具有方位调制剂层的光学器件的制作方法

本公开内容总体上涉及呈箔(foil)、片材和/或薄片(flake)的形式的物品，例如光学器件。光学器件可以包括反射体层，所述反射体层具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、第三表面和与第三表面相对的第四表面；以及第一选择性光调制剂层，所述第一选择性光调制剂层在反射体层的第一表面的外部；其中第三表面和第四表面中的至少一个包括方位调制剂层。还公开了制造光学器件的方法。

背景技术：

颜料的光学属性是基于颜料中存在的组分。例如，“白色”反射体层，诸如用铝制造的反射体层，将为颜料提供有限的颜色空间属性。另外，铝反射体层的使用可能需要添加腐蚀防护机制，诸如钝化，以消除铝的水诱导的腐蚀的风险。腐蚀可以导致反射体功能的丧失和氢的形成。这两个问题对颜料均可以是有害的，并且可以限制其用途。另外，“白色”反射体层的使用可以限制颜料产生颜色随角异色(colorflop)效果和/或色移(colorshifting)效果的能力。

技术实现要素：

在一个方面中，公开了光学器件，光学器件包括反射体层，所述反射体层具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、第三表面和与第三表面相对的第四表面；以及第一选择性光调制剂层，所述第一选择性光调制剂层在反射体层的第一表面的外部；其中第三表面和第四表面中的至少一个包括方位调制剂层。

在另一个方面中，公开了用于制造光学器件的方法，所述方法包括：在基底上沉积反射体层，所述反射体层具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、第三表面和与第三表面相对的第四表面；在反射体层的第一表面上沉积第一选择性光调制剂层；以及在反射体层的第三表面和第四表面中的至少一个上提供方位调制剂层。

本公开内容还提供了以下项目：

1)一种光学器件，包括：

反射体层，所述反射体层具有第一表面、与所述第一表面相对的第二表面；第三表面和与所述第三表面相对的第四表面；以及

第一选择性光调制剂层，所述第一选择性光调制剂层在所述反射体层的所述第一表面的外部；

其中所述第三表面和所述第四表面中的至少一个包括方位调制剂层。

2)如项目1)所述的光学器件，其中所述第一选择性光调制剂层为所述光学器件提供第一颜色属性。

3)如项目1)所述的光学器件，其中所述方位调制剂层为所述光学器件提供第二颜色属性。

4)如项目3)所述的光学器件，其中所述第二颜色属性不同于第一颜色属性。

5)如项目2)或项目4)所述的光学器件，其中所述第一颜色属性以第一视角呈现。

6)如项目3)所述的光学器件，其中所述第二颜色属性以第二视角呈现。

7)如项目6)所述的光学器件，其中所述第二视角不同于第一视角。

8)如项目1)所述的光学器件，其中所述方位调制剂层保护所述第三表面和所述第四表面中的至少一个。

9)如项目1)所述的光学器件，其中所述反射体层包括有色材料。

10)如项目1)所述的光学器件，其中所述方位调制剂层包括化学地转化成有色化合物的金属。

各个实施方案的另外的特征和优点将部分地在以下的描述中阐述，并且部分地从描述中将是明显的或可以通过实践各个实施方案而得知。各种实施方案的目的和其他优点将借助于在本文的描述中特别指出的元件和组合来实现和获得。

附图说明

从详细描述和附图中可以更全面地理解在其若干方面和实施方案中的本公开内容，其中：

图1是根据本公开内容的方面的物品的横截面图；

图2是根据本公开内容的另一个方面的物品的横截面图；

图3是根据本公开内容的另一个方面的物品的横截面图；

图4是根据本公开内容的另一个方面的物品的横截面图；

图5是根据本公开内容的另一个方面的物品的横截面图；

图6是根据本公开内容的另一个方面的物品的横截面图；

图7是根据本发明的另一个方面的物品的横截面图；

图8是根据本发明的另一个方面的物品的横截面图；以及

图9是根据本公开内容的实施例的示出层诸如slml层的沉积的液体涂布工艺(liquidcoatingprocess)的横截面图。

在整个本说明书和附图中，相同的参考数字标识相同的元件。

具体实施方式

应理解，前述的一般描述和以下的详细描述两者仅仅是示例性的和解释性的，并且旨在提供对于本教导的各种实施方案的解释。在其广泛和变化的实施方案中，本文公开了例如呈箔、片材和薄片的形式的物品诸如光学器件；以及制造物品的方法。在一个实例中，包括光学器件诸如颜料、光学标签剂(opticaltaggant)和光学安全器件的物品可以被制造成具有简化的构造。本文公开的光学器件可以表现出至少一种性质，包括但不限于反射体层的减少的降解、反射体层上减少的氢的形成以及改善的颜色属性。

如图1中所示，物品10诸如光学器件可以包括反射体层16；以及在反射体层的外部并且使用液体涂布工艺沉积的选择性光调制剂层14。在一个方面中，选择性光调制剂层14可以是第一选择性光调制剂层14或第二选择性光调制剂层14’，如图2中所示。反射体层16可以是有色的反射体层16。反射体层16可以具有开放表面。反射体层16可以具有至少一个包括方位调制剂层12的表面，如图3-8中所示。

在一个方面中，物品10可以呈可以在物体或基底上使用的片材的形式。在另一个方面中，物品10可以呈箔或薄片的形式。例如，物品10可以具有层状形状。在一个方面中，物品10可以是光学器件。在另一个方面中，组合物(composition)可以包括光学器件和液体介质。组合物可以是油墨、清漆、涂料(paint)等。在另一个方面中，物品10是呈薄片的形式的光学器件，薄片例如具有厚度100nm至100μm和尺寸100nm至1mm。物品10可以是色移着色剂(colorshiftingcolorant)，或可以被用作用于货币的安全特征。对于物品10的使用常见的某些属性可以包括高色度(或浓烈的颜色(strongcolor))、相对于视角的颜色变化(还被称为角色性(goniochromaticity)或虹彩(iridescence))和随角异色(flop)(亮度、色调或色度随着视角变化而变化的镜面和金属外观)。另外，物品10在颜色上可以是金属的，并且不能利用干涉来产生颜色。特别地，物品10可以包括另外的特征，用于增加角度依赖性色移效果。另外，物品10可以表现出对于暴露的金属表面诸如反射体层16的边缘的改善的化学保护，但不需要封装整个物品10。

