检测金属信号线漏光的装置及方法与流程

本申请涉及面板检测技术领域，特别是涉及一种检测金属信号线漏光的装置及方法。

背景技术：

薄膜晶体管液晶显示器(thin-filmtransistorliquid-crystaldisplay,tft-lcd)具有体积小、功耗低、制造成本相对较低和无辐射等特点，在当前的平板显示器市场占据主导地位，广泛应用于各类电子设备，例如手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等。lcd液晶面板中，背光经过下偏振片成为线偏振光，掠过金属线边缘(gate线)时，由于金属的消偏作用，线偏振光会成为椭圆偏振光，此时会有光线可以通过上偏光片，因此会造成暗态漏光，严重影响产品的对比度。

现有技术中改善金属漏光的方法有很多，诸如改变金属线的材料(ag/al/cu)、降低金属线的厚度、降低金属线边缘的taper角等。且在实际的工艺条件验证过程中，要判断工艺改善效果，只能做成产品后才能用cs2000仪器量测面板的亮度，总共耗时约为45天，大大增加了工艺改善实验验证周期。

技术实现要素：

本申请提供一种，能够解决现有技术lcd液晶面板中检测金属漏光实验验证工艺的时间周期长等问题。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种检测金属信号线漏光的装置，所述装置包括：背光源，所述背光源用于发射光线；挡光片，设置于所述背光源的出射光路上，用于遮挡部分所述背光源发射的光线；偏振片组件，设置于所述背光源的出射光路且位于所述挡光片之后，用于改变所述光线的偏振状态，包括第一偏振片及第二偏振片，其中，包括所述金属信号线的金属膜片样本放置于所述第一偏振片及所述第二偏振片之间；感光器，设置于所述偏振组件之后，用于检测从所述偏振组件中出射的所述光线的强度。

其中，所述感光器检测到的光线的强度和所述金属信号线侧边的taper角度大小相关。

其中，所述金属信号线侧边的taper角度越大，所述感光器检测到的所述光线强度越强。

其中，所述第一偏振片及所述第二偏振片的吸收轴相互垂直。

其中，所述金属信号线的和所述第一偏振片及所述第二偏振片的吸收轴相互垂直或者平行。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种基于上述所述装置的金属信号线漏光的测量方法，所述测量方法包括：预热所述背光源，以使得所述背光源发射光线的强度稳定；打开所述感光器；将包括所述金属信号线的金属膜片样本放置于所述第一偏振片及所述第二偏振片之间；记录所述感光器的光强值，并根据所述光强值判断所述金属信号线的漏光程度。其中，所述感光器检测到的光线的强度和所述金属信号线侧边的taper角度大小相关。

其中，所述金属信号线侧边的taper角度越大，所述感光器检测到的所述光线强度越强。

其中，所述第一偏振片及所述第二偏振片的偏振的吸收轴相互垂直。

其中，所述金属信号线和所述第一偏振片及所述第二偏振片的偏振的吸收轴相互垂直或者平行。

本申请的有益效果是：提供一种检测金属信号线漏光的装置及方法，通过采用本申请的测量装置，即将包括金属信号线的金属膜片样本放置于第一偏振片及第二偏振片之间，通过测量从第二偏振片出射的光线的强度，能够快速定量评估工艺改善条件对金属信号线漏光的改善效果，大大的节省时间成本。

附图说明

为了更清楚地说明本申请的方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一个简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请检测金属信号线漏光装置一实施方式的结构示意图；

图2是本申请本申请显微镜下金属膜片样本一实施方式的结构示意图；

图3是本申请金属信号线漏光的测量方法一实施方式的流程示意图；

图4是本申请金属信号线暗态漏光的效果示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请技术领域的技术人员通常理解的含义相同；本文中在申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请；本申请的说明书和权利要求书及上述附图说明中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。本申请的说明书和权利要求书或上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。

在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

请参阅图1，图1为本申请检测金属信号线漏光的装置一实施方式的结构示意图，如图1所示，本申请提供的检测金属信号线漏光装置包括背光源110、挡光片120、偏振组件130以及感光器140。

其中，背光源110用于发射光线，本申请中背光源110可选用led，其亮度为4000nits。

可选地，挡光片120设置于所述背光源110的出射光路上，用于遮挡部分所述背光源110发射的光线。参见图1，本申请中挡光片120上设置有出光孔121，未被挡光片120遮住的光线通过所述出光孔121出射。

偏振片组件130设置于背光源110的出射光路且位于所述挡光片120之后，用于改变从挡光片120出射的光线的偏振状态。可选地，本申请中偏振组件130可以包括第一偏振片131及第二偏振片132。

可选地，本申请中第一偏振片131及第二偏振片132的结构可以包括包括最中间的聚乙烯醇(pva)，两层三醋酸纤维素(tac)，压敏胶(psafilm)，离型膜(releasefilm)以及保护膜(protectivefilm)。其中，第一偏振片131及第二偏振片132可控制特定光束的偏振方向，背光源发出的光线为自然光在通过第一偏振片131时，振动方向与第一偏振片131吸收轴垂直的光将被吸收，透过光只剩下振动方向与第一偏振片131吸收轴平行的偏振光。

本申请实施例中第一偏振片131及第二偏振片132吸收轴相互垂直，从背光源110出射的光线经过第一偏振片131后变成线偏振光，其偏振方向和第一偏振片131的吸收轴平行。因第二偏振片132吸收轴垂直于第一偏振片131的吸收轴，故不在第一偏振片131及第二偏振片132之间添加其他介质时，线偏振光不会从第二偏振片132中透过。

