用基板受到碰撞、按压或弯折等外力作用时，切割面位置处暴露在外的无机膜层也很容易产生裂纹，且裂纹很容易延伸到显示区域，进而严重影响显示装置的寿命。
技术实现要素：
本发明的实施例提供一种显示用基板母板、显示用基板及显示装置，可解决现有显示用基板母板在制作过程中，因无机膜层位于切割区域的部分容易产生裂纹，且裂纹易延伸，从而影响显示装置寿命的问题。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
第一方面，提供一种显示用基板母板，包括显示区域和所述显示区域外围的周边区域，所述周边区域包括切割区域和非切割区域，还包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的至少一层无机膜层；至少一层所述无机膜层位于所述切割区域的部分具有镂空区域，所述镂空区域填充有有机材料。
优选的，所述显示用基板母板还包括设置在至少一层所述无机膜层背离所述衬底基板一侧的第一有机膜层，所述第一有机膜层部分填充在至少一层所述无机膜层的镂空区域。
优选的，所述无机膜层位于所述非切割区域的部分包括多个条状缝隙，所述条状缝隙中填充有有机材料。
优选的，所述无机膜层位于所述切割区域的部分包括多个条状的镂空区域；或者，所述无机膜层位于所述切割区域的部分全部镂空。
优选的，所述无机膜层为多层，每层所述无机膜层位于所述切割区域的部分均具有镂空区域。
优选的，所述衬底基板包括至少一组柔性基底，所述柔性基底包括一层有机材料层和位于所述有机材料层靠近所述无机膜层一侧的间隔层；至少一组所述柔性基底的间隔层位于所述切割区域的部分具有镂空区域，所述镂空区域填充有有机材料。
进一步优选的，所述衬底基板包括第一组柔性基底和设置于所述第一组柔性基底上的第二组柔性基底；所述第二组柔性基底的有机材料层部分填充在所述第一组柔性基底的间隔层的镂空区域；和/或，所述显示用基板母板还包括设置在所述第二组柔性基底的间隔层远离所述第一组柔性基底一侧的第二有机膜层，所述第二有机膜层部分填充在所述第二组柔性基底的间隔层的镂空区域。
第二方面，提供一种显示用基板，非显示区域包括边缘区域和非边缘区域，还包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的至少一层无机膜层；至少一层所述无机膜层位于所述边缘区域的部分具有无机膜层去除区域，所述无机膜层去除区域填充有有机材料。
优选的，所述显示用基板还包括设置在至少一层所述无机膜层背离所述衬底基板一侧的第一有机膜层，所述第一有机膜层部分填充在至少一层所述无机膜层的无机膜层去除区域。
优选的，所述无机膜层位于所述非边缘区域的部分包括多个条状缝隙，所述条状缝隙中填充有有机材料。
优选的，所述无机膜层位于所述边缘区域的部分包括多个条状的无机膜层去除区域；或者，所述无机膜层位于所述边缘区域的部分全部去除。
优选的，所述无机膜层为多层，每层所述无机膜层位于所述边缘区域的部分均具有无机膜层去除区域。
优选的，所述衬底基板包括至少一组柔性基底，所述柔性基底包括一层有机材料层和位于所述有机材料层靠近所述无机膜层一侧的间隔层；至少一组所述柔性基底的间隔层位于所述边缘区域的部分具有镂空区域，所述镂空区域填充有有机材料。
进一步优选的，所述衬底基板包括第一组柔性基底和设置于所述第一组柔性基底上的第二组柔性基底；所述第二组柔性基底的有机材料层部分填充在所述第一组柔性基底的间隔层的镂空区域；和/或，所述显示用基板还包括设置在第二组柔性基底的间隔层远离所述第一组柔性基底一侧的第二有机膜层，所述第二有机膜层部分填充在所述第二组柔性基底的间隔层的镂空区域。
第三方面，提供一种显示装置，包括第二方面所述的显示用基板。
本发明实施例提供一种显示用基板母板、显示用基板及显示装置，显示用基板母板包括无机膜层，无机膜层位于切割区域的部分具有镂空区域，并在所述镂空区域填充有机材料，由于相较于无机膜层，有机材料具有较高的冲击韧性，因此，一方面，在对所述显示用基板母板进行切割时，不易产生裂纹，降低了切割区域产生裂纹的可能性；另一方面，在切割区域对显示基板母板进行切割形成显示用基板，由于显示用基板的边缘为填充有有机材料的切割区域，有机材料对显示用基板的边缘具有保护作用，可避免显示用基板的边缘在碰撞、按压、弯折等外力作用时产生裂纹。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术提供的一种显示用基板母板的示意图；
