基板处理装置用过滤器装置和清洁空气供给方法与流程

本公开涉及基板处理装置用过滤器装置和清洁空气供给方法。

背景技术：

在专利文献1记载有：将来自于设在涂布显影处理装置外的空调器的清洁的空气经由管向设于液供给系统单元部的上方的过滤器单元供给，而向各液供给系统单元部供给。

专利文献1：日本特开2007-88485号公报

技术实现要素：

发明要解决的问题

本公开的技术使经由过滤器对多个并列配置的基板处理装置供给的清洁空气的温度均匀。

用于解决问题的方案

本公开的一技术方案的基板处理装置用过滤器装置，其具有在并列地配置的多个基板处理装置的上方设置的过滤器，该基板处理装置用过滤器装置构成为：在所述过滤器的上方形成的管空间的在所述基板处理装置的并列方向上的一端部侧形成有空气流入口，自所述空气流入口流入的空气被在上下方向上分隔所述管空间的气流引导构件从所述气流引导构件的前面侧向所述管空间的另一端部侧引导，被引导到所述另一端部侧的空气的至少一部分向所述气流引导构件的背面侧返回，并且，该基板处理装置用过滤器装置构成为：所述管空间内的空气经由所述过滤器向所述基板处理装置流动。

发明的效果

根据本公开，能够使经由过滤器对多个并列配置的基板处理装置供给的清洁空气的温度均匀。

附图说明

图1是示意地表示搭载有本实施方式的过滤器装置的涂布显影处理装置的正面的说明图。

图2是本实施方式的过滤器装置的前面侧的剖视图。

图3是本实施方式的过滤器装置的分解立体图。

图4是示意地表示本实施方式的过滤器装置的上表面的说明图。

图5是表示本实施方式的过滤器装置的流通部的立体图。

图6是示意地表示本实施方式的过滤器装置的示出作用的上表面的说明图。

图7是示意地表示应用于三连型的液处理装置的过滤器装置的上表面的说明图。

图8是表示应用于三连型的液处理装置的过滤器装置的流通部的立体图。

图9是示意地表示应用于三连型的液处理装置的过滤器装置的示出作用的上表面的说明图。

具体实施方式

在半导体器件的制造工艺中，在作为半导体装置的制造工序之一的光刻工序中，在作为基板的半导体晶圆(以下，有时记载为晶圆)形成抗蚀图案。形成有抗蚀图案的晶圆例如接着被实施蚀刻处理。

为了形成该抗蚀图案，将晶圆输送到例如进行抗蚀剂的涂布、显影的涂布显影装置并进行抗蚀剂的液处理之后，将其输送到曝光处理装置并使期望的图案曝光，之后对其施加显影处理而形成抗蚀图案。

对搭载于涂布显影处理装置的各种基板处理装置供给调整了温湿度的清洁空气。例如对用于涂布抗蚀剂的抗蚀剂涂布装置，从其上方经由过滤器以下向流动式供给规定的温度、湿度的清洁空气。这是因为若温度、湿度变化则会对抗蚀剂的膜厚产生影响。

关于这点，在专利文献1公开的技术记载有：将来自于设在涂布显影处理装置外的空调器的清洁的空气经由纵向安装的管向设于抗蚀剂涂布装置、显影处理装置等液供给系统单元部的上方的过滤器单元供给，而向各液供给系统单元供给。

调整了温湿度并从空调机供给来的空气如所述那样经由纵管，向搭载于涂布显影处理装置的各种基板处理装置供给，但由于各种基板处理装置在上下方向上多层地搭载，因此在以下向流动式向各种基板处理装置供给清洁空气的情况下，清洁空气先从所述纵管自各种基板处理模块的一端部的导入口向水平方向流入，之后经由过滤器以下向流动式向位于下方位置的基板处理装置供给。

然而，最近，存在在以壳体围起来的一个液处理模块内搭载有多个液处理装置的情况。例如，对于液处理模块来说，存在在一个壳体内并列地配置多台例如2台、3台液处理装置的情况。液处理装置具有上表面开口的杯，该杯包围用于保持晶圆并使其旋转的旋转卡盘。经由位于杯上方位置的过滤器以下向流动式从上方对上述各杯供给调整了温湿度的清洁空气。

在这样的一个壳体内具有多个液处理装置的液处理模块的情况下，从一端部侧导入的空气在向另一端部侧流动时有时会由于液处理模块周围的热、例如由各种电气装置产生的热而温度上升。若温度上升，则相对湿度也会从规定的湿度下降。