可选地，将本申请中包括所述金属信号线的金属膜片样本200放置于第一偏振片131及第二偏振片132之间。一并结合图2，图2为本申请显微镜下金属膜片样本一实施方式的结构示意图，如图2，图示的210即为金属信号线，且金属信号线210和所述第一偏振片131及第二偏振片132的吸收轴相互垂直或者平行。

当光线经过第一偏振片131后变成线偏振光，线偏振光掠过金属信号线210拐角处时，由于金属的消偏作用，线偏振光会成为椭圆偏振光，此时会有光线可以通过第二偏振片132造成暗态漏光。如此可直接测量从第二偏振片132出射光的光强便可知金属信号线210是否漏光，即可快速定量评估金属信号线210的工艺改善条件对金属信号线漏光的改善效果。

感光器140设置于所述偏振组件130之后，用于检测从所述偏振组件130组出射的光线的强度。其中，感光器140检测到的光线的强度和金属信号线210侧边的taper角度大小相关。在实际的应用中，不同工艺条件下的信号线，例如金属信号线210侧边taper角度不一样，漏光强度会不一样。且由实验可得，金属信号线210侧边的taper角度越大，感光器140检测到的光线强度越强。

在本申请一具体应用场景中，感光器140检测到金属信号线侧边taper角度为41°的样品其漏光强度比金属信号线侧边taper角度为55°的光强减弱8.5％。因此，采用本申请检测装置100可以快速定量评估工艺改善条件对金属漏光的改善效果，且采用本申请提供的检测装置在array的制程前段使用，且在降低金属信号线taper角度的工艺试验中，三天即可评估出工艺改善条件对金属信号线漏光的改善效果，相对于现有技术45天的工艺实验，大大的节省时间成本。

上述实施方式，通过采用本申请的测量装置，即将包括金属信号线的金属膜片样本放置于第一偏振片及第二偏振片之间，通过测量从第二偏振片出射的光线的强度，能够快速定量评估工艺改善条件对金属信号线漏光的改善效果，大大的节省时间成本。

参阅图3，图3为本申请金属信号线漏光的测量方法一实施方式的流程示意图，如图3所示，本申请的金属信号线漏光的测量方法包括如下步骤：

s100，预热背光源，以使得所述背光源发射的光线稳定。

可选地，本申请中背光源110的可选用led其亮度为4000nits，在准备阶段需要将背光源打开预热25-35分钟，本申请实施例中背光源预热30分钟，以使得背光源110光强趋于稳定，减少对后续工艺的干扰。

s200，打开感光器。

s300，将包括金属信号线的金属膜片样本放置于第一偏振片及第二偏振片之间。

结合图1，挡光片120上设置有出光孔121，未被挡光片120遮住的光线通过出光孔121出射。本申请实施例中第一偏振片131及第二偏振片132吸收轴相互垂直，从背光源110出射的光线经过第一偏振片131后变成线偏振光，其偏振方向和第一偏振片131的吸收轴平行。可选地，将本申请中包括所述金属信号线的金属膜片样本200放置于第一偏振片131及第二偏振片132之间。结合图2，金属信号线210和所述第一偏振片131及第二偏振片132的吸收轴相互垂直或者平行。当光线经过第一偏振片131后变成线偏振光，线偏振光掠过金属信号线210拐角处时，由于金属的消偏作用，线偏振光会成为椭圆偏振光，此时可能会有光线可以通过第二偏振片132造成暗态漏光。结合图4，图4为本申请金属信号线暗态漏光的效果示意图。

s400，记录感光器的光强值，并根据光强值判断所述金属信号线的漏光程度。

可选地，步骤s300中由于金属的消偏作用，线偏振光会成为椭圆偏振光，此时可能会有光线可以通过第二偏振片132造成暗态漏光。如此通过感光器140可直接测量从第二偏振片132出射光的光强便可知金属信号线210是否漏光，即可快速定量评估金属信号线210的工艺改善条件对金属信号线漏光的改善效果。

其中，感光器140检测到的光线的强度和金属信号线210侧边的taper角度大小相关。在实际的应用中，不同工艺条件下的信号线，例如金属信号线210侧边taper角度不一样，漏光强度会不一样。且由实验可得，金属信号线210侧边的taper角度越大，感光器140检测到的光线强度越强。

在本申请一具体应用场景中，感光器140检测到金属信号线侧边taper角度为41°的样品其漏光强度比金属信号线侧边taper角度为55°的光强减弱8.5％。因此，采用本申请检测装置100可以快速定量评估工艺改善条件对金属漏光的改善效果，且采用本申请提供的检测装置在array的制程前段使用，且在降低金属信号线taper角度的工艺试验中，三天即可评估出工艺改善条件对金属信号线漏光的改善效果，相对于现有技术45天的工艺实验，大大的节省时间成本。

上述实施方式，通过采用本申请的测量装置，即将包括金属信号线的金属膜片样本放置于第一偏振片及第二偏振片之间，通过测量从第二偏振片出射的光线的强度，能够快速定量评估工艺改善条件对金属信号线漏光的改善效果，大大的节省时间成本。

综上所述，本领域技术人员容易理解，本申请提供一种检测金属信号线漏光的装置及方法，通过采用本申请的测量装置，即将包括金属信号线的金属膜片样本放置于第一偏振片及第二偏振片之间，通过测量从第二偏振片出射的光线的强度，能够快速定量评估工艺改善条件对金属信号线漏光的改善效果，大大的节省时间成本。

以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。