图2为本发明实施例提供的一种显示用基板母板的结构示意图；
图3为图2的a-a'向的剖视示意图一；
图4为本发明实施例提供的一种显示用基板母板的示意图一；
图5为本发明实施例提供的一种oled显示用基板母板的示意图；
图6为图2的a-a'向的剖视示意图二；
图7为图2的a-a'向的剖视示意图三；
图8为图2的a-a'向的剖视示意图四；
图9为本发明实施例提供的一种显示用基板母板的示意图二；
图10为本发明实施例提供的一种显示用基板的示意图；
图11为图10的b-b'向的剖视示意图一；
图12为本发明实施例提供的一种显示用基板的示意图一；
图13为图10的b-b'向的剖视示意图二；
图14为图10的b-b'向的剖视示意图三；
图15为图10的b-b'向的剖视示意图四；
图16为本发明实施例提供的一种显示用基板的示意图二。
附图标记：
10-衬底基板；11-无机膜层；111-缓冲层；112-栅绝缘层；113-层间绝缘层；20-衬底基板；201-第一组柔性基底；202-第二组柔性基底；2011-有机材料层；2012-间隔层；21-无机膜层；211-缓冲层；212-栅绝缘层；213-层间绝缘层；23-第一有机膜层；231-平坦层；24-第二有机膜层；31-显示区域；32-周边区域；33-非显示区域；321-非切割区域；322-切割区域；331-非边缘区域；332-边缘区域。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
相关技术中，显示面板母板包括显示用基板母板，为了满足各种功能要求，如图1所示，显示用基板母板除了包括设置在衬底基板10上的有机膜层以外，还包括设置在衬底基板10上的无机膜层11，无机膜层11例如可以是缓冲层(buffer)111、栅绝缘层(gateinsulator，简称gi)112、层间绝缘层(ild)113等，而无机膜层11位于切割区域的部分容易产生裂纹。
基于此，本发明实施例提供一种显示用基板母板，如图2和图3所示，包括显示区域31和显示区域31外围的周边区域32，所述周边区域32包括切割区域322和非切割区域321，还包括衬底基板20以及设置在衬底基板20上的至少一层无机膜层21；至少一层无机膜层21位于切割区域322的部分具有镂空区域，镂空区域填充有有机材料22。
其中，在对显示用基板母板进行切割时，是在填充有有机材料22的镂空区域进行切割。基于此，整个切割区域322均为镂空区域，并在整个镂空区域填充有机材料22；或者，切割区域322中的一部分为镂空区域，并在镂空区域填充有机材料22。
优选的，整个切割区域322均为镂空区域，并在整个镂空区域填充有机材料22。
需要说明的是，第一，切割区域322，是指：对显示用基板母板进行切割以形成显示用基板时，显示用基板母板上可进行切割的区域。非切割区域321为周边区域32中除切割区域322以外的区域。
第二，切割区域322和非切割区域321均位于周边区域32，切割区域322位于非切割区域321的外围，非切割区域321例如可以包括显示用基板母板上的布线区。
第三，无机膜层21可以仅位于周边区域32，也可以位于周边区域32和显示区域31。
第四，不对无机膜层21的材料和所述镂空区域填充的有机材料22的具体材料进行限定，只要所述有机材料22的冲击韧性大于无机膜层21的材料的冲击韧性即可。例如无机膜层21的材料可以是sinx或siox中的至少一种，有机材料22可以是聚酰亚胺(polyimide，简称pi)。
第五，不对所述显示用基板母板的具体结构进行限定，只要切割显示用基板母板后，得到的显示用基板可以用作显示的基板即可。例如，所述显示用基板母板可以是用于形成有机发光二极管(organiclight-emittingdiode，简称oled)的显示用基板母板，也可以是用于形成液晶显示器(liquidcrystaldisplay，简称lcd)的显示用基板母板。