于是，在液处理装置并列地配置的情况下，对于位于一端部侧的液处理装置和位于另一端部侧的液处理装置，被供给来的清洁空气的温湿度不同，其结果，在各液处理装置涂布的膜厚也不同，产生所谓的液处理装置间的差异。

本公开的技术在像这样以液处理装置为代表的各种基板处理装置并列地配置且使清洁空气从基板处理装置的并列方向上的一端部侧导入并经由过滤器向位于该过滤器的下方位置的各基板处理装置供给时，能够对位于一端部侧的基板处理装置和位于另一端部侧的基板处理装置供给温度均匀的空气。

以下，参照附图对本实施方式的基板处理系统进行说明。另外，在本说明书中，对实质上具有相同功能结构的要素标注相同的附图标记而省略重复说明。

图1是示意地表示搭载了采用本实施方式的过滤器装置的液处理装置的涂布显影处理装置1的正面的说明图。该涂布显影处理装置1具有一体地连接以下模块而成的结构：承载件模块2，相对于该承载件模块2送入送出收纳有多张晶圆的承载件c；处理模块3，其具备多个对晶圆实施规定的处理的各种基板处理单元；以及接口模块5，其在与曝光处理装置4之间进行晶圆的交接。

在处理模块3，除了用于在晶圆形成以图1所示的抗蚀剂膜为代表的各种涂布膜、或者供给显影液等处理液的液处理模块11以外，还多层地搭载有用于对晶圆进行热处理的热处理模块(未图示)。此外，在处理模块3还设有所谓的化学盒12，该化学盒12在能够更换的罐贮存有向上述液处理模块11供给的各种处理液。

接着，对液处理模块11进行说明。在一个液处理模块11并列地配置有例如对晶圆供给抗蚀剂液、或者供给显影液而进行规定的处理的相同结构的液处理装置21、22。而且，过滤器装置30配置在液处理模块11内的液处理装置21、22的上方。

对于各过滤器装置30，从设于涂布显影处理装置1外的空调机6将调整为规定的温湿度例如23℃、45％rh的空气自涂布显影处理装置1内的沿上下方向安装的管7、8向各液处理模块11的过滤器装置30供给。

液处理装置21、22具有收纳晶圆且上表面开口的杯21a、22a，以在供给处理液时、形成涂布膜时不使处理液向周围飞散。

过滤器装置30具有图2、图3所示的结构。即、该过滤器装置30自上依次层叠顶板31、管构件32、无纺布33、过滤器34、整流板35而构成。而且，由顶板31、管构件32、无纺布33围起来的空间形成管空间z。

管构件32具有上表面、下表面开口且四面由前面壁32a、另一端部侧的侧壁32b、背面壁32c、一端部侧的侧壁32d围起来的长方形的框体构造。在侧壁32d形成有空气流入口32e，该空气流入口32e与已述的管7或者管8连接，供调整了温湿度的来自管7、8的空气导入。

管构件32具有在上下方向上分隔管空间z的气流引导构件40。如图3、图4所示，该气流引导构件40具有：导入部41，其从空气流入口32e的背面侧端部朝向前面侧倾斜地延伸；以及引导部42，其与导入部41相连续，且俯视时相对于导入部41改变了角度而与前面壁32a、背面壁32c平行地延伸。

在引导部42的终端部和另一端部侧的侧壁32b之间设有在上下方向上分隔管空间z且在前后方向上分隔管空间z并与侧壁32b平行地配置的分隔板43。管空间z被分隔板43划分为一端部侧的第1空间z1和另一端部侧的第2空间z2。此外，第1空间z1中的气流引导构件40的前面侧构成为前面空间z1a，第1空间z1中的气流引导构件40的背面侧构成为背面空间z1b。其中，前面空间z1a和背面空间z1b由引导部42的终端部和分隔板43之间的空间连通。

在分隔板43形成有开口部43a。该开口部43a的开口位置设定为在俯视时比引导部42的终端部向侧壁32c呈直线状延伸而与分隔板43相交的位置靠背面侧(背面壁32c侧)。