尽管附图图示呈片材的形式的物品10诸如光学器件，但根据本公开内容的各个方面，物品10诸如光学器件还可以呈薄片和/或箔的形式。另外，尽管附图以特定的顺序图示特定的层，但本领域普通技术人员将理解，物品10可以以任何顺序包括任何数目的层。另外，任何特定层的组合物可以与任何其他层的组合物相同或不同。例如，第一选择性光调制剂层(slml)14可以是与第二选择性光调制剂层(slml)14’相同或不同的组合物。另外，任何特定层的物理性质可以与任何其他层的物理性质相同或不同。例如，第一slml14可以具有带有第一折射率的组合物，但相同物品10中的第二slml14’可以具有带有不同折射率的不同组合物。作为另一个实例，第一slml14可以具有处于第一厚度的组合物，但第二slml14’可以具有处于不同于第一厚度的第二厚度的相同的组合物。

如图1中图示的，物品10诸如光学器件可以包括：有色的反射体层16，所述有色的反射体层16具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、和第三表面；以及选择性光调制剂层，所述选择性光调制剂层在有色的反射体层16的第一表面的外部。

反射体层16可以是宽带反射体，例如，光谱和朗伯反射体(spectralandlambertianreflector)(例如，白色tio2)。反射体层16可以包括金属。反射体层16可以是有色的反射体层。如本文使用的，“有色的反射体层”包括有色金属、有色金属合金、有色非金属和化学地转化成有色化合物的金属。有色的反射体层16可以是选自铜、金、银和青铜的有色金属或有色金属合金。有色的反射体层16可以是有色非金属，包括有机材料如聚乙炔，导电聚合物(例如，聚吡咯、pedot、聚苯胺)，半导体和无机材料如金属氧化物、硫化物、氯化物、氟化物、钛酸盐、锆酸盐、稀土掺杂的caf2、过渡金属掺杂的srtio3和catio3、铁掺杂的或硫掺杂的方钠石以及金属配位络合物。

在一个方面中，反射体层16诸如有色的反射体层可以包括化学地转化成有色化合物的金属。例如，化学地转化的金属可以包括铝、不锈钢和白色材料。在一个方面中，待化学地转化的金属可以包括但不限于铝、铜、不锈钢、银、金、锌、铁、青铜、锰、钛、锆、钒、铌、铬、钼、镍、钨、锡、铟、铋、任何这些金属的合金或其组合。转化工艺可以是将无色金属或白色金属转化成有色化合物的任何工艺。转化工艺可以包括使无色金属或白色金属经受反应物。

反应物可以处于任何状态，诸如等离子体状态、气体状态、固体状态或液体状态或其组合。反应物可以包括能够以可控方式引起与无色金属或白色金属的至少一部分反应的任何化学因素或物理因素。在一个实例中，水和溶剂型环境可以用作反应物。在一些实例中，转化工艺可以包括使用各种类型的化学反应物，包括间歇搅拌罐反应物和连续搅拌罐反应物、管状反应物、翻滚床反应物(tumblingbedreactant)、流化床反应物、连续流管和间歇式炉。

本文使用的化学浴组合物可以包括无机化合物或有机化合物。无机化合物的实例可以包括以下中的至少一种：硫、硫化物、硫酸盐、氧化物、氢氧化物、异氰酸盐、硫氰酸盐、钼酸盐、铬酸盐、高锰酸盐、碳酸盐、硫代硫酸盐、胶体金属、无机盐及其混合物。有机化合物的实例可以包括：包含硫的有机化合物，诸如硫醇、硫代胺、氧基硫代胺(oxythioamine)、硫脲、硫氰酸酯；包含氮的有机化合物，诸如胺和异氰酸酯；包含氧的有机化合物；包含硅的有机化合物，诸如硅烷；或其组合。另外，化学浴可以包括以下中的至少一种：金属的无机盐或有机盐，或金属的金属有机化合物。在还另一个方面中，化学浴可以包括氧化剂、表面改性剂和/或抑制剂。

在一个方面中，反射体层16中存在的无色金属或白色金属可以被完全转化或部分转化，诸如99.9％转化，包括完全转化与部分转化之间的所有百分比转化率范围。

在一个方面中，有色的反射体层16不包括铝或白色材料，例如，还未被化学地转化成有色化合物的铝或白色材料。

在一个实例中，用于反射体层16的材料可以包括具有在期望的光谱范围内的反射特性的任何材料。例如，在期望的光谱范围内，具有在从5％至100％的范围内的反射比(reflectance)的任何材料。

反射体层16的厚度可以在从约5nm至约5000nm的范围内，尽管此范围不应当被视为限制性的。例如，可以选择较低的厚度限值，使得反射体层16可以提供0.8的最大透射率。

为了获得足够的光密度和/或实现期望的效果，取决于反射体层16的组成，可能需要较高或较低的最小厚度。在一些实例中，上限可以是约5000nm、约4000nm、约3000nm、约1500nm、约200nm和/或约100nm。在一个方面中，反射体层16的厚度可以在从约10nm至约5000nm的范围内，例如，从约15nm至约4000nm的范围内、从约20nm至约3000nm的范围内、从约25nm至约2000nm的范围内、从约30nm至约1000nm的范围内、从约40nm至约750nm的范围内、或从约50nm至约500nm的范围内，诸如从约60nm至约250nm的范围内或从约70nm至约200nm的范围内。

如附图中示出的，例如图1，反射体层16的至少两个表面/侧面，例如如示出的右(第三)表面/侧面和左(第四)表面/侧面可以是开放的。在一个方面中，如果物品10呈薄片或箔的形式，那么反射体层16可以包括多于附图中例示的四个表面。在那些实例中，例如，反射体层16的一个表面、两个表面、三个表面、四个表面或五个表面可以是对空气开放的。在一个实例中，开放的侧面，即，反射体层16的不包含外部层的表面对于随角异色可以是有利的。在另一个方面中，如图7和图8中示出的，物品10可以包括不开放的反射体层16和/或slml层14，即，在侧面表面诸如反射体层16和/或slml层14的侧面表面的外部具有方位层12、12’的反射体层16和/或slml层14。在另一个方面中，反射体层16、slml14和/或方位层12的任何表面还可以包括包含功能分子的功能层(未示出)。

在一个方面中，物品10诸如光学器件可以包括具有第一颜色的反射体层16诸如有色的反射体层；并且选择性光调制剂层14具有与第一颜色相同的第二颜色，如图1中示出的。例如，反射体层16可以是红色的，并且选择性光调制剂层也可以是红色的。

在另一个方面中，物品10诸如光学器件可以包括具有第一颜色的反射体层16诸如有色的反射体层；并且选择性光调制剂层14具有与第一颜色不同的第二颜色，同样如图1中示出的。例如，反射体层16可以是红色的，并且选择性光调制剂层14可以是蓝色的。