当所述显示用基板母板是用于形成oled的显示用基板母板时，无机膜层21可以是缓冲层、栅绝缘层、层间绝缘层等中的至少一层。此外，oled显示用基板母板还可以包括薄膜晶体管(thinfilmtransistor，tft)、阳极、阴极、以及位于阳极和阴极之间的发光功能层。其中，tft包括栅极、栅绝缘层、有源层、源极和漏极，tft的漏极与阳极电连接。
当所述显示用基板母板是用于形成lcd的显示用基板母板时，无机膜层21可以是缓冲层、栅绝缘层等中的至少一层。此外，lcd显示用基板母板还可以包括tft、像素电极，进一步的，也可以包括公共电极。其中，tft包括栅极、栅绝缘层、有源层、源极和漏极，tft的漏极与像素电极电连接。
此处，缓冲层、栅绝缘层、层间绝缘层的材料可以是sinx或siox。
本发明实施例提供一种显示用基板母板，显示用基板母板包括无机膜层21，无机膜层21位于切割区域322的部分具有镂空区域，并在所述镂空区域填充有机材料22，由于相较于无机膜层21，有机材料22具有较高的冲击韧性，因此，一方面，在对所述显示用基板母板进行切割时，不易产生裂纹，降低了切割区域322产生裂纹的可能性；另一方面，在切割区域322对显示基板母板进行切割形成显示用基板，由于显示用基板的边缘为填充有有机材料22的切割区域322，有机材料22对显示用基板的边缘具有保护作用，可避免显示用基板的边缘在碰撞、按压、弯折等外力作用时产生裂纹，并起到防止裂纹延伸的作用。
优选的，如图4所示，所述显示用基板母板还包括设置在至少一层所述无机膜层21背离所述衬底基板20一侧的第一有机膜层23，第一有机膜层23部分填充在至少一层无机膜层21的镂空区域。
其中，第一有机膜层23还可覆盖部分无机膜层21，以对该部分无机膜层21起到保护作用。
此处，如图5所示，当所述显示用基板母板是oled显示用基板母板时，在周边区域32，oled显示用基板母板包括依次设置在衬底基板20上的缓冲层211、栅绝缘层212、以及层间绝缘层213，还包括设置于层间绝缘层213远离衬底基板20一侧的平坦层(pln)231。其中，缓冲层211、栅绝缘层212、以及层间绝缘层213的材料可以是sinx或siox中的至少一种，因此，缓冲层211、栅绝缘层212、以及层间绝缘层213中的至少一个即为本发明的无机膜层21；平坦层231的材料为有机材料，因此，平坦层231即为本发明的第一有机膜层23。
需要说明的是，第一，不对第一有机膜层23的材料进行限定，只要第一有机膜层23的材料的冲击韧性大于无机膜层21的材料的冲击韧性即可。例如第一有机膜层23的材料可以是pi。
第二，第一有机膜层23部分填充在至少一层无机膜层21的镂空区域，是指：第一有机膜层23中位于至少一层无机膜层21的镂空区域的部分，作为有机材料22填充在至少一层无机膜层21的镂空区域中。
本发明实施例中，通过使设置于至少一层无机膜层21远离衬底基板20一侧的第一有机膜层23，部分填充在至少一层无机膜层21的镂空区域，可无需单独在无机膜层21的镂空区域填充有机材料22，简化了显示用基板母板的制作工序。
优选的，如图6所示，无机膜层21位于非切割区域321的部分包括多个条状缝隙，条状缝隙中填充有有机材料22。
本发明实施例通过在非切割区域321的多个条状缝隙中填充有机材料22，由于有机材料22的冲击韧性较高，可以防止裂纹扩展；在此基础上，由于有机材料22在温度较高时容易碳化，因此，无机膜层21在非切割区域321保留条状图案，可降低切割时非切割区域321的温度，防止有机材料碳化。
优选的，如图7所示，无机膜层21位于切割区域322的部分包括多个条状的镂空区域；或者，如图3所示，无机膜层21位于切割区域322的部分全部镂空。
本发明实施例中，无机膜层21位于切割区域322的部分包括条状的镂空区域，用来在条状镂空区域填充有机材料22，以避免对所述显示用基板母板进行切割时产生裂纹，并对切割后形成的显示用基板起到保护作用；在此基础上，由于有机材料22在温度较高时容易碳化，因此，无机膜层21在切割区域322仍保留条状图案，可降低切割时切割区域322的温度，防止有机材料22碳化。
优选的，参考图5所示，无机膜层21为多层，每层无机膜层21位于切割区域322的部分均具有镂空区域。
需要说明的是，在无机膜层21为多层的情况下，多层无机膜层21之间可以是两两直接接触的；也可以是两两之间间隔设置的；也可以是既有两两直接接触的，也有两两之间间隔设置的，对此不进行限定，图5仅示出多层无机膜层21两两直接接触的情况。
