彩膜基板及显示装置的制作方法

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种彩膜基板及显示装置。

背景技术：

microled技术，即led微缩化和矩阵化技术。指的是在一个芯片上集成的高密度微小尺寸的led阵列，如led显示屏每一个像素可定址、单独驱动点亮，可看成是户外led显示屏的微缩版，将像素点距离从毫米级降低至微米级。

而microled显示，则是底层用正常的cmos集成电路制造工艺制成led显示驱动电路，然后再用mocvd机在集成电路上制作led阵列，从而实现了微型显示屏，也就是所说的led显示屏的缩小版。

目前microled彩色显示主要还是通过r、g、b三种颜色混光实现，既r、g、b彩色滤光片下分别放置一颗microled灯，通过单颗灯的控制实现灰阶及彩色显示。但是由于microled小的特点造成量产困难。

技术实现要素：

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种彩膜基板及显示装置。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种彩膜基板，包括：第一基底，位于所述第一基底上彩色滤光层；其中，所述彩色滤光层包括多个彩色滤光片，以及位于任意两相邻所述彩色滤光片之间的黑矩阵；其特征在于，所述彩膜基板还包括：位于所述第一基底上的第一电极层、第二电极层，以及遮光粒子；其中，

所述第一电极层包括多个第一电极，且所述第一电极与所述彩色滤光片一一设置；

所述遮光粒子，用于在所述第一电极和所述第二电极层的作用下移动，以控制所述彩色滤光片的透光面积。

优选的是，所述彩膜基板划分为多个像素区；每个所述像素区中均包括多个不同颜色的所述彩色滤光片，且多个不同颜色的所述彩色滤光片呈环形排布。

进一步优选的是，所述第一电极层设置在所述彩色滤光层靠近所述第一基底的一侧；所述第二电极层设置在所述彩色滤光层远离所述第一基底的一侧；其中，

所述第一电极设置在像素区的周边区域；

所述第二电极层包括多个第二电极，所述第二电极与所述彩膜环一一对应设置，且位于所述像素区的中间区域。

进一步优选的是，每个所述像素区中的多个不同颜色的所述彩色滤光片包括红色滤光片、绿色滤光片、蓝色滤光片。

优选的是，所述遮光粒子位于所述第一电极层与所述彩色滤光片所在层之间；或者，

所述遮光粒子位于所述第二电极层与所述彩色滤光片所在层之间。

优选的是，所述遮光粒子的材料包括：电离处理过的金属原子。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括上述的彩膜基板。

优选的是，所述显示装置还包括与所述彩膜基板相对设置的阵列基板。

优选的是，所述彩膜基板划分为多个像素区；每个所述像素区中均包括多个不同颜色的所述彩色滤光片；所述阵列基板包括第二基底，以及设置在第二基底上的多个发光器件；其中，所述发光器件与所述像素区一一对应设置。

优选的是，所述发光器件包括microled或者miniled。

附图说明

图1为本发明的实施例2的彩膜基板的结构示意图；

图2为图1的一个像素区的放大图；

图3为本发明的实施例2的彩膜基板实现红光+蓝光混色的结构示意图；

图4为本发明的实施例2的彩膜基板实现彩色显示的结构示意图；

图5为本发明的实施例2的显示装置的结构示意图。

其中附图标记为：10、第一基底；20、第二基底；1、第一电极；2、第二电极；3、遮光粒子；21、发光器件；a、像素区。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。

实施例1：

本实施例提供一种彩膜基板，包括：第一基底，位于第一基底上彩色滤光层；其中，彩色滤光层包括多个彩色滤光片，以及位于任意两相邻彩色滤光片之间的黑矩阵；在本实施例的彩膜基板还包括：位于第一基底上的第一电极层、第二电极层，以及遮光粒子；其中，第一电极层包括多个第一电极，且第一电极与彩色滤光片一一设置；遮光粒子用于在第一电极和第二电极层之间所产生的电场的控制下移动，以控制彩色滤光片的透光面积。

由于本实施例的彩膜基板中增加了遮光粒子，以及控制遮光粒子移动的第一电极层和第二电极层，这样一来，将本实施例中的彩膜基板应用至显示装置中，可以将阵列基板中的一个发光器件对应彩膜基板中的一个像素区(与对应像素单元)中多个不同颜色滤光片，此时只需控制与每个彩色滤光片对应的第一电极与第二电极层所形成的电场的强弱(或者电荷电量的大小)，从而控制遮光粒子的移动数量和移动位置，进而控制彩色滤光片的透光面积，以实现一个发光器件对不同颜色的光线的控制，实现不同灰阶的控制。本实施例中的彩膜基板可以大大提高阵列基板中的发光器件的利用率。