物品10诸如光学器件可以包括作为第一选择性光调制剂层14的选择性光调制剂层14；并且还可以包括第二选择性光调制剂层14’。第一选择性光调制剂层14存在于反射体层16的第一表面上，并且第二选择性光调制剂层14’存在于反射体层16的第二表面上，如图2中示出的。第一选择性光调制剂层14和第二选择性光调制剂层14’中的每一个可以具有相同或不同的颜色。另外，反射体层16可以是有色的反射体层16，所述有色的反射体层16具有与第一选择性光调制剂层14和第二选择性光调制剂层14’中的每一个相同或不同的颜色。例如，第一选择性光调制剂层14可以是第二颜色红色，反射体层可以是第一颜色蓝色，并且第二选择性光调制剂层14’可以是红色的。在另一个方面中，第一选择性光调制剂层14可以是第二颜色红色，反射体层可以包括铜并且可以是第一颜色红色(可能具有不同的色调)，并且第二选择性光调制剂层14’可以是红色的。在另外的方面中，第一选择性光调制剂层14可以是第二颜色红色，反射体层可以是第一颜色蓝色，并且第二选择性光调制剂层14’可以是黄色的。

如图3-8中示出的，物品10可以表现出金属效果，因为物品诸如薄片或光学器件的边缘可以充当二次颜色限定特征，诸如方位颜色属性。在一个方面中，物品10可以包括反射体层16，所述反射体层16具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、第三表面和与第三表面相对的第四表面；以及第一选择性光调制剂层14，所述第一选择性光调制剂层14在反射体层16的第一表面的外部；其中反射体层16的第三表面和第四表面中的至少一个包括方位调制剂层12。物品10还可以包括第二选择性光调制剂层14’，所述第二选择性光调制剂层14’在反射体层16的第二表面的外部。反射体层16可以如以上描述。第一选择性光调制剂层14、第二选择性光调制剂层14’、第一方位调制剂层12和第二方位调制剂层12’可以如以下描述。

第一选择性光调制剂层14可以为物品10诸如光学器件提供第一颜色属性。例如，第一选择性调制剂层14可以为光学器件提供红色颜色。第一颜色属性可以以第一视角呈现。

方位调制剂层12、12’可以为物品10诸如光学器件提供第二颜色属性。例如，方位调制剂层12、12’可以为光学器件提供黑色颜色。第二颜色属性可以以第二视角呈现，其中第二视角不同于第一视角。第二颜色属性可以不同于第一颜色属性。方位调制剂层12、12’可以允许将诸如从不同于法线的视角可见的颜色色调引入物品10，物品10可以具有由选择性光调制剂层14限定的它们的第一颜色属性。

如图3中示出的，物品10可以包括：反射体层16；选择性光调制剂层14，所述选择性光调制剂层14在反射体层16的第一表面的外部；以及方位调制剂层12，所述方位调制剂层12在反射体层16的第三表面的外部。在一个方面中，方位调制剂层12可以保护反射体层16的第三表面和第四表面中的至少一个。与反射体层16的第一表面相对的第二表面和与反射体层16的第三表面相对的第四表面可以是对空气开放的。反射体层16可以如以上描述。在一个方面中，反射体层16可以包括有色材料。

如图4中示出的，物品10可以包括：反射体层16；第一选择性光调制剂层14，所述第一选择性光调制剂层14在反射体层16的第一表面的外部；第二选择性光调制剂层14’，所述第二选择性光调制剂层14’在反射体层16的第二表面的外部；以及方位调制剂层12，所述方位调制剂层12在反射体层16的第三表面的外部。在一个方面中，方位调制剂层12可以保护反射体层16的第三表面和第四表面中的至少一个。与反射体层16的第三表面相对的第四表面可以是对空气开放的。反射体层16可以如以上描述。在一个方面中，反射体层16可以包括有色材料。

如图5中示出的，物品10可以包括：反射体层16；第一选择性光调制剂层14，所述第一选择性光调制剂层14在反射体层16的第一表面的外部；第一方位调制剂层12，所述第一方位调制剂层12在反射体层16的第三表面的外部；以及第二方位调制剂层12’，所述第二方位调制剂层12’在反射体层16的第四表面的外部。在一个方面中，第一方位调制剂层12和第二方位调制剂层12’中的至少一个可以保护反射体层16的第三表面和第四表面中的至少一个。与反射体层16的第一表面相对的第二表面可以是对空气开放的。反射体层16可以如以上描述。在一个方面中，反射体层16可以包括有色材料。

如图6中示出的，物品10可以包括反射体层16；第一选择性光调制剂层14，所述第一选择性光调制剂层14在反射体层16的第一表面的外部；第二选择性光调制剂层14’，所述第二选择性光调制剂层14’在反射体层16的第二表面的外部；第一方位调制剂层12，所述第一方位调制剂层12在反射体层16的第三表面的外部；以及第二方位调制剂层12’，所述第二方位调制剂层12’在反射体层16的第四表面的外部。在一个方面中，第一方位调制剂层12和第二方位调制剂层12’中的至少一个可以保护反射体层16的第三表面和第四表面中的至少一个。反射体层16可以如以上描述。在一个方面中，反射体层16可以包括有色材料。

如图7中示出的，物品10可以包括反射体层16；第一选择性光调制剂层14，所述第一选择性光调制剂层14在反射体层16的第一表面的外部；第一方位调制剂层12，所述第一方位调制剂层12在反射体层16的第三表面的外部和第一选择性光调制剂层14的第三表面的外部；以及第二方位调制剂层12’，所述第二方位调制剂层12’在反射体层16的第四表面的外部和第一选择性光调制剂层14的第四表面的外部。第一选择性光调制剂层14可以具有第一表面；与第一表面相对的第二表面；第三表面；以及与第三表面相对的第四表面。在一个方面中，第一方位调制剂层12和第二方位调制剂层12’中的至少一个可以保护以下中的至少一个：反射体层16的第三表面、反射体层16的第四表面、第一选择性光调制剂层14的第三表面和第一选择性光调制剂层14的第四表面。反射体层16可以如以上描述。在一个方面中，反射体层16可以包括有色材料。

