专利名称：具有抗反射导电涂层的玻璃制品及使用它的阴极射线管的制作方法
技术领域：
本发明涉及涂有抗反射膜的玻璃制品，该抗反射膜还兼有导电性和光吸收性。具体地说，本发明涉及用于显示器中的诸如面板之类的玻璃制品，在显示器例如阴极射线管中，用被加速的电子射线激励荧光物质以此来显示图像，用诸如树脂或玻璃料之类的粘结剂将玻璃板粘结到该面板的显示区域正面。本发明还涉及使用玻璃制品的阴极射线管。
背景技术：
在使用阴极射线管的显示器例如电视接收机中，正在采取措施使外光从显示表面的反射减少，以便提高显示质量。由于在采用阴极射线管的这些显示器中使用了电子枪，因而要用高电压，于是图像显示表面被静电充电，并由此吸收空气中漂浮的尘粒。因此，为了防止或阻止导致静电充电的现象，要采取措施使显示器正面具有导电性。
此外，已指出，被高电压加速的电子射线产生电磁波，该电磁波可对人体产生不利影响。因此，生产这样的显示器，其中在显示区域的正面涂有用于电磁波屏蔽的导电涂膜。
对于上述目的，已采用将涂有抗反射导电膜的玻璃板粘结到阴极射线管面板上或用抗反射导电膜直接涂敷面板外表面的技术。
为了提高阴极射线管显示质量的目的而用作玻璃制品上的涂膜的这种抗反射导电膜的实例，包括如JP-A-64-70701所公开的用玻璃板/金属/氧化钛/氧化硅表示的多层结构(本文所用术语“JP-A”指“未审查的已公开的日本专利申请”)；如JP-A-1-180333所公开的用玻璃板/氟化镁/金属/氧化钛/氟化镁表示的多层结构；和如日本专利第2565538号所公开的用玻璃/钛酸镨/金属/钛酸镨/氟化镁表示的多层结构。
上述引证文件中公开的用于现有技术中的那些金属膜是不锈钢、钛、铬、锆、钼和镍薄膜。
可是，有多层结构的抗反射导电膜存在一个问题，其中多层结构包括由上述引证文件中所示的金属和合金中的任何一种构成的至少一个金属膜和一个或多个透明介质膜，当金属膜的厚度减小到5毫微米(nm)或更小以便得到高可见光透射率时，抗反射膜的电阻明显增大，导致抗静电性能和电磁波屏蔽性能大大减小。
并且，当对阴极射线管进行在玻璃构成的面板正面