此外，如图4所示，气流引导构件40设定于在俯视时罩在位于下方的液处理装置21的杯21a之上的位置，此外，杯21a的中心p位于气流引导构件40的引导部42的背面侧即背面空间z1b的位置。另一方面，分隔板43的位置设定于在俯视时罩在位于下方的液处理装置22的杯22a之上的位置，杯22a的中心p也位于管空间z的靠背面的位置。分隔板43的位置也可以不是像这样在俯视时罩在杯22a之上的位置，但需要位于气流引导构件40的终端部和第2空间z2的杯22a的中心p之间的位置。这是因为，假如分隔板43的位置处于比第2空间z2的杯22a的中心p靠侧壁32b的位置，则无法期待公开技术的温度差异改善效果。此外，使杯21a的中心p在俯视时位于背面空间z1b的位置并且使杯22a的中心p也位于第2空间z2的靠背面的位置是因为，从自俯视时倾斜配置的导入部41向引导部42引导的气流的关系来看，容易取得左右并列配置的杯21a、22a的温度平衡。

此外，如图5所示，在气流引导构件40的引导部42并且是在该引导部42的下端部例如形成有多个使前面空间z1a和背面空间z1b连通的流通部42a。

在本实施方式中，如图3所示，构成管空间z的下侧的无纺布33重叠地使用四张无纺布33a、33b、33c、33d。最上层的无纺布33a是l字形，覆盖空气流入口32e附近的一端部侧和背面侧。其他的无纺布33b、33c、33d均为长方形。另外，在无纺布33中适当地夹入板条网，使无纺布具有刚性而确保形状的维持、平坦性。

在最下层的无纺布33d的下侧配置有过滤器34。在本实施方式中使用ulpa过滤器。

在过滤器34的下侧配置有整流板35。在本实施方式中，在下侧配置有形成有许多孔的冲孔金属板35a，在该冲孔金属板35a的四边设有间隔件35b。因而，利用间隔件35b，在过滤器34的下表面和冲孔金属板35a的上表面之间形成空间s。

实施方式的过滤器装置30具有以上的结构，来自管7、8的空气从形成于过滤器装置30的管构件32的一端部的空气流入口32e向管空间z流动。此时，如图6所示，对于流入的空气a，从水平方向的气流来说，沿着气流引导构件40的导入部41和引导部42，向管空间z的前面侧(前面壁32a侧)的前面空间z1a流动。然后，在与分隔板43碰撞之后，一部分作为空气a1从分隔板43的开口部43a向第2空间z2内流动。此外，在与分隔板43碰撞之后，另一部分作为空气a2向气流引导构件40的背面侧(背面壁32c侧)的背面空间z1b流动。

此外，另一方面，前面空间z1a的空气从设于气流引导构件40的引导部42的流通部42a向背面空间z1b的杯21a的上方流动。

然后，流入到第1空间z1的前面空间z1a的空气a、流入到背面空间z1b的空气a2和流入到第2空间z2的空气a1经由下侧的无纺布33、过滤器34而被清洁化，之后经由整流板35内的上部的空间s从冲孔金属板35a向下方的液处理装置21、22的上方流动。

在此，在液处理模块11的周围存在电气系统装置等，因此，空气随着在管空间z内向另一端部侧流动而受到来自上述装置的放热的影响从而温度逐渐上升。因此，来自管7、8的空气在从形成于过滤器装置30的管构件32的一端部的空气流入口32e流入管空间z内而向另一端部侧流动时，与空气流入口32e附近的温度相比，另一端部侧的侧壁32b附近的温度较高。

因而，保持原样地经由过滤器34向下方的液处理装置21、22供给的清洁空气的温度也在一端部侧的液处理装置21较低，在位于另一端部侧的液处理装置22较高。于是，在以相同结构并列配置的液处理装置21、22间产生处理装置间的差异。

在本实施方式中也是，与供给到第1空间z1的前面空间z1a的空气a的温度相比，供给到第2空间z2的空气a1的温度较高，但与分隔板43碰撞而供给到第1空间z1的背面空间z1b的空气a2与流动的距离较长相应地受周围的热的影响而温度进一步升高。因而，空气a和空气a2随着从该管空间z经由无纺布33、过滤器34向下方的液处理装置21流动而混合，从而调整为与空气a1大致相同的温度。

特别是，在本实施方式中，在过滤器34的下表面侧具有空间s，因此，在该空间s内，来自第1空间z1的前面空间z1a、背面空间z1b的空气混合，并且还与来自第2空间z2的空气混合，因此，能够使经过整流板35的冲孔金属板35a供给到下方的液处理装置21、22的杯21a、22a的清洁空气的温度差(湿度差)非常小。因而，能够对并列配置的液处理装置21、22供给均匀的温度、均匀的湿度(相对湿度)的清洁空气。优选空间s的高度方向上的长度较长，但只要能够确保至少2mm以上的高度，就能够达成期望的混合目的。