如图8中示出的，物品10可以包括反射体层16；第一选择性光调制剂层14，所述第一选择性光调制剂层14在反射体层16的第一表面的外部；第二选择性光调制剂层14’，所述第二选择性光调制剂层14’在反射体层16的第二表面的外部；第一方位调制剂层12，所述第一方位调制剂层12在反射体层16的第三表面的外部、在第一选择性光调制剂层14的第三表面的外部并且在第二选择性光调制剂层14’的第三表面的外部；以及第二方位调制剂层12’，所述第二方位调制剂层12’在反射体层16的第四表面的外部、在第一选择性光调制剂层14的第四表面的外部并且在第二选择性光调制剂层14’的第四表面的外部。第一选择性光调制剂层14和第二选择性光调制剂层14’可以各自独立地具有第一表面；与第一表面相对的第二表面；第三表面；以及与第三表面相对的第四表面。在一个方面中，第一方位调制剂层12和第二方位调制剂层12’中的至少一个可以保护以下中的至少一个：反射体层16的第三表面、反射体层16的第四表面、第一选择性光调制剂层14的第三表面、第一选择性光调制剂层14的第四表面、第二选择性光调制剂层14’的第三表面和第二选择性光调制剂层14’的第四表面。反射体层16可以如以上描述。在一个方面中，反射体层16可以包括有色材料。

关于图3-8，方位调制剂层12、12’可以包括化学地转化成有色化合物的金属，如以上关于反射体层16所公开的。在一个方面中，方位调制剂层12、12’还可以包括颜料和有机染料中的至少一种。方位调制剂层12、12’可以保护物品10的表面免受腐蚀。

本文公开的物品10可以包括第一选择性光调制剂层(slml)14和/或第二选择性光调制剂层14’。slml是包括多种光学功能的物理层，所述光学功能旨在调制(吸收和/或发射)具有在从约0.2μm至约20μm的范围内的波长的电磁辐射的光谱的不同的、选定区域的光强度。物品10可以包括不对称层结构，其中slml14可以借助于由选择性slms提供的吸收来选择性地调制光(下文更详细地讨论的)。特别地，物品10可以包括slml14，所述slml14选择性地吸收特定波长的能量例如光。

slml14(和/或在slml14内的材料)可以选择性地调制光。例如，slml14可以控制特定波长中的透射的量。在某些实例中，slml14可以选择性地吸收特定波长的能量(例如，在可见光范围和/或非可见光范围内)。例如，slml14可以是“有色层”和/或“波长选择性吸收层”。在某些实例中，吸收的特定波长可以引起物品10呈现特定的颜色。例如，slml14可以向人眼呈现红色(例如，slml14可以吸收低于约620nm的光波长，并且从而反射或透射呈现红色的能量波长)。这可以通过将为着色剂(例如，有机颜料和/或无机颜料和/或染料)的选择性光调制剂颗粒(slmp)添加至主体材料(hostmaterial)例如介电材料来完成，所述介电材料包括但不限于聚合物。例如，在一些实例中，slml14可以是有色塑料。

在一些实例中，吸收的特定波长中的某些或全部可以在可见光范围内(例如，slml14可以在整个可见光中是吸收性的，但在红外中是透明的)。产生的物品10将呈现黑色，但反射红外中的光。在上文描述的某些实例中，物品10和/或slml14的吸收的波长(和/或特定的可见光颜色)可以至少部分地取决于slml14的厚度。另外或可选择地，由slml14吸收的能量波长(和/或这些层和/或薄片在其中呈现的颜色)可以部分地取决于某些方面向slml14的添加。除了吸收某些波长的能量之外，slml14可以实现以下中的至少一种：增强反射体层16抵抗降解；使得能够从基底中释放；使得能够定制尺寸(sizing)；提供对于环境降解诸如反射体层16中使用的铝或其他金属和材料的氧化的一定抗性；以及基于slml14的组成和厚度的光的透射、反射和吸收的高性能。

在一些实例中，除了slml14选择性地吸收特定波长的能量和/或特定波长的可见光之外或者作为slml14选择性地吸收特定波长的能量和/或特定波长的可见光的备选方案，物品10的slml14可以控制折射率和/或slml14可以包括可以控制折射率的选择性光调制剂颗粒(slmp)。除了吸收控制slmp(例如着色剂)之外或作为吸收控制slmp的备选方案，可以控制slml14的折射率的slmp可以与主体材料一起被包括。在某些实例中，主体材料可以在slml14中与吸收控制slmp和折射率控制slmp两者组合。在某些实例中，相同的slmp可以控制吸收和折射率两者。

slml14的性能可以基于slml14中存在的材料的选择来确定。在一个方面中，slml14可以改善以下性质中的至少一种：物品10内的任何其他层例如反射体层16的薄片处理、腐蚀、对齐和环境性能。

第一slml14(和任选地第二slml14、第三slml14、第四slml14等)可以各自独立地包括单独的主体材料，或与选择性光调制剂体系(slms)组合的主体材料。在一个方面中，第一slml14中的至少一个可以包括主体材料。在另一个方面中，第一slml14中的至少一个可以包括主体材料和slms。slms可以包括选择性光调制剂分子(slmm)、选择性光调制剂颗粒(slmp)、添加剂或其组合。

slml14的组合物可以具有在从约0.01％至约100％的范围内，例如从约0.05％至约80％的范围内，并且作为另外的实例从约1％至约30％的范围内的固体含量。在某些方面中，固体含量可以大于3％。在某些方面中，slml14的组合物可以具有在从约3％至约100％的范围内，例如从约4％至50％的范围内的固体含量。

第一slml14的主体材料可以独立地是作为涂布液体应用的并且用于光学目的和结构目的的膜形成材料。主体材料可以被用作主体(基质)，用于引入(如有必要)客体体系例如选择性光调制剂体系(slms)，以用于向物品10提供另外的光调制剂性质。

主体材料可以是介电材料。另外或可选择地，主体材料可以是有机聚合物、无机聚合物和复合材料中的至少一种。有机聚合物的非限制性实例包括热塑性塑料，例如聚酯、聚烯烃、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚氨酯、丙烯酸类(acrylics)、丙烯酸酯、聚乙烯酯、聚醚、聚硫醇、有机硅、碳氟化合物(fluorocarbon)及其各种共聚物；热固性材料，例如环氧树脂、聚氨酯、丙烯酸酯、蜜胺甲醛、脲醛树脂(ureaformaldehyde)和酚醛树脂；以及能量可固化材料(energycurablematerial)，例如丙烯酸酯、环氧树脂、乙烯化合物(vinyls)、乙烯基酯、苯乙烯和硅烷。无机聚合物的非限制性实例包括硅烷、硅氧烷、钛酸盐、锆酸盐、铝酸盐、硅酸盐、磷氮烷(phosphazane)、聚硼氨(polyborazylene)以及聚氮化硫(polythiazyl)。

第一slml14可以包括按重量计从约0.001％至约100％的主体材料。在一个方面中，主体材料可以以按slml14的重量计在从约0.01％至约95％的范围内、例如从约0.1％至约90％的范围内，并且作为另外的实例，按slml14的重量计从约1％至约87％的范围内的量存在于slml14中。