进一步的，两两直接接触的至少两个无机膜层21的镂空区域在衬底基板20上的正投影完全重叠，这样一来，可通过同一次构图工艺形成至少两个无机膜层21的镂空区域。
本发明实施例中，由于多层无机膜层21中的每层无机膜层21位于切割区域322的部分都有镂空区域，且镂空区域填充有有机材料22，因而可以防止裂纹在任一无机膜层21中产生。
优选的，如图8所示，衬底基板20包括至少一组柔性基底，柔性基底包括一层有机材料层2011和位于有机材料层2011靠近所述无机膜层21一侧的间隔层(barrier)2012；至少一组柔性基底的间隔层2012位于切割区域322的部分具有镂空区域，镂空区域填充有有机材料22。
其中，有机材料层2011的材料可以pi，间隔层2012的材料可以是siox。
本发明实施例中，当衬底基板20为柔性衬底基板时，柔性衬底基板通常包括至少一组柔性基底，由于每组柔性基底中均包括一层间隔层2012，间隔层2012的材料为无机材料，因此，可以使每组柔性基底的间隔层2012位于切割区域322的部分具有镂空区域，并在镂空区域填充有机材料22，可以防止裂纹在衬底基板20中产生。
进一步优选的，如图9所示，衬底基板20包括第一组柔性基底201和设置于第一组柔性基底201上的第二组柔性基底202；第二组柔性基底202的有机材料层2011部分填充在第一组柔性基底201的间隔层2012的镂空区域；和/或，显示用基板母板还包括设置在第二组柔性基底202的间隔层2012远离第一组柔性基底201一侧的第二有机膜层24，第二有机膜层24部分填充在到第二组柔性基底202的间隔层2012的镂空区域。
其中，第二有机膜层24的材料例如可以是pi，其中，第二有机膜层24的材料可以与第二组柔性基底202的有机材料层2011的材料相同，也可以不相同。
需要说明的是，第一，当设置在衬底基板20上的无机膜层21与衬底基板20直接接触时，可以通过一次工艺，对无机膜层21位于切割区域322的镂空区域、及第二组柔性基底202的间隔层2012位于切割区域322的镂空区域填充有机材料22。
在此基础上，若至少一层无机膜层21与衬底基板20直接接触，则第二有机膜层24还可以设置在至少一层无机膜层21远离衬底基板20一侧，其不但可以填充第二组柔性基底202的间隔层2012的镂空区域，还可以填充至少一层无机膜层21的镂空区域，即，第二有机膜层24还可用作第一有机膜层23。
第二，第二组柔性基底202的有机材料层2011部分填充在第一组柔性基底201的间隔层2012的镂空区域，是指：第二组柔性基底202的有机材料层2011中位于第一组柔性基底201的间隔层2012的镂空区域的部分，作为有机材料22填充在第一组柔性基底201的间隔层2012的镂空区域；第二有机膜层24部分填充在第二组柔性基底202的间隔层2012的镂空区域，是指：第二有机膜层24中位于第二组柔性基底202的间隔层2012的镂空区域的部分，作为有机材料22填充在第二组柔性基底202的间隔层2012的镂空区域。
本发明实施例中，当衬底基板20包括第一组柔性基底201和第二组柔性基底202时，可使第二组柔性基底202的有机材料层2011部分填充在第一组柔性基底201的间隔层2012的镂空区域，这样一来，可简化制备工艺。
本发明实施例提供一种显示用基板，如图10和11所示，非显示区域33包括边缘区域332和非边缘区域331，还包括衬底基板20以及设置在衬底基板20上的至少一层无机膜层21；至少一层无机膜层21位于边缘区域332的部分具有无机膜层去除区域，无机膜层去除区域填充有有机材料22。
此处，如图10所示，显示用基板还包括显示区域31，非显示区域33位于显示区域31的外围，其中，非显示区域33是指：对显示用基板母板进行切割以形成显示用基板后，周边区域32中位于所述显示用基板的部分。
需要说明的是，第一，边缘区域332，是指：对显示用基板母板进行切割以形成显示用基板后，切割区域322中位于所述显示用基板的部分。非边缘区域331为非显示区域33中除边缘区域332以外的区域。
无机膜层去除区域为：对显示用基板母板进行切割以形成显示用基板后，镂空区域中位于边缘区域332的部分。
在此基础上，整个边缘区域332可以均为无机膜层去除区域；或者，边缘区域332中远离显示区域31的部分为无机膜层去除区域。
