一种提高DMD无掩膜光刻图像精度的方法与流程

本发明涉及一种dmd无掩膜光刻图像问题，尤其涉及一种提高dmd无掩膜光刻图像精度的方法；属于半导体及pcb的生产设备领域。

背景技术：

传统的投影式光刻中，曝光工艺所使用的光掩膜的制作加工时一道比较繁琐复杂的工序，对掩膜和光刻工艺也有较高的要求，加工成本相对昂贵，且对于提高dmd无掩膜光刻精度的方法而言就是使用更高分辨率、更高精度的dmd芯片，或者使用多个dmd进行拼接，这些方法也都需要增加硬件成本。

技术实现要素：

(一)要解决的技术问题

为解决上述问题，本发明提出了一种提高dmd无掩膜光刻图像精度的方法。

(二)技术方案

本发明的提高dmd无掩膜光刻图像精度的方法，包括利用dmd直接产生图像，将计算机的图像数据曝光到晶圆或pcb板上；镀膜镜片通过控制镜片沿x轴或y轴高速旋转一定角度，使dmd反射光通过该倾斜的镜片后折射光平移半个像素，通过四个位置的平移叠加，单个像素演变为4个像数。

进一步地，还包括基于dmd的无掩膜光刻技术采用紫外光作为初始光源。

进一步地，还包括镀膜镜片绕x轴或y轴转动角度为θ，玻璃的厚度为t，镜片折射率为n，由此可计算出dmd反射光通过该倾斜的镜片后折射光平移距离δy值为

进一步地，还包括镀膜镜片材料固定，折射率始终保持不变，折射光的移动距离δy就由偏转角度θ和镜片的厚度t决定，通过选择合适旋转角度θ和镜片厚度t，就能确保折射光平移距离δy是dmd最小微镜尺寸的一半。

进一步地，还包括像素点通过三个方向的平移半个像素后，单个像素点变成a、b、c和d四个像素点，空间上分辨率提高了4倍，图像精度提高了4倍。

(三)有益效果

本发明与现有技术相比较，其具有以下有益效果：本发明的提高dmd无掩膜光刻图像精度的方法，在dmd物理分辨率不变的情况下，只通过光学镜头能够提高图像精度，因而具有性价比高、体积小的特点，其具有很强的技术延伸性和工艺兼容性，满足灵活、高效、低成本的要求，更容易在工业中得到应用，具有广泛的市场前景。

附图说明

图1是本发明的结构分布原理示意图。

图2是本发明的dmd镜片折射光平移结构原理示意图。

图3是本发明的4倍像素点平移叠加结构原理示意图。

具体实施方式

如附图所示的一种提高dmd无掩膜光刻图像精度的方法，其特征在于：包括利用dmd直接产生图像，将计算机的图像数据曝光到晶圆或pcb板上；镀膜镜片通过控制镜片沿x轴或y轴高速旋转一定角度，使dmd反射光通过该倾斜的镜片后折射光平移半个像素，通过四个位置的平移叠加，单个像素演变为4个像数；

其中，还包括基于dmd的无掩膜光刻技术采用紫外光作为初始光源；还包括镀膜镜片绕x轴或y轴转动角度为θ，玻璃的厚度为t，镜片折射率为n，由此可计算出dmd反射光通过该倾斜的镜片后折射光平移距离δy值为δ还包括镀膜镜片材料固定，折射率始终保持不变，折射光的移动距离δy就由偏转角度θ和镜片的厚度t决定，通过选择合适旋转角度θ和镜片厚度t，就能确保折射光平移距离δy是dmd最小微镜尺寸的一半；还包括像素点通过三个方向的平移半个像素后，单个像素点变成a、b、c和d四个像素点，空间上分辨率提高了4倍，图像精度提高了4倍。

本发明的提高dmd无掩膜光刻图像精度的方法，在dmd物理分辨率不变的情况下，只通过光学镜头能够提高图像精度，因而具有性价比高、体积小的特点，其具有很强的技术延伸性和工艺兼容性，满足灵活、高效、低成本的要求，更容易在工业中得到应用，具有广泛的市场前景。

上面所述的实施例仅仅是对本发明的优选实施方式进行描述，并非对本发明的构思和范围进行限定。在不脱离本发明设计构思的前提下，本领域普通人员对本发明的技术方案做出的各种变型和改进，均应落入到本发明的保护范围，本发明请求保护的技术内容，已经全部记载在权利要求书中。

技术特征：

技术总结
本发明公开了一种提高DMD无掩膜光刻图像精度的方法，其包括：利用DMD直接产生图像，将计算机的图像数据曝光到晶圆或PCB板上；镀膜镜片通过控制镜片沿X轴或Y轴高速旋转一定角度，使DMD反射光通过该倾斜的镜片后折射光平移半个像素，通过四个位置的平移叠加，单个像素演变为4个像数；本发明提高DMD无掩膜光刻图像精度的方法在DMD物理分辨率不变的情况下，只通过光学镜头能够提高图像精度，因而具有性价比高、体积小的特点，其具有很强的技术延伸性和工艺兼容性，满足灵活、高效、低成本的要求，更容易在工业中得到应用，具有广泛的市场前景。

技术研发人员：张琼;谢俊立;叶慧群;金林枫
受保护的技术使用者：金华飞光科技有限公司
技术研发日：2018.12.06
技术公布日：2019.03.19