用于在具有主体材料的slml14中使用的slms可以各自独立地包括选择性光调制剂颗粒(slmp)、选择性光调制剂分子(slmm)、添加剂或其组合。slms还可以包括其他材料。slms可以提供在选择性区域或感兴趣的整个光谱范围(0.2μm至20μm)内调制(通过吸收、反射比、荧光等)电磁辐射的幅度。

第一slml14可以各自独立地包括slms中的slmp。slmp可以是与主体材料组合以选择性地控制光调制的任何颗粒，包括但不限于色移颗粒(colorshiftingparticle)；染料；着色剂，着色剂包括以下中的一种或更多种：染料、颜料、反射颜料、色移颜料；量子点和选择性反射体。slmp的非限制性实例包括：有机颜料、无机颜料、量子点、纳米颗粒(选择性地反射和/或吸收)、胶束等。纳米颗粒可以包括但不限于具有高折射率值(在约550nm的波长n>1.6)的有机材料和金属有机材料；金属氧化物，诸如tio2、zro2、in2o3、in2o3-sno、sno2、fexoy(其中x和y各自独立地是大于0的整数)和wo3；金属硫化物，诸如zns和cuxsy(其中x和y各自独立地是大于0的整数)；硫属化合物、量子点、金属纳米颗粒；碳酸盐；氟化物；及其混合物。

slmm的实例包括但不限于：有机染料、无机染料、胶束和包含发色团的其他分子体系。

在某些方面中，第一slml14的slms可以包括至少一种添加剂，诸如固化剂和涂层助剂(coatingaid)。

固化剂可以是可以引发主体材料的硬化、玻璃化(vitrification)、交联或聚合的化合物或材料。固化剂的非限制性实例包括溶剂、自由基生成剂(radicalgenerator)(通过能量或化学品)、酸生成剂(acidgenerator)(通过能量或化学品)、缩合引发剂和酸/碱催化剂。

涂层助剂的非限制性实例包括流平剂(levelingagent)、湿润剂、去泡剂、粘合促进剂、抗氧化剂、uv稳定剂、固化抑制缓解剂(curinginhibitionmitigatingagent)、防污剂、腐蚀抑制剂、光敏剂、二次交联剂(secondarycrosslinkers)和用于增强的红外干燥的红外吸收剂。在一个方面中，抗氧化剂可以以在按重量计从约25ppm至约5％的范围内的量存在于slml14的组合物中。

第一slml14可以各自独立地包含溶剂。溶剂的非限制性实例可以包括乙酸酯，诸如乙酸乙酯、乙酸丙酯和乙酸丁酯；丙酮；水；酮，诸如二甲基酮(dmk)、甲基乙基酮(mek)、仲丁基甲基酮(sbmk)、叔丁基甲基酮(tbmk)、环戊酮和茴香醚；二醇和二醇衍生物，诸如丙二醇甲醚(propyleneglycolmethylether)和丙二醇甲醚乙酸酯(propyleneglycolmethyletheracetate)；醇，诸如异丙醇和二丙酮醇；酯，诸如丙二酸酯；杂环溶剂，诸如n-甲基吡咯烷酮；烃，诸如甲苯和二甲苯；聚结溶剂，诸如乙二醇醚；以及其混合物。在一个方面中，溶剂可以以相对于slml14的总重量在按重量计从约0％至约99.9％的范围内、例如从约0.005％至约99％的范围内并且作为另外的实例从约0.05％至约90％的范围内的量存在于第一slml14中。

在某些实例中，第一slml14可以包括具有以下中的至少一种的组合物：(i)光引发剂，(ii)氧抑制缓解组合物(oxygeninhibitionmitigationcomposition)，(iii)流平剂，和(iv)去泡剂。

氧抑制缓解组合物可以被用于缓解自由基材料的氧抑制。分子氧可以猝灭光引发剂敏化剂的三重态，或它可以清除自由基，所述自由基导致降低的涂层性质和/或未固化的液体表面。氧抑制缓解组合物可以减少氧抑制或可以改善任何slml14的固化。

氧抑制组合物可以包含多于一种化合物。氧抑制缓解组合物可以包含至少一种丙烯酸酯，例如至少一种丙烯酸酯单体和至少一种丙烯酸酯低聚物。在一个方面中，氧抑制缓解组合物可以包含至少一种丙烯酸酯单体和两种丙烯酸酯低聚物。用于在氧抑制缓解组合物中使用的丙烯酸酯的非限制性实例可以包括丙烯酸酯；甲基丙烯酸酯；环氧丙烯酸酯，例如改性的环氧丙烯酸酯；聚酯丙烯酸酯，例如酸官能聚酯丙烯酸酯、四官能聚酯丙烯酸酯(tetrafunctionalpolyesteracrylate)、改性的聚酯丙烯酸酯和生物来源的聚酯丙烯酸酯；聚醚丙烯酸酯，例如胺改性的聚醚丙烯酸酯，包括胺官能丙烯酸酯助引发剂和叔胺助引发剂；氨基甲酸酯丙烯酸酯，例如芳香族氨基甲酸酯丙烯酸酯、改性的脂肪族氨基甲酸酯丙烯酸酯、脂肪族氨基甲酸酯丙烯酸酯和基于脂肪族脲基甲酸酯的氨基甲酸酯丙烯酸酯；以及其单体和低聚物。在一个方面中，氧抑制缓解组合物可以包含至少一种丙烯酸酯低聚物，例如两种低聚物。至少一种丙烯酸酯低聚物可以选自(selectfrom)/选自(choosefrom)聚酯丙烯酸酯和聚醚丙烯酸酯，例如巯基改性的聚酯丙烯酸酯和胺改性的聚醚四丙烯酸酯。氧抑制缓解组合物还可以包含至少一种单体，例如1,6-己二醇二丙烯酸酯。氧抑制缓解组合物可以以相对于slml14的总重量在按重量计从约5％至约95％的范围内、例如从约10％至约90％的范围内并且作为另外的实例从约15％至约85％的范围内的量存在于第一slml14中。

在某些实例中，slml14的主体材料可以使用非自由基固化体系，例如阳离子体系。阳离子体系对于自由基过程的氧抑制的缓解较不敏感，并且因此可以不需要氧抑制缓解组合物。在一个实例中，单体3-乙基-3-羟甲基氧杂环丁烷的使用不需要氧缓解组合物。

在一个方面中，第一slml14可以各自独立地包含至少一种光引发剂，例如两种光引发剂或三种光引发剂。光引发剂可以被用于较短的波长。光引发剂对于光化波长(actinicwavelength)可以是活性的。光引发剂可以是i型光引发剂或ii型光引发剂。slml14可以包括仅i型光引发剂、仅ii型光引发剂或i型光引发剂和ii型光引发剂两者的组合。光引发剂可以以相对于slml14的组合物的总重量在按重量计从约0.25％至约15％的范围内、例如从约0.5％至约10％的范围内并且作为另外的实例从约1％至约5％的范围内的量存在于slml14的组合物中。

