1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：基板和形成在所述基板上的有机膜层；所述有机膜层包括：基层材料和设置在所述基层材料中的散射颗粒，用于将入射至所述有机膜层的光线进行散射。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述基层材料的折射率和所述散射颗粒的折射率的差值的绝对值大于或等于0.2。
3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述有机膜层的光透过率大于或等于90％。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述散射颗粒的材料包括：亚克力、聚乙烯、二氧化硅、氧化铝和强反射材料中的一种。
5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述散射颗粒的形状包括：球体、柱体和多面体中的一种。
6.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述散射颗粒为球体，且直径为100nm-500nm。
7.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述有机膜层的厚度为1.5μm-2.5μm。
8.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-7任意一项所述的彩膜基板。
9.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，应用于如权利要求1-7任意一项所述的彩膜基板，所述方法包括：
制备基板及有机膜层浆料；
将所述有机膜层浆料涂覆在所述基板上，形成所述彩膜基板。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，制备所述有机膜层浆料包括：
在基层材料浆料中添加散射颗粒和分散剂；
将添加所述散射颗粒和所述分散剂的基层材料的浆料装入球磨罐中进行球磨混合，得到混合浆料；
将所述混合浆料进行循环抽滤，去除团聚的杂质后，得到所述有机膜层浆料。