阵列基板、阵列基板的制作方法及显示面板与流程

本发明涉及液晶显示
技术领域：
，特别涉及一种阵列基板、阵列基板的制作方法及显示面板。
背景技术：
：目前，VA(VerticalAlignment，垂直对齐)显示模式的像素结构，分为TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管)侧的像素结构和CF(ColorFilter，彩膜滤光片)侧的像素结构两部分。TFT侧的像素结构主要实现TFT-LCD(thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay，薄膜晶体管液晶显示器)的电学功能，是决定像素电容效应、配向延迟效应、灰阶电压写入特性及保持特性的主要因素；CF侧的像素结构主要实现TFT-LCD的光学功能，是决定TFT-LCD的对比度和色域度的主要因素。但是，在现有的VA显示模式的像素结构中，数据线上和扫描线上会产生寄生电容，而寄生电容的存在会加大数据线与扫描线的负载，减小像素的充电率，从而使产品的显示对比度下降，影响产品的画质品位。技术实现要素：本发明的主要目的是提供一种阵列基板，旨在降低数据线上和扫描线上的寄生电容，减小数据线和扫描线的负载，提高像素的充电率，进而提升产品的显示对比度，提升产品的画质品位。为实现上述目的，本发明提出的阵列基板包括栅极金属层和设于所述栅极金属层上方的源漏极金属层，所述栅极金属层包括扫描线，所述源漏极金属层包括与所述扫描线交错设置的数据线，所述阵列基板还包括设置于所述栅极金属层与所述源漏极金属层之间的色阻层，所述色阻层部分位于所述扫描线与所述数据线的交错区域内。可选地，所述色阻层包括滤光部和第一隔垫部，所述滤光部和所述第一隔垫部沿所述数据线的延伸方向交替排布，所述第一隔垫部沿所述扫描线的延伸方向延伸设置，并覆盖于所述扫描线上方。可选地，当所述色阻层位于所述阵列基板的有源层上方时，所述第一隔垫部开设有让位口，所述有源层由所述让位口显露，以使所述源漏极金属层通过所述让位口与所述有源层接触。可选地，所述滤光部包括若干滤光单元，若干所述滤光单元沿所述扫描线的延伸方向依次排布，每一所述滤光单元包括第一色彩单元、第二色彩单元及第三色彩单元，所述第一色彩单元、第二色彩单元及第三色彩单元沿所述扫描线的延伸方向依次排布，所述第一隔垫部与任一色彩单元为一体结构。可选地，每一所述滤光单元还包括第四色彩单元。可选地，所述阵列基板还包括设置于所述栅极金属层与所述源漏极金属层之间的黑色矩阵层，所述黑色矩阵层部分位于所述扫描线与所述数据线的交错区域内。可选地，所述黑色矩阵层包括遮光部和第二隔垫部，所述遮光部和所述第二隔垫部沿所述数据线的延伸方向交替排布，所述第二隔垫部沿所述扫描线的延伸方向延伸设置，并覆盖于所述扫描线上方。可选地，当所述黑色矩阵层位于所述阵列基板的有源层上方时，所述第二隔垫部开设有避让口，用于所述有源层与所述源漏极金属层相接触。本发明还提出一种阵列基板的制作方法，包括以下步骤：提供衬底基板，并在所述衬底基板上形成栅极金属层；在所述栅极金属层上和所述衬底基板上形成栅极绝缘层；在所述栅极绝缘层上形成有源层；在所述栅极绝缘层上和所述有源层上形成源漏极金属层；在所述源漏极金属层上和所述有源层上形成保护层；以及在所述保护层上形成透明导电层；在所述衬底基板上形成栅极金属层之后、且在所述衬底基板上形成源漏极金属层之前，还在对应结构层上形成色阻层。本发明还提出一种显示面板，包括：第一基板；第二基板，所述第二基板与所述第一基板相对设置；液晶层，所述液晶层夹设于所述第一基板与所述第二基板之间；其中，所述第二基板是阵列基板，所述阵列基板包括栅极金属层和设于所述栅极金属层上方的源漏极金属层，所述栅极金属层包括扫描线，所述源漏极金属层包括与所述扫描线交错设置的数据线，所述阵列基板还包括设置于所述栅极金属层与所述源漏极金属层之间的色阻层，所述色阻层部分位于所述扫描线与所述数据线的交错区域内。