实际上，发明人们进行了验证，在将以往型即在管构件32不具有气流引导构件40、分隔板43等的以往的过滤器装置和本实施方式的过滤器装置30以相同条件比较的情况下，在以往型中供给到液处理装置21、22的杯21a、22a的清洁空气的湿度差为0.7％，相对于此，在实施方式中，能够抑制在0.03％。

此外，在所述实施方式中，能够使前面空间z1a的空气经由设于气流引导构件40的引导部42的流通部42a向背面空间z1b流动，因此，根据条件，适当地调整该流通部42a的数量、有无，从而能够进一步调整向液处理装置21、22的杯21a、22a供给的清洁空气的温湿度。

此外，通过调整分隔板43的开口部43a的大小、开口位置，也能够调整向液处理装置21、22的杯21a、22a供给的清洁空气的温湿度。

此外，在本实施方式中，将无纺布33配置在管构件32的下侧且过滤器34的上侧，因此，也能够调整向下方流动的空气的风速的均匀性。在实施方式中，特别是，采用了覆盖风速较大的空气流入口32e附近和背面壁32c附近的l字形的无纺布33a，因此，该区域的压力损失较大，由此，提高了与其他区域之间的风速的均匀性。

然而，最近，为了提高生产率、晶圆的每小时的处理张数，有时增加搭载于涂布显影处理装置1的基板处理装置的数量，对于液处理装置，有时也组装在一个液处理模块内并列配置例如3台液处理装置的所谓的三连型的液处理模块。

本公开的技术也能够应用于这样的三连型的液处理模块。图7是示意地表示应用于三连型的液处理模块的情况下的过滤器装置50的俯视面的说明图。

在这样3台液处理装置的杯21a、22a、23a并列配置的情况下，管空间z与此相应地在装置的并列方向上变长。因此，从空气流入口32e流入的空气的流速也比所述的两个杯21a、22a的情况快，通常是大约1.5倍的流速。

在该情况下，如图7所示，与气流引导构件40的导入部41相连续的引导部42延伸至罩在位于最靠另一端部侧的杯23a的上方的位置，不配置所述实施方式中采用的分隔板43。在引导部42的终端部和另一端部侧的侧壁32b之间形成有开口部51。

而且，如图8所示，设于引导部42的流通部42b形成于引导部42的上端部，该流通部42b使由引导部42形成的前面空间za和背面空间zb之间连通。这是因为，由于空气的流速较快，因此若如所述实施方式那样设于引导部42的下侧，则存在空气无法充分地向下方流动的情况。此外，在该过滤器装置50，在导入部41的上端部也形成有与流通部42b同样的流通部(未图示)。

在应用于该三连型的情况下，管构件32也如以下方式设定：各杯21a、22a、23a的中心p位于管空间z的靠背面空间zb侧的位置。

另外，应用于该三连型的过滤器装置50的其他结构即无纺布33、过滤器34、整流板35的结构与所述实施方式的过滤器装置30相同。

根据以上的结构的过滤器装置50，如图9所示，从空气流入口32e流入的空气a沿着导入部41、引导部42，并沿着管空间z的前面空间za流动，之后与另一端部侧的侧壁32b碰撞，而向管空间z的背面空间zb侧沿着背面壁32c流动。

与所述的并列型的过滤器装置30的管空间z相比，在该情况下，空气流动的距离较长，因此，在前面空间za的一端部侧(空气流入口32e附近)和另一端部侧(侧壁32b侧)之间的温度差较大。即、在前面空间za中，温度最低的空气从杯21a的上方对其供给，温度较高的空气从杯22a的上方对其供给，温度最高的空气从杯23a的上方对其供给，但空气在背面空间zb中与流动的距离较长相应地受到周围的热的影响，因此，向杯22a供给的空气的温度比向杯23a供给的空气的温度高，向杯21a供给的空气的温度比向杯22a供给的空气的温度高。因而，对各杯分别供给两者混合的空气，因此，使被矫正了温度差的空气向各杯21a、22a、23a供给。因而，使供给到各杯21a、22a、23a的清洁空气的温度和湿度均匀化。

此外，在该过滤器装置50中，也在引导部42设有流通部42b，因此，能够使前面空间za的温度比较低的空气适当地向背面空间zb供给。因而，根据条件调整该流通部42b的数量、设置位置、有无，从而能够进一步调整向各杯21a、22a、23a供给的空气的温度和湿度。