为了更清楚的理解本实施例中的彩膜基板结构，在实施例2中以彩色滤光层包括红色滤光片、绿色滤光片、蓝色滤光片为例进行说明。

实施例2：

如图1和2所示，本实施例提供一种彩膜基板和显示装置，其中，彩膜基板划分为多个像素区a；该彩膜基板包括第一基底10，位于第一基底10上彩色滤光层；该彩色滤光层包括红、绿、蓝三种不同颜色的彩色滤光片(即：红色滤光片r、绿色滤光片g、蓝色滤光片b)，以及位于任意两相邻彩色滤光片之间的黑矩阵bm；其中，每个像素区a中均包括三个彩色滤光片，分别为红色滤光片r、绿色滤光片g、蓝色滤光片b，且这三个彩色滤光片呈环形排布，也即每个彩色滤光片类似扇形。特别的是，在本实施例的彩膜基板中在第一基底10与彩色滤光层之间设置有第一电极层，该第一电极层包括多个第一电极1，每个第一电极1位于像素区a的周边区域，且与彩色滤光片一一对应设置，也即，每个像素区a中设置三个第一电极1，三个第一电极1呈环形排布；在彩色滤光层的背离第一基底10的一侧设置有第二电极层，该第二电极层包括多个第二电极2，每个电极位于像素区a的中间区域，且与像素区a一一对应设置，也即每个像素区a中设置一个第二电极2；在每个像素区a中还设置有遮光粒子3；遮光粒子3在第一电极1和第二电极2之间未形成电场时，遮光粒子3位于彩色滤光片与第一电极1所限定的区域内，在第一电极1和第二电极2之间形成电场后，遮光粒子3在电场的带动下可以向像素区a的中间区域移动；该遮光粒子3可以设置在第一电极层和第二电极层之间的任何膜层，在本实施例中以遮光粒子3位于彩色滤光层与第二电极层之间为例。

如图5所示，本实施例中的显示装置包括上述的彩膜基板，以及与该彩膜基板相对设置的阵列基板；其中，阵列基板包括第二基底20，以及设置在第二基底20上的发光器件21，且发光器件21与像素区a一一对应设置，也即一个发光器件21对应一个像素区a中的红、绿、蓝三种不同颜色的彩色滤光片。

在此需要说明的是，虽然图5示意的是一个发光器件21对应一个红色滤光片r和一个绿色滤光片g，这只是截面图的角度问题，实际上每一发光器件对应像素区a中的红、绿、蓝三种不同颜色的彩色滤光片。

以显示装置中的一个像素单元进行不同灰阶的显示为例进行说明。

具体的，将阵列基板上的发光器件21点亮，初始状态，给三个第一电极1施加与第二电极2上相同的电压，以使第一电极1和第二电极2之间无电场，遮光粒子3则位于各个彩色滤光片和第一电极1所限定的区域中，此时遮光粒子3实现图2所示状态，该像素单元发白光。

当然，若已知遮光粒子3带正电荷，初始状态时，也可以控制第一电极1加载负电压，第二电极2不加载电压，或者正电压，利用电荷同性相斥异性相吸原理，控制遮光粒子3则位于各个彩色滤光片和第一电极1所限定的区域中，该像素单元发白光。

对于实现一个像素单元中任意两种颜色的光混色的彩色显示时，例如红光+蓝光的显示。此时，可以控制红色滤光片r和蓝色滤光片b对应的第一电极1与第二电极2加载相同电位，此时遮光粒子3不移动保持初始位置；控制绿色滤光片g所对应的第一电极1和第二电极2加载不同的电压，以使二者之间产生电场，以使遮光粒子3移动至绿色滤光片g所在区域，此时绿色滤光片g所在区域不透光，即实现一个像素单元中红光+蓝光的显示，也即如图3所示。

当然，若已知遮光粒子3带正电荷，此时不给红色滤光片r和蓝色滤光片b对应的第一电极1和第二电极2加电，给绿色滤光片g对应的第一电极1加载正电压，以使该第一电极1带正电荷，利用同性相斥异性相吸原理，控制遮光粒子3向绿色滤光片g所在区域移动，此时绿色滤光片g所在区域不透光，即实现一个像素单元中红光+蓝光的显示，也即如图3所示。

对于一个像素单元中部分彩色滤光片的部分区域被遮光粒子3遮挡，以实现彩色显示，以红色滤光片r和绿色滤光片g的部分区域被遮光粒子3遮挡为例进行说明。此时，可以控制蓝色滤光片b对应的第一电极1与第二电极2加载相同电位，此时遮光粒子3不移动保持初始位置；控制红色滤光片r和绿色滤光片g所对应的第一电极1和第二电极2加载不同的电压，以使二者之间产生电场，以使遮光粒子3向红色滤光片r和绿色滤光片g所在区域移动，同时控制施加在红色滤光片r和绿色滤光片g所对应的第一电极1上的电压大小，以控制遮光粒子3的移动数量，从而控制红色滤光片r和绿色滤光片g的透光面积，以实现彩色显示，也即如图4所示。

当然，也可以通过给第二电极2和蓝色滤光片b上记载相同的电量，以控制蓝色滤光片b对应的遮光粒子3保持初始位置，通过控制红色滤光片r和绿色滤光片g所对应的第一电极1上电量大小，以控制遮光粒子3的移动数量，从而控制红色滤光片r和绿色滤光片g的透光面积，以实现彩色显示，也即如图4所示。

综上，本实施例所提供的显示装置，阵列基板上的一个发光器件21则可以对应彩膜基板上的一个像素区a中的三种不同颜色的彩色滤光片，此时只需控制与每个彩色滤光片对应的第一电极1与第二电极层所形成的电场的强弱(或者电荷电量的大小)，从而控制遮光粒子3的移动数量和移动位置，进而控制彩色滤光片的透光面积，以实现一个发光器件21对不同颜色的光线的控制，实现不同灰阶的控制。

其中，在本实施例中发光器件21具体可以是microled或者miniled。当然，也可以采用其他的发光元件，例如led、oled等。

其中，在本实施例中第一电极1和第二电极2的材料均包括透明导电材料，例如ito等。

其中，在本实施例中遮光粒子3的材料具体可以是所电离处理过的各种金属原子，具体包括但不限于cu2+铜离子、fe2+亚铁离子、ni2+镍离子、cr3+铬离子、au3+金离子等等。

在此需要说明的是，本实施例的彩膜基板中，每个像素区a中的彩色滤光片可以不是呈环形排布的，也可以采用沿行方向或者列方向排布，此时每个像素区a中的彩色滤光片可以分别对应不同的第二电极2，工作原理与上述结构的工作原理相类似，再次不再详细描述。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。