本发明的技术方案，通过将色阻层设置在栅极金属层与源漏极金属层之间，可使扫描线与数据线二者于交错区域处的间距得以增大，数据线上和扫描线上的寄生电容得以降低，从而使数据线和扫描线的负载得以减小，使像素的充电率得以提升，进而提升了产品的显示对比度，提升了产品的画质品位。附图说明为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。图1为应用有传统COA阵列基板的显示面板在数据线与扫描线正面交叠处沿扫描线的截面图；图2为本发明显示面板一实施例在数据线与扫描线正面交叠处沿扫描线的截面图；图3为图2中阵列基板的部分俯视图；图4为图2中色阻层的部分俯视图；图5为本发明显示面板另一实施例在数据线与扫描线正面交叠处沿扫描线的截面图；图6为图5中黑色矩阵层的部分俯视图。附图标号说明：标号名称标号名称1000显示面板80色阻层100阵列基板81滤光部10衬底基板811第一色彩单元20栅极金属层813第二色彩单元21扫描线815第三色彩单元23栅极83第一隔垫部30栅极绝缘层831让位口40有源层90黑色矩阵层41单元块91遮光部50源漏极金属层911透光区域51数据线93第二隔垫部53源极931避让口55漏极200第一基板60保护层210导电薄膜70透明导电层本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。具体实施方式下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。需要说明，本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。另外，在本发明中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”、“固定”等应做广义理解，例如，“固定”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。另外，本发明各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。本发明提出一种阵列基板100，其应用于显示面板1000(例如液晶显示面板)，旨在降低数据线51上和扫描线21上的寄生电容，减小数据线51和扫描线21的负载，提高像素的充电率，进而提升产品的显示对比度，提升产品的画质品位。下面将就本发明阵列基板100的具体结构进行说明：如图2至图4所示，在本发明阵列基板100一实施例中，该阵列基板100包括栅极金属层20和设于所述栅极金属层20上方的源漏极金属层50，所述栅极金属层20包括扫描线21，所述源漏极金属层50包括与所述扫描线21交错设置的数据线51，所述阵列基板100还包括设置于所述栅极金属层20与所述源漏极金属层50之间的色阻层80，所述色阻层80部分位于所述扫描线21与所述数据线51的交错区域内。本实施例中，阵列基板100还包括衬底基板10、栅极绝缘层30、有源层40、保护层60及透明导电层70，栅极金属层20、栅极绝缘层30、有源层40、源漏极金属层50、保护层60及透明导电层70依次设置于衬底基板10上。具体结构如下：栅极金属层20设于衬底基板10上；栅极绝缘层30设于栅极金属层20上和衬底基板10上，并覆盖栅极金属层20和衬底基板10；有源层40设于栅极绝缘层30上，并位于栅极金属层20的上方；源漏极金属层50设于栅极绝缘层30上和有源层40上，并与有源层40相接触；保护层60设于栅极绝缘层30上、有源层40上及源漏极金属层50上，并覆盖栅极绝缘层30、有源层40及源漏极金属层50；透明导电层70设于保护层60上，并与源漏极金属层50相接触(具体地，透明导电层70可通过保护层60上的贯通孔与源漏极金属层50相接触)。此时，栅极金属层20中的扫描线21与源漏极金属层50中的数据线51呈交错设置，即扫描线21上存在与数据线51正面交叠的区域，数据线51上亦存在与扫描线21正面交叠的区域。扫描线21上与数据线51正面交叠的区域同数据线51上与该区域正面交叠的区域之间所夹区域，即为扫描线21与数据线51的交错区域。需要说明的是，这样的交错区域，在呈网状排布的栅极绝缘层30和源漏极金属层50之间存在若干处。