光引发剂可以是氧化膦。氧化膦可以包括但不限于单酰基氧化膦和双酰基氧化膦。单酰基氧化膦可以是二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦。双酰基氧化膦可以是双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦。在一个方面中，至少一种氧化膦可以存在于slml14的组合物中。例如，两种氧化膦可以存在于slml14的组合物中。

敏化剂可以存在于slml14的组合物中，并且可以充当用于i型光引发剂和/或ii型光引发剂的敏化剂。敏化剂还可以充当ii型光引发剂。在一个方面中，敏化剂可以以相对于slml14的组合物的总重量在按重量计从约0.05％至约10％的范围内、例如从约0.1％至约7％的范围内并且作为另外的实例从约1％至约5％的范围内的量存在于slml14的组合物中。敏化剂可以是噻吨酮，例如1-氯-4-丙氧基噻吨酮。

在一个方面中，slml14可以包含流平剂。流平剂可以是聚丙烯酸酯。流平剂可以消除slml14的组合物的成坑(cratering)。流平剂可以以相对于slml14的组合物的总重量在按重量计从约0.05％至约10％的范围内、例如从约1％至约7％的范围内并且作为另外的实例从约2％至约5％的范围内的量存在于slml14的组合物中。

第一slml14还可以包含去泡剂。去泡剂可以减小表面张力。去泡剂可以是不含有机硅的液体有机聚合物。去泡剂可以以相对于slml14的组合物的总重量在按重量计从约0.05％至约5％的范围内、例如从约0.2％至约4％的范围内并且作为另外的实例从约0.4％至约3％的范围内的量存在于slml14的组合物中。

第一slml14可以各自独立地具有大于或小于约1.5的折射率。例如，每个slml14’可以具有约1.5的折射率。每个slml14的折射率可以被选择以提供所需的颜色行进(colortravel)程度，其中颜色行进可以被定义为在l*a*b*颜色空间中测量的色调角随着视角的变化。在某些实例中，每个slml14可以包括在从约1.1至约3.0、约1.0至约1.3或约1.1至约1.2的范围内的折射率。在某些实例中，每个slml14的折射率可以小于约1.5、小于约1.3或小于约1.2。在某些实例中，如果多于一个slml存在于物品10中，那么slml14可以具有大体上相等的折射率或彼此不同的折射率。

第一slml14可以具有在从约1nm至约10000nm、约10nm至约1000nm、约20nm至约500nm、约1nm至约100nm、约10nm至约1000nm、约1nm至约5000nm的范围内的厚度。在一个方面中，物品10例如光学器件，可以具有1:1至1:50厚度与宽度的纵横比。

然而，本文描述的物品10的益处中的一种是，在某些实例中，光学效果呈现对厚度变化相对不敏感。因此，在某些方面中，每个slml14可以独立地具有小于约5％的光学厚度的变化。在一个方面中，每个slml14可以独立地包括横跨层的小于约3％的光学厚度变化。在一个方面中，每个slml14可以独立地具有小于约1％的横跨具有约50nm的厚度的层的光学厚度的变化。

在一个方面中，物品10，例如呈薄片、箔或片材的形式的光学器件，还可以包括基底和/或释放层。在一个方面中，释放层可以被布置在基底和物品10之间。

另外或可选择地，呈薄片、片材或箔的形式的物品10还可以包括物品10上的硬涂层或保护层。在某些实例中，这些层(硬涂层或保护层)不需要光学品质(opticalquality)。

本文描述的物品10例如光学器件，可以以任何方式制造。例如，片材可以被制造并且然后划分、破坏、研磨等成较小的件，形成光学器件。在某些实例中，片材可以通过液体涂布工艺来产生，所述液体涂布工艺包括但不限于下文和/或参考图9描述的工艺。

公开了用于制造如本文描述的例如呈片材、薄片或箔的形式的物品10的方法。该方法可以包括在基底上沉积有色的反射体层16；使用液体涂布工艺将选择性光调制剂层14沉积到有色的反射体层16上。选择性光调制剂层14可以是第一选择性光调制剂层，并且该方法还可以包括在基底和有色的反射体层16之间沉积第二选择性光调制剂层14’。

有色的反射体层16不经受钝化。有色的反射体层可以改善选择性光调制剂层14的颜色属性。有色的反射体层16可以控制气体处理(gassing)。有色的反射体层16可以使用物理气相沉积工艺来沉积。有色的反射体层16可以包括有色金属、有色金属合金、有色非金属和化学地转化成有色化合物的金属。有色的反射体层16可以是选自铜、金和青铜的有色金属。化学地转化成有色化合物的金属包括铝和不锈钢。有色的反射体层16可以包括有色非金属，有色非金属包括聚乙炔和有机材料。

在另一个方面中，公开了制造物品10诸如光学器件的方法，该方法包括在基底上沉积反射体层16，所述反射体层16具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、第三表面和与第三表面相对的第四表面；在反射体层16的第一表面上沉积第一选择性光调制剂层14；以及在反射体层16的第三表面和第四表面中的至少一个上提供方位调制剂层12。该方法还可以包括在基底和反射体层16之间沉积第二选择性光调制剂层14’。方位调制剂层12、12’可以抑制反射体层16的腐蚀。第一选择性光调制剂层14和第二选择性光调制剂层14’可以提供第一颜色属性，并且方位调制剂层12、12’可以提供不同于第一颜色属性的第二颜色属性。方位调制剂层12、12’可以包括反射体层16的化学地转化的部分。方位调制剂层12、12’可以包括颜料和有机染料。

在该方法中，基底可以包括释放层。在公开的方法中，反射体层16可以使用已知的常规沉积工艺来沉积，诸如物理气相沉积、化学气相沉积、薄膜沉积、原子层沉积等，包括修改的技术，诸如等离子体增强和流化床(plasmaenhancedandfluidizedbed)。

基底可以由柔性材料制成。基底可以是可以接收沉积层的任何合适的材料。合适的基底材料的非限制性实例包括聚合物网，诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)，玻璃箔，玻璃片材，聚合物箔，聚合物片材、金属箔，金属片材，陶瓷箔，陶瓷片材，离子液体，纸，硅片等。基底在厚度上可以变化，但可以例如在从约2μm至约100μm的范围内，并且作为另外的实例从约10μm至约50μm的范围内。