另外，与所述的过滤器装置30相比，应用于所述的三连型的液处理装置的过滤器装置50的管空间z在并列方向上较长，因此，在背面空间zb中，一端部侧的空气的温度比另一端部侧的空气的温度高更多。因此，在该过滤器装置50中，在导入部41也适当地设置与流通部42b同样的流通部，从而如图9所示，能够使空气流入口32e附近的温度最低的空气向背面空间zb的最靠一端部侧的空间供给。因而，能够对位于下方的杯21a供给与向其他的杯22a、23a供给的空气的温度同程度的温度的空气。

当然，对于设置在四个以上的液处理装置的上方的过滤器装置，也能够通过以下这样来应对：应用上述的三连型用的过滤器装置50，适当地使引导部42延伸至位于最靠另一端部侧的杯的上方，此外，适当地在引导部42设置流通部42b，并且根据需要在导入部41也设置这样的流通部。

须知，本次公开的实施方式在所有方面都是例示，并非用于限定本发明。上述的实施方式在不脱离权利要求书和其主旨的前提下，也可以以各种形态进行省略、置换、变更。例如，在所述实施方式中，为在并列配置液处理装置时使用的过滤器装置，但不限于此，对于其他的基板处理装置例如载置基板而对其进行冷却的冷却装置也能够应用本公开的技术。

另外，以下这样的结构也属于本公开的技术范围。

(1)基板处理装置用过滤器装置，其具有在并列地配置的多个基板处理装置的上方设置的过滤器，

该基板处理装置用过滤器装置构成为：

在所述过滤器的上方形成的管空间的在所述基板处理装置的并列方向上的一端部侧形成有空气流入口，

自所述空气流入口流入的空气被在上下方向上分隔所述管空间的气流引导构件从所述气流引导构件的前面侧向所述管空间的另一端部侧引导，

被引导到所述另一端部侧的空气的至少一部分向所述气流引导构件的背面侧返回，

并且，该基板处理装置用过滤器装置构成为：

所述管空间内的空气经由所述过滤器向所述基板处理装置流动。

(2)根据(1)所述的基板处理装置用过滤器装置，

所述基板处理装置的数量为两个，

所述气流引导构件具有从所述空气流入口延伸的导入部和俯视时自所述导入部改变角度地延伸的引导部，

至少所述引导部在俯视时位于所述一端部侧处的基板处理装置的上方的位置，

在所述管空间的另一端部侧壁面和所述引导部的终端部之间设有分隔板，该分隔板在上下方向上分隔所述管空间，且在前后方向上分隔所述管空间，将所述管空间划分为一端部侧的第1空间和另一端部侧的第2空间，

在所述分隔板的比所述引导部的终端部靠背面侧的位置形成有开口部。

(3)根据(1)所述的基板处理装置用过滤器装置，

所述基板处理装置的数量为三个以上，

所述气流引导构件具有从所述空气流入口延伸的导入部和俯视时自所述导入部改变角度地延伸的引导部，

至少所述引导部在俯视时位于所述三个以上的基板处理装置的上方的位置，

在所述引导部的终端部和所述管空间的另一端部侧壁面之间具有开口部。

(4)根据(1)～(3)中任一项所述的基板处理装置用过滤器装置，

在所述气流引导构件的导入部和引导部中的至少一者形成有流通部，该流通部使空气从所述管空间的由所述气流引导构件形成的前面侧空间向背面侧空间流通。

(5)根据(1)～(4)中任一项所述的基板处理装置用过滤器装置，在所述过滤器的下侧配置有具有空气流通孔的整流板。

(6)根据(5)所述的基板处理装置用过滤器装置，

在所述过滤器和所述整流板之间形成有空间。

(7)根据(1)～(5)中任一项所述的基板处理装置用过滤器装置，在所述管空间和所述过滤器之间配置有无纺布。

(8)清洁空气供给方法，其向使用了过滤器装置的基板处理装置供给清洁空气，该过滤器装置具有在并列地配置的多个所述基板处理装置的上方设置的过滤器，

使空气自在所述过滤器的上方形成的管空间的在所述基板处理装置的并列方向上的一端部侧导入所述管空间内，

利用在上下方向上分隔所述管空间的气流引导构件将所述导入的空气从所述气流引导构件的前面侧向所述管空间的另一端部侧引导，

使被引导到所述另一端部侧的空气的至少一部分向所述气流引导构件的背面侧返回，

自所述管空间的所述气流引导构件的前面侧空间和背面侧空间经由所述过滤器对所述基板处理装置的至少位于一端部侧的基板处理装置供给清洁空气。