可选的，阵列基板100还包括色阻层80，该色阻层80设置在栅极金属层20与源漏极金属层50之间，并且，该色阻层80部分位于扫描线21与数据线51的交错区域内。具体地，色阻层80包括两个部分，第一部分用于滤光，该部分包括红色色阻、绿色色阻及蓝色色阻，这三种颜色的色阻分别设置在由扫描线21和数据线51所限定出的像素区域内，分别对应透过红、绿、蓝三种颜色的光；第二部分用于增大扫描线21与数据线51二者于交错区域处的间距，该部分可包括若干隔垫单元，每一隔垫单元对应设置在一交错区域内(即，每一交错区域上方的数据线51与该交错区域下方的扫描线21之间均设置有一隔垫单元)。此时，由于扫描线21与数据线51二者于交错区域处的间距被增大了，数据线51上和扫描线21上的寄生电容得以降低，从而使得数据线51和扫描线21的负载得以减小，使得像素的充电率得以提升，进而提升了产品的显示对比度，提升了产品的画质品位。具体原理如下(请结合参阅图1和图2)：定义液晶层(未图示)的介电常数为α、保护层60的介电常数为β、栅极绝缘层30的介电常数为γ、色阻层80的介电常数为δ。则根据电容的计算公式(其中，ξ为介电常数、S为交叠面积、k为静电力常量、d为相对距离)、电容的并联公式C3＝C1+C2及电容的串联公式可计算得到，改进前：(1)数据线51与扫描线21正面交叠产生的寄生电容为：(2)数据线51与CF侧导电薄膜210正面交叠产生的寄生电容为：但是，经过本发明的技术方案，改进后(以d1厚度不变为例)：(1)数据线51与扫描线21正面交叠产生的寄生电容为：(2)数据线51与CF侧导电薄膜210正面交叠产生的寄生电容为：数据线51上的寄生电容为各寄生电容之和，其主要包括两个部分：(1)数据线51与扫描线21正面交叠产生的寄生电容；(2)数据线51与CF侧导电薄膜210正面交叠产生的寄生电容；因此，改进前数据线51上的寄生电容为Cd1+Cd2，改进后数据线51上的寄生电容为Cd3+Cd4，二者做差，如下：所以，可以看到：改进前数据线51上的寄生电容Cd1+Cd2，是大于改进后数据线51上的寄生电容Cd3+Cd4的。即，本发明的技术方案可使得数据线51上的寄生电容降低。也即，通过在扫描线21与数据线51的交错区域内增加用于隔垫的色阻层80，可降低数据线51上的寄生电容。同理，扫描线21上的寄生电容为各寄生电容之和，其主要包括两个部分：(1)扫描线21与数据线51正面交叠产生的寄生电容；(2)扫描线21与CF侧导电薄膜210正面交叠产生的寄生电容；此时，利用上述论证方法，可论证得到：改进后扫描线21与CF侧导电薄膜210正面交叠产生的寄生电容是不变的，而改进后扫描线21与数据线51正面交叠产生的寄生电容是降低的。因此，总体上，改进后扫描线21上的寄生电容也是降低的。即，本发明的技术方案可使得扫描线21上的寄生电容降低。也即，通过在扫描线21与数据线51的交错区域内增加用于隔垫的色阻层80，可降低扫描线21上的寄生电容。综上，扫描线21上和数据线51上的寄生电容得以降低，扫描线21和数据线51的负载得以减小，像素的充电率得以提升，进而产品的显示对比度得以提升，产品的画质品位得以提升。此外，需要补充的是，色阻层80既可以设置在栅极绝缘层30的上方，也可以设置在栅极绝缘层30的下方。一般地，扫描线21沿阵列基板100的长度方向延伸设置，数据线51沿阵列基板100的宽度方向延伸设置。因此，若干扫描线21与若干数据线51相互交错后，可在衬底基板10上限定出若干阵列排布的像素区域。如图2至图4所示，在本发明阵列基板100一实施例中，所述色阻层80包括滤光部81和第一隔垫部83，所述滤光部81和所述第一隔垫部83沿所述数据线51的延伸方向交替排布，所述第一隔垫部83沿所述扫描线21的延伸方向延伸设置，并覆盖于所述扫描线21上方。本实施例中，一色阻层80包括若干滤光部81和若干第一隔垫部83，每一滤光部81均呈长条形设置，且其长度方向与扫描线21的延伸方向一致；每一第一隔垫部83均呈长条形设置，且其长度方向与扫描线21的延伸方向一致。