第一slml14和/或第二slml14’可以通过液体涂布工艺例如槽模工艺(slotdieprocess)来沉积。液体涂布工艺可以包括但不限于：以单层和多层涂布的槽珠(slot-bead)涂布工艺、滑珠(slidebead)涂布工艺、槽幕(slotcurtain)涂布工艺、滑幕(slidecurtain)涂布工艺，张力网槽(tensionedwebslot)涂布工艺、凹版印刷涂布工艺、辊涂工艺以及将液体应用到基底或先前沉积的层上以形成随后干燥和/或固化的液体层或膜的其他液体涂布和印刷工艺。

然后，基底可以从沉积层释放，以产生物品10。在一个方面中，基底可以被冷却以脆化相关联的释放层(如果存在)。在另一个方面中，释放层可以例如通过用光子能量或电子束能量加热和/或固化以增加交联度被脆化，这将能够实现剥离。然后，沉积层可以被机械地剥离，例如将表面急剧弯曲或涂刷(brush)。使用已知技术，可以将释放层和剥离层定制尺寸成物品10，例如呈薄片、箔或片材的形式的光学器件。

在另一个方面中，沉积层可以从基底转移至另一个表面。沉积层可以被冲压或切割以产生具有明确定义的尺寸和形状的大薄片。

与其他沉积技术例如气相沉积相比，液体涂布工艺可以允许slml14、14’的组合物以较快的速率转移。另外，液体涂布工艺可以允许通过简单的设备设置在slml14,14’中使用更广泛的材料。据信，使用公开的液体涂布工艺形成的slml14、14’可以呈现出改善的光学性能。

图9图示使用液体涂布工艺形成层。层的组合物例如slml14(液体涂布组合物)可以插入到槽模(slotdie)320中，并且沉积在基底340上，产生湿膜(wetfilm)。参考上文公开的工艺，基底340可以包括以下中的至少一种：基底、释放层、反射体层16以及先前沉积的层。从槽模320的底部到基底340的距离是槽间隙(slotgap)g。如可以在图9中看到的，液体涂布组合物可以以大于干膜厚度h的湿膜厚度d被沉积。在液体涂布组合物的湿膜已经被沉积在基底340上之后，液体涂布组合物的湿膜中存在的任何溶剂可以被蒸发。液体涂布工艺继续液体涂布组合物的湿膜的固化，以产生具有正确的光学厚度h(在从约30nm至约700nm的范围内)的固化的、自流平的层。据信，液体涂布组合物自流平的能力产生具有横跨层减小的光学厚度变化的层。最终，包含自流平液体涂布组合物的物品10例如光学器件，可以呈现出增大的光学精度。为了便于理解，术语“湿膜”和“干膜”将用于指液体涂布工艺的不同阶段的液体涂布组合物。

液体涂布工艺可以包括调节涂布速度和槽间隙g中的至少一个，以实现具有预先确定的厚度d的湿膜。液体涂布组合物可以被沉积成具有湿膜厚度d，该湿膜厚度d在从约0.1μm至约500μm的范围内，例如从约0.1μm至约5μm的范围内。形成有在公开的范围内的湿膜厚度d的液体涂布组合物可以产生稳定的slml层，诸如介电层，即，没有断裂或缺陷，诸如凸纹(ribbing)或条纹(streak)。在一个方面中，对于使用具有高达约100m/min的涂布速度的槽模珠模式(slotdiebeadmode)的稳定湿膜，湿膜可以具有约10μm的厚度。在另一个方面中，对于使用具有高达约1200m/min的涂布速度的槽模幕模式(slotdiecurtainmode)的稳定湿膜，湿膜可以具有约6-7μm的厚度。

液体涂布工艺可以包括以从约0.1m/min至约1000m/min的速度的约1至约100的槽间隙g与湿膜厚度d的比率。在一个方面中，以约100m/min的涂布速度，比率是约9。在一个方面中，以约50m/min的涂布速度，比率可以是约20。液体涂布工艺可以具有在从约0μm至约1000μm的范围内的槽间隙g。较小的槽间隙g可以允许减小的湿膜厚度。在槽珠模式中，较高的涂布速度可以实现具有大于10μm的湿膜厚度。

液体涂布工艺可以具有在从约0.1m/min至约1000m/min的范围内，例如从约25m/min至约950m/min的范围内，例如从约100m/min至约900m/min的范围内并且作为另外的实例从约200m/min至约850m/min的范围内的涂布速度。在一个方面中，涂布速度大于约150m/min，并且在另外的实例中大于约500m/min。

在一个方面中，用于珠模式液体涂布工艺的涂布速度可以在从约0.1m/min至约600m/min的范围内，并且例如从约50m/min至约150m/min的范围内。在另一个方面中，用于幕模式液体涂布工艺的涂布速度可以在从约200m/min至约1500m/min的范围内，并且例如从约300m/min至约1200m/min的范围内。

如图9中示出的，溶剂可以从湿膜中蒸发，例如在湿膜被固化之前。在一个方面中，在将液体涂布组合物固化之前，约100％，例如约99.9％，并且作为另外的实例约99.8％的溶剂可以从液体涂布组合物中被蒸发。在另外的方面中，微量的溶剂可以存在于固化的/干燥的液体涂布组合物中。在一个方面中，具有较大原始重量百分比的溶剂的湿膜可以产生具有减小的膜厚度h的干膜。特别地，具有高重量百分比的溶剂并且以高的湿膜厚度d沉积的湿膜可以产生具有低干膜厚度h的液体涂布组合物，诸如slml14。重要的是应注意，在将溶剂蒸发之后，湿膜保持为液体，从而避免液体涂布工艺中的随后的固化步骤期间诸如结皮(skinning)和岛状物形成(islandformation)的问题。

湿膜的动态粘度可以在从约0.5cp至约50cp的范围内，例如从约1cp至约45cp的范围内，并且作为另外的实例从约2cp至约40cp的范围内。粘度测量温度是25℃，使用以0.025mm的间隙设置的具有0.3°角度的40mm直径圆锥体/板，用装配有溶剂阱(solventtrap)的antonpaarmcr101流变仪测量流变学。

在一个方面中，液体涂布组合物和溶剂可以被选择，使得对于使用液体涂布工艺的液体涂布组合物的精密涂布(precisioncoating)，湿膜呈现出牛顿行为(newtonianbehavior)。湿膜可以呈现出高达10,000s^-1和更高的牛顿行为剪切速率。在一个方面中，对于高达25m/min的涂布速度，用于液体涂布工艺的剪切速率可以是1000s^-1，例如对于高达100m/min的涂布速度，剪切速率可以是3900s^-1，并且作为另外的实例，对于高达200m/min的涂布速度，剪切速率可以是7900s^-1。将理解，最大剪切速率可以在非常薄的湿膜例如1μm厚的湿膜上发生。