第二，边缘区域332和非边缘区域331均位于非显示区域33，边缘区域332位于非边缘区域331的外围，非边缘区域331例如可以包括显示用基板上的布线区。
第三，无机膜层21可以仅位于非显示区域33，也可以位于非显示区域33和显示区域31。
第四，不对无机膜层21的材料和所述无机膜层去除区域填充的有机材料22的具体材料进行限定，只要所述有机材料22的冲击韧性大于无机膜层21的材料的冲击韧性即可。例如无机膜层21的材料可以是sinx或siox中的至少一种，有机材料22可以是pi。
第五，不对所述显示用基板的具体结构进行限定，只要切割显示用基板母板后，得到的显示用基板可以用作显示的基板即可。例如，所述显示用基板可以是oled显示用基板，也可以是lcd显示用基板。
当所述显示用基板是oled显示用基板时，无机膜层21可以是缓冲层211、栅绝缘层212、层间绝缘层213等中的至少一层。此外，oled显示用基板还可以包括薄膜晶体管tft、阳极、阴极、以及位于阳极和阴极之间的发光功能层。其中，tft包括栅极、栅绝缘层212、有源层、源极和漏极，tft的漏极与阳极电连接。
当所述显示用基板是lcd显示用基板时，无机膜层21可以是缓冲层、栅绝缘层等中的至少一层。此外，lcd显示用基板还可以包括tft、像素电极，进一步的，也可以包括公共电极。其中，tft包括栅极、栅绝缘层、有源层、源极和漏极，tft的漏极与像素电极电连接。
此处，缓冲层、栅绝缘层、层间绝缘层的材料可以是sinx或siox。
本发明实施例提供一种显示用基板，显示用基板包括无机膜层21，无机膜层21位于边缘区域332的部分具有无机膜层去除区域，并在所述无机膜层去除区域填充有机材料22，由于相较于无机膜层21，有机材料22具有较高的冲击韧性，因此，有机材料22对显示用基板的边缘区域332具有保护作用，可避免显示用基板的边缘在碰撞、按压、弯折等外力作用时产生裂纹，并起到防止裂纹延伸的作用。
优选的，如图12所示，显示用基板还包括设置在至少一层无机膜层21背离所述衬底基板20一侧的第一有机膜层23，第一有机膜层23部分填充在至少一层无机膜层21的无机膜层去除区域。
其中，第一有机膜层23还可覆盖部分无机膜层21，以对该部分无机膜层21起到保护作用。
此处，当所述显示用基板是oled显示用基板时，在非显示区域33，oled显示用基板包括依次设置在衬底基板20上的缓冲层211、栅绝缘层212、以及层间绝缘层213，还包括设置于层间绝缘层213远离衬底基板20一侧的平坦层231。其中，缓冲层211、栅绝缘层212、以及层间绝缘层213的材料可以是sinx或siox中的至少一种，因此，缓冲层211、栅绝缘层212、以及层间绝缘层213中的至少一个即为本发明的无机膜层21；平坦层231的材料为有机材料，因此，平坦层231即为本发明的第一有机膜层23。
需要说明的是，第一，不对第一有机膜层23的材料进行限定，只要第一有机膜层23的材料的冲击韧性大于无机膜层21的材料的冲击韧性即可。例如第一有机膜层23的材料可以是pi。
第二，第一有机膜层23部分填充在至少一层无机膜层21的无机膜层去除区域，是指：第一有机膜层23中位于至少一层无机膜层21的无机膜层去除区域的部分，作为有机材料22填充在至少一层无机膜层21的无机膜层去除区域中。
本发明实施例中，因此，通过使设置于至少一层无机膜层21远离衬底基板20一侧的第一有机膜层23，部分填充在至少一层无机膜层21的无机膜层去除区域，可无需单独在无机膜层21的无机膜层去除区域填充有机材料22，简化了显示用基板的制作工序。
优选的，如图13所示，无机膜层21位于非边缘区域331的部分包括多个条状缝隙，所述条状缝隙中填充有有机材料22。
本发明实施例通过在非边缘区域331的多个条状缝隙中填充有机材料22，由于有机材料22的冲击韧性较高，可以防止裂纹扩展；在此基础上，由于有机材料22在温度较高时容易碳化，因此，无机膜层21在非边缘区域331保留条状图案，可降低切割时非边缘区域331的温度，防止有机材料碳化。
优选的，如图14所示，无机膜层21位于边缘区域332的部分包括多个条状的无机膜层去除区域；或者，无机膜层21位于边缘区域332的部分全部去除。