若干滤光部81沿数据线51的延伸方向间隔排布，若干第一隔垫部83沿数据线51的延伸方向间隔排列，并且，滤光部81和第一隔垫部83沿数据线51的延伸方向交替排布(即一行滤光部81、一行第一隔垫部83循环排布)。此时，滤光部81包括红色色阻、绿色色阻及蓝色色阻，这三种颜色的色阻分别设置在由扫描线21和数据线51所限定出的像素区域内，分别对应透过红、绿、蓝三种颜色的光。第一隔垫部83沿扫描线21的延伸方向延伸设置，并覆盖于扫描线21上方；即，同一扫描线21上的若干交错区域内均隔垫有第一隔垫部83，如此，可使扫描线21与数据线51二者于交错区域处的间距得以增大，从而使扫描线21上和数据线51上的寄生电容得以降低，使扫描线21和数据线51的负载得以减小，使像素的充电率得以提升。并且，这样的设置，结构简单、便于成型制造、稳定性和可靠性均优异。如图2至图4所示，在本发明阵列基板100一实施例中，当所述色阻层80位于所述阵列基板100的有源层40上方时，所述第一隔垫部83开设有让位口831，所述有源层40由所述让位口831显露，以使所述源漏极金属层50通过所述让位口831与所述有源层40接触。即，当色阻层80的制程在有源层40的制程与源漏极金属层50的制程之间时，色阻层80中第一隔垫部83的面向有源层40的表面开设有让位口831，有源层40由该让位口831得以显露，此时，源漏极金属层50中源极53和漏极55便可穿过该让位口831而与有源层40接触。如此，可使有源层40与源漏极金属层50的连接更加简单、更加方便、更加可靠，从而使阵列基板100的性能更加稳定。如图2至图4所示，在本发明阵列基板100一实施例中，所述有源层40于所述色阻层80的投影位于所述让位口831所在范围内。即，有源层40整个位于让位口831的覆盖范围内。如此，有源层40的显露面积得以增大，进一步便于源漏极金属层50中源极53和漏极55与有源层40的连接。具体地，有源层40包括若干单元块41，每一单元块41均设于栅极绝缘层30上，且位于栅极金属层20中一栅极23的正上方；相应地，色阻层80上的让位口831设有若干，每一让位口831与一单元块41对应设置，即每一单元块41均位于与之对应的一让位口831的覆盖范围内，也即每一单元块41均由与之对应的一让位口831完全显露，以便与源漏极金属层50中成对的一源极53和一漏极55连接。可选地，所述让位口831的周缘邻近与之对应的所述单元块41的周缘设置。即，在水平方向上，让位口831的侧壁与与之对应的单元块41的边缘邻近设置。如此，可进一步增大位于有源层40边缘以外的源极53和漏极55与栅极金属层20之间的间距，降低源极53上、漏极55上及栅极金属层20上的寄生电容，从而进一步降低扫描线21上和数据线51上的寄生电容，减小扫描线21和数据线51的负载，提升像素的充电率，最终提升产品的显示对比度和产品的画质品位。如图2至图4所示，在本发明阵列基板100一实施例中，所述滤光部81包括若干滤光单元，若干所述滤光单元沿所述扫描线21的延伸方向依次排布(一般地，扫描线21沿阵列基板100的长度方向延伸设置，此时，若干滤光单元沿阵列基板100的长度方向依次排布)，每一所述滤光单元包括第一色彩单元811、第二色彩单元813及第三色彩单元815，所述第一色彩单元811、第二色彩单元813及第三色彩单元815沿所述扫描线21的延伸方向依次排布(一般地，扫描线21沿阵列基板100的长度方向延伸设置，此时，第一色彩单元811、第二色彩单元813及第三色彩单元815沿阵列基板100的长度方向依次排布)，所述第一隔垫部83与任一色彩单元为一体结构。具体地，每一滤光单元包括沿扫描线21的延伸方向依次排布的第一色彩单元811、第二色彩单元813及第三色彩单元815，第一色彩单元811、第二色彩单元813及第三色彩单元815均布置在由扫描线21和数据线51所限定出的像素区域内。本实施例中，第一色彩单元811、第二色彩单元813及第三色彩单元815分别为红色色阻、绿色色阻及蓝色色阻，红色色阻、绿色色阻及蓝色色阻分别用于透过红光、绿光及蓝光。