随着湿膜厚度增加，可以预计剪切速率降低，例如对于10μm湿膜，降低15％，并且作为另外的实例，对于20μm湿膜，降低30％。

溶剂从湿膜中蒸发可以引起粘度行为变化成假塑性，这可以有益于实现精密slml14。在任何溶剂已经被蒸发之后，沉积的第一slml14和第二slml14’的动态粘度可以在从约10cp至约3000cp的范围内，例如从约20cp至约2500cp的范围内，并且作为另外的实例从约30cp至约2000cp的范围内。当将溶剂(如果存在)从湿膜中蒸发时，可以存在假塑性行为的粘度增加。假塑性行为可以允许湿膜的自流平。

在一个方面中，该方法可以包括使用已知技术蒸发存在于湿膜中的溶剂。蒸发溶剂所需的时间的量可以取决于网/基底的速度和干燥器容量。在一个方面中，干燥器(未示出)的温度可以小于约120℃，例如小于约100℃，并且作为另外的实例，小于约80℃。

可以使用已知技术来固化使用液体涂布工艺沉积的湿膜。在一个方面中，可以使用固化剂，利用紫外光、可见光、红外或电子束中的至少一种来固化湿膜。固化可以在惰性气氛或环境气氛中进行。在一个方面中，固化步骤利用具有约395nm的波长的紫外光源。紫外光源可以以在从约200mj/cm²至约1000mj/cm²的范围内，例如在从约250mj/cm²至约900mj/cm²的范围内，并且作为另外的实例在从约300mj/cm²至约850mj/cm²的范围内的剂量被应用至湿膜。

湿膜可以通过已知技术来交联。非限制性实例包括光诱导的聚合，例如自由基聚合、光谱敏化光诱导的自由基聚合、光诱导的阳离子聚合、光谱敏化光诱导的阳离子聚合和光诱导的环加成；电子束诱导的聚合，例如电子束诱导的自由基聚合、电子束诱导的阳离子聚合和电子束诱导的环加成；以及热诱导的聚合，例如热诱导的阳离子聚合。

使用液体涂布工艺形成的slml14、14’可以呈现出改善的光学性能，即，是精密slml。在某些实例中，精密slml14、14’可以被理解成意指具有横跨层小于约3％光学厚度变化、约5％光学厚度变化或约7％光学厚度变化的slml。

在一个方面中，液体涂布工艺可以包括调节以下中的至少一种：从约5m/min至约100m/min的速度和从约50μm至约100μm的涂布间隙，以沉积选择性光调制剂层的从约2μm至10μm的湿膜，所述选择性光调制剂层具有从约500nm至约1500nm的预先确定的厚度。在另外的方面中，该工艺可以包括30m/min的速度、75μm间隙、10μm湿膜、1.25μm干膜厚度。

上文描述的和例如在附图中图示的物品10可以通过以下实例进一步描述。在一个实例中，物品10可以包括选择性光调制剂层14，该选择性光调制剂层14可以包括使用溶剂染料作为slmm的脂环族环氧树脂主体，并且反射体层16可以包括铝。

在一个实例中，物品10可以包括第一slml14，该第一slml14包括使用二酮吡咯并吡咯(diketopyrrolopyrrole)不溶性红色染料作为slmp的脂肪族环氧树脂主体，并且反射体层16可以包括铝。

在一个实例中，物品10可以包括第一slml14，该第一slml14包括使用白色颜料(二氧化钛)作为slmp的丙烯酸酯低聚物树脂主体。

在一个实例中，物品10可以包括slml14，该slml14包括使用黑色ir透明颜料作为slmp的丙烯酸酯低聚物树脂主体，并且反射体层16可以包括铝。

在一个实例中，物品10可以包括方位层12，该方位层12包括用于第一slml14侧面和反射体层16(金属和非金属)侧面两者的表面选择性染料染色。在一个方面中，物品10还可以包括在第一选择性光调制剂层14和第二选择性光调制剂层14’两者的第二表面上的功能层，以防止外表面(slml14、14’的第二表面)的染料染色。

在一个实例中，物品10可以包括方位层12，该方位层12包括颜料薄片的周边上的金属的选择性装饰性阳极化。

在一个实例中，物品10可以包括方位层12，该方位层12包括第一光调制剂层14和/或第二光调制剂层14’的选择性染料染色。

在一个实例中，物品10可以包括方位层12，该方位层12包括两种有区别的颜色，一种颜色是通过金属的选择性装饰性阳极化，一种颜色是通过第一选择性光调制剂层14和/或反射体层16的选择性染料染色。

在一个方面中，公开了一种制造光学器件的方法，包括：在基底上沉积反射体层，所述反射体层具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、第三表面和与第三表面相对的第四表面；在所述反射体层的第一表面上沉积第一选择性光调制剂层；以及在所述反射体层的第三表面和第四表面中的至少一个上提供方位调制剂层。在某些实例中，所述方法还包括在所述基底和所述反射体层之间沉积第二选择性光调制剂层。在某些实例中，所述方位调制剂层抑制所述反射体层的腐蚀。在某些实例中，所述第一选择性光调制剂层提供第一颜色属性，并且所述方位调制剂层提供不同于所述第一颜色属性的第二颜色属性。在某些实例中，所述方位调制剂层包括所述反射体层的化学地转化的部分。在某些实例中，所述方位调制剂层包括颜料和有机染料。

从前面的描述中，本领域技术人员可以理解，本教导可以以多种形式被实施。因此，虽然已经结合其特定的实施方案和实例描述了这些教导，但本教导的真实范围不应当被如此限制。可以进行各种变化和修改，而不偏离本文中教导的范围。

此范围公开内容将被广泛地解释。意图在于，本公开内容公开了得到本文公开的器件、活动和机械动作的等效物、设备、体系和方法。对于所公开的每种器件、物品、方法、设备、机械元件或机构，意图在于本公开内容也涵盖在其公开内容中，并教导用于实践本文公开的许多方面、机构和器件的等效物、设备、体系和方法。另外，本公开内容涉及涂层及其许多方面、特征和元件。这样的器件在其使用和操作中可以是动态的，本公开内容意图涵盖使用该器件和/或制造的光学器件的等效物、设备、体系和方法，以及其与本文中公开的操作和功能的描述和精神一致的许多方面。本申请的权利要求同样将被广泛地解释。在本文中，本发明的描述在其许多实施方案中本质上仅仅是示例性的，并且因此，不偏离本发明主旨的变化意图在本发明的范围内。这样的变化不应被视为偏离本发明的精神和范围。