本发明实施例中，无机膜层21位于边缘区域332的部分包括条状的无机膜层去除区域，用来在条状的无机膜层去除区域填充有机材料22，以对切割后形成的显示用基板起到保护作用；在此基础上，由于有机材料22在温度较高时容易碳化，因此，无机膜层21在边缘区域332仍保留条状图案，可降低切割时边缘区域332的温度，防止有机材料碳化。
优选的，无机膜层21为多层，每层无机膜层21位于边缘区域332的部分均具有无机膜层去除区域。
需要说明的是，在无机膜层21为多层的情况下，多层无机膜层21之间可以是两两直接接触的；也可以是两两之间间隔设置的；也可以是既有两两直接接触的，也有两两之间间隔设置的，对此不进行限定。
进一步的，两两直接接触的至少两个无机膜层21的无机膜层去除区域在衬底基板20上的正投影完全重叠，这样一来，可通过同一次构图工艺形成至少两个无机膜层21的无机膜层去除区域。
本发明实施例中，由于多层无机膜层21中的每层无机膜层21位于边缘区域332的部分都有无机膜层去除区域，且无机膜层去除区域填充有有机材料22，因而可以防止裂纹在任一无机膜层21中产生。
优选的，如图15所示，衬底基板20包括至少一组柔性基底，柔性基底包括一层有机材料层2011和位于有机材料层2011靠近无机膜层21一侧的间隔层2012；至少一组柔性基底的间隔层2012位于边缘区域332的部分具有镂空区域，所述镂空区域填充有有机材料22。
其中，有机材料层2011的材料可以pi，间隔层2012的材料可以是siox。
本发明实施例中，当衬底基板20为柔性衬底基板时，柔性衬底基板通常包括至少一组柔性基底，由于每组柔性基底中均包括一层间隔层2012，间隔层2012的材料为无机材料，因此，可以使每组柔性基底的间隔层2012位于边缘区域332的部分具有镂空区域，并在镂空区域填充有机材料22，可以防止裂纹在衬底基板20中产生。
进一步优选的，如图16所示，衬底基板20包括第一组柔性基底201和设置于第一组柔性基底201上的第二组柔性基底202；第二组柔性基底202的有机材料层2011部分填充在第一组柔性基底201的间隔层2012的镂空区域；和/或，显示用基板还包括设置在第二组柔性基底202的间隔层2012远离第一组柔性基底201一侧的第二有机膜层24，第二有机膜层24部分填充在第二组柔性基底202的间隔层2012的镂空区域。
其中，第二有机膜层24的材料例如可以是pi，其中，第二有机膜层24的材料可以与第二组柔性基底202的有机材料2011的材料相同，也可以不相同。
需要说明的是，第一，当设置在衬底基板20上的无机膜层21与衬底基板20直接接触时，可以通过一次工艺，对无机膜层21位于边缘区域332的无机膜层去除区域、及第二组柔性基底202的间隔层2012位于边缘区域332的镂空区域填充有机材料22。
在此基础上，若至少一层无机膜层21与衬底基板20直接接触，则第二有机膜层24还可以设置在至少一层无机膜层21远离衬底基板20一侧，其不但可以填充第二组柔性基底202的间隔层2012的镂空区域，还可以填充至少一层无机膜层21的无机膜层去除区域，即，第二有机膜层24还可用作第一有机膜层23。
第二，第二组柔性基底202的有机材料层2011部分填充在第一组柔性基底201的间隔层2012的镂空区域，是指：第二组柔性基底202的有机材料层2011中位于第一组柔性基底201的间隔层2012的镂空区域的部分，作为有机材料22填充在第一组柔性基底201的间隔层2012的镂空区域；第二有机膜层24部分填充在第二组柔性基底202的间隔层2012的镂空区域，是指：第二有机膜层24中位于第二组柔性基底202的间隔层2012的镂空区域的部分，作为有机材料22填充在第二组柔性基底202的间隔层2012的镂空区域。
本发明实施例中，当衬底基板20包括第一组柔性基底201和第二组柔性基底202时，可使第二组柔性基底202的有机材料层2011部分填充在第一组柔性基底201的间隔层2012的镂空区域，这样一来，可简化制备工艺。
本发明实施例提供一种显示装置，包括前述任一实施例所述的显示用基板。
其中，所述显示装置可以是显示面板，也可以是包括显示面板的显示器。
本发明实施例提供一种显示装置，具有与前述显示用基板相同的效果，在此不再赘述。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。