此时，第一隔垫部83可与任意色彩单元为一体结构，即：第一隔垫部83与第一色彩单元811(红色色阻)为一体结构；或者，第一隔垫部83与第二色彩单元813(绿色色阻)为一体结构；又或者，第一隔垫部83与第三色彩单元815(蓝色色阻)为一体结构。也即，在成型制造时，第一隔垫部83可为红色色阻的一部分，在成型红色色阻时一同成型得到；或者，第一隔垫部83可为绿色色阻的一部分，在成型绿色色阻时一同成型得到；又或者，第一隔垫部83可为蓝色色阻的一部分，在成型蓝色色阻时一同成型得到。如此，更加方便色阻层80的成型，方便列阵基板的制造，也可提升阵列基板100的可靠性和稳定性。在本发明阵列基板100一实施例中，每一所述滤光单元还包括第四色彩单元。本实施例中，每一滤光单元还包括第四色彩单元，第一色彩单元811、第二色彩单元813、第三色彩单元815及第四色彩单元沿扫描线21的延伸方向依次排布。并且，第一色彩单元811、第二色彩单元813、第三色彩单元815及第四色彩单元分别为红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻及白色色阻，分别用于透过红光、绿光、蓝光及白光。可以理解的，第一色彩单元811、第二色彩单元813、第三色彩单元815及第四色彩单元均布置在由扫描线21和数据线51所限定出的像素区域内。此时，第一隔垫部83可与任意色彩单元为一体结构，即：第一隔垫部83与第一色彩单元811(红色色阻)为一体结构；或者，第一隔垫部83与第二色彩单元813(绿色色阻)为一体结构；又或者，第一隔垫部83与第三色彩单元815(蓝色色阻)为一体结构；再或者，第一隔垫部83与第四色彩单元(白色色阻)为一体结构。也即，在成型制造时，第一隔垫部83可为红色色阻的一部分，在成型红色色阻时一同成型得到；或者，第一隔垫部83可为绿色色阻的一部分，在成型绿色色阻时一同成型得到；又或者，第一隔垫部83可为蓝色色阻的一部分，在成型蓝色色阻时一同成型得到；再或者，第一隔垫部83可为白色色阻的一部分，在成型白色色阻时一同成型得到。如此，不仅方便了色阻层80的成型，方便了列阵基板的制造，提升了阵列基板100的可靠性和稳定性；同时，由RGBW四种颜色构成一像素单元的阵列基板100中也可应用本发明的技术方案，增强了本发明技术方案的适用性。请进一步参阅图5和图6，在本发明阵列基板100一实施例中，所述阵列基板100还包括设置于所述栅极金属层20与所述源漏极金属层50之间的黑色矩阵层90，所述黑色矩阵层90部分位于所述扫描线21与所述数据线51的交错区域内。类似于前述实施例中将色阻层80设置在栅极金属层20与源漏极金属层50之间的技术方案，本实施例的技术方案，还将黑色矩阵层90设置在了栅极金属层20与源漏极金属层50之间。类似于前述实施例中“数据线51上和扫描线21上的寄生电容得以降低”的论证过程，本实施例中黑色矩阵层90的设置，同样可以增大扫描线21与数据线51二者于交错区域处的间距。此时，由于扫描线21与数据线51二者于交错区域处的间距被增大了，数据线51上和扫描线21上的寄生电容得以降低，从而使得数据线51和扫描线21的负载得以减小，使得像素的充电率得以提升，进而提升了产品的显示对比度，提升了产品的画质品位。具体原理如下(请结合参阅图1和图5)：定义液晶层的介电常数为α、保护层60的介电常数为β、栅极绝缘层30的介电常数为γ、色阻层80的介电常数为δ，黑色矩阵层90的介电常数为η。则根据电容的计算公式(其中，ξ为介电常数、S为交叠面积、k为静电力常量、d为相对距离)、电容的并联公式C3＝C1+C2及电容的串联公式可计算得到，改进前：(1)数据线51与扫描线21正面交叠产生的寄生电容为：(2)数据线51与CF侧导电薄膜210正面交叠产生的寄生电容为：但是，经过本实施例的技术方案，改进后(以显示面板1000的整体厚度不变为例)：(1)数据线51与扫描线21正面交叠产生的寄生电容为：因为，所以，(2)数据线51与CF侧导电薄膜210正面交叠产生的寄生电容为：数据线51上的寄生电容为各寄生电容之和，其主要包括两个部分：(1)数据线51与扫描线21正面交叠产生的寄生电容；(2)数据线51与CF侧导电薄膜210正面交叠产生的寄生电容；因此，改进前后相比较，可得：可见，改进后数据线51与扫描线21正面交叠产生的寄生电容是减小的，而改进后数据线51与CF侧导电薄膜210正面交叠产生的寄生电容是增大的。可选的，现使用一般参数，对上述Δ1和Δ2进行实际换算，如下：(1)保护层60和栅极绝缘层30的介电常数一般在6.75左右，即β＝γ＝6.75；(2)液晶层的介电常数一般在3.5～7之间，即α＝3.5～7；(3)色阻层80和黑色矩阵层90的介电常数一般在3.6左右，即δ＝η＝3.6。(4)d1一般为4.25μm左右，记d1＝4.25；(5)d2一般在1.9μm左右(其中，PV1为0.2μm左右、PV2为1.7μm左右)，记d2＝1.9；(6)d3一般在0.4μm左右，记d3＝0.4；(7)d5一般在2.5μm左右，记d5＝2.5；(8)d6一般为1μm左右，记d6＝1。易算出：(液晶层的介电常数取3.5时)；(液晶层的介电常数取7.0时)；即，由此可知，不论液晶层的介电常数如何何值(3.5～7)，Δ1都远大于Δ2的绝对值；即改进后数据线51与扫描线21正面交叠产生的寄生电容的减小量，远大于改进后数据线51与CF侧导电薄膜210正面交叠产生的寄生电容的增大量。也即，本实施例的技术方案，可以极大地减小数据线51上的寄生电容，降低数据线51的负载。同理，对于扫描线21上的寄生电容也可以做类似分析，同样可得到：本实施例的技术方案，可以极大地减小数据线51上的寄生电容，降低数据线51的负载。综上，本实施例的技术方案，可使扫描线21上和数据线51上的寄生电容得以降低，使扫描线21和数据线51的负载得以减小，使像素的充电率得以提升，进而使产品的显示对比度得以提升，使产品的画质品位得以提升。此外，需要补充的是，色阻层80和黑色矩阵层90，既可以一起设置在栅极绝缘层30的上方，也可以一起设置在栅极绝缘层30的下方，还可以分别设置在栅极绝缘层30的上方和下方。可选的，色阻层80和黑色矩阵层90之间，既可以是色阻层80设置在黑色矩阵层90的上方，也可以是黑色矩阵层90设置在色阻层80的上方。本实施例中将黑色矩阵层90设置在栅极金属层20与源漏极金属层50之间的技术方案，还可采用前述实施例中以d1厚度不变为例的论证方式进行论证，可得到同样的结论——扫描线21上和数据线51上的寄生电容得以降低。另外，前述实施例中将色阻层80设置在栅极金属层20与源漏极金属层50之间的技术方案，还可采用本实施例中以显示面板1000的整体厚度不变为例的论证方式进行论证，可得到同样的结论——扫描线21上和数据线51上的寄生电容得以降低。请进一步参阅图5和图6，在本发明阵列基板100一实施例中，所述黑色矩阵层90包括遮光部91和第二隔垫部93，所述遮光部91和所述第二隔垫部93沿所述数据线51的延伸方向交替排布，所述第二隔垫部93沿所述扫描线21的延伸方向延伸设置，并覆盖于所述扫描线21上方。下面以色阻层80的滤光部81包括第一色彩单元811、第二色彩单元813及第三色彩单元815(即红色色阻、绿色色阻及蓝色色阻)为例对黑色矩阵层90的设置进行说明，如下：黑色矩阵层90的遮光部91和第二隔垫部93沿数据线51的延伸方向交替排布，并且，相邻的遮光部91和第二隔垫部93之间相互连接形成一体结构，以防漏光。可选的，遮光部91开设有若干间隔设置的透光区域911，若干透光区域911沿扫描线21的延伸方向依次排布，相邻的三个透光区域911依次被第一色彩单元811、第二色彩单元813及第三色彩单元815(即红色色阻、绿色色阻及蓝色色阻)所覆盖，即每一色彩单元的边缘与与之对应的透光区域911的边缘在垂直衬底基板10的方向上是交叠设置的，以防止漏光。如此，每一扫描线21的上方均覆盖有一第二隔垫部93，不仅保障了扫描线21与数据线51二者于交错区域处间距的增大，即保障了扫描线21与数据线51正面交叠处间距的增大，而且结构简单、便于成型制造、稳定性和可靠性均优异。请进一步参阅图5和图6，在本发明阵列基板100一实施例中，当所述黑色矩阵层90位于所述阵列基板100的有源层40上方时，所述第二隔垫部93开设有避让口931，用于所述有源层40与所述源漏极金属层50相接触。即，当黑色矩阵层90的制程在有源层40的制程与源漏极金属层50的制程之间时，黑色矩阵层90中第二隔垫部93的对应有源层40的表面开设有避让口931。此时，若色阻层80也位于有源层40上方，则避让口931还贯穿色阻层80，以使有源层40由该避让口931得以显露。此时，源漏极金属层50中源极53和漏极55便可穿过黑色矩阵层90和色阻层80而与有源层40接触。但是，若色阻层80不在有源层40的上方，则避让口931无需贯穿色阻层80，有源层40可直接由避让口931显露，此时，源漏极金属层50中源极53和漏极55便可直接穿过该避让口931而与有源层40接触。如此，可使有源层40与源漏极金属层50的连接更加简单、更加方便、更加可靠，从而使阵列基板100的性能更加稳定。具体地，黑色矩阵层90上的避让口931也设有若干，每一避让口931与有源层40中的一单元块41对应设置，即每一单元块41均位于与之对应的一避让口931的覆盖范围内，也即每一单元块41均由与之对应的一避让口931完全显露，以便与源漏极金属层50中成对的一源极53和一漏极55连接。请进一步参阅图5和图6，在本发明阵列基板100一实施例中，所述栅极金属层20于所述黑色矩阵层90的投影范围覆盖所述避让口931所在范围。即，避让口931在衬底基板10上的覆盖范围落入栅极金属层20在衬底基板10上的覆盖范围内。也即，每一避让口931在栅极金属层20上的投影范围均落入与之对应的一栅极23的所在范围内。亦即，每一避让口931在衬底基板10上的覆盖范围均落入与之对应的一栅极23在衬底基板10上的覆盖范围内。如此，避让口931处的遮光可由栅极金属层20完成，可起到阻挡光线穿透避让口931的作用，防止漏光，保障列阵基板和显示面板1000的显示性能。本发明还提出一种阵列基板100的制作方法，包括以下步骤：提供衬底基板10，并在所述衬底基板10上形成栅极金属层20；在所述栅极金属层20上和所述衬底基板10上形成栅极绝缘层30；在所述栅极绝缘层30上形成有源层40；在所述栅极绝缘层30上和所述有源层40上形成源漏极金属层50；在所述源漏极金属层50上和所述有源层40上形成保护层60；以及在所述保护层60上形成透明导电层70；在所述衬底基板10上形成栅极金属层20之后、且在所述衬底基板10上形成源漏极金属层50之前，还在对应结构层上形成色阻层80；其中，色阻层80既可以设置在栅极绝缘层30的上方，也可以设置在栅极绝缘层30的下方。可选的，在所述衬底基板10上形成栅极金属层20之后、且在所述衬底基板10上形成源漏极金属层50之前，还在对应结构层上形成黑色矩阵层90；其中，色阻层80和黑色矩阵层90，既可以一起设置在栅极绝缘层30的上方，也可以一起设置在栅极绝缘层30的下方，还可以分别设置在栅极绝缘层30的上方和下方。色阻层80和黑色矩阵层90之间，既可以是色阻层80设置在黑色矩阵层90的上方，也可以是黑色矩阵层90设置在色阻层80的上方本发明还提出一种显示面板1000，包括：第一基板200；第二基板，所述第二基板与所述第一基板200相对设置；液晶层(未图示)，所述液晶层夹设于所述第一基板200与所述第二基板之间；其中，所述第二基板是如上所述的阵列基板100，该阵列基板100的具体结构参照上述实施例，由于本显示面板1000采用了上述所有实施例的全部技术方案，因此至少具有上述所有实施例的全部技术方案所带来的所有有益效果，在此不再一一赘述。并且，第一基板200的面向第二基板(阵列基板100)的表面设有导电薄膜210。可选的，本发明的显示面板1000可应用于显示装置中，显示装置可为显示器、电视机、手机、平板电脑、或其他显示装置。以上所述仅为本发明的可选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是在本发明的发明构思下，利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的
技术领域：
均包括在本发明的专利保护范围内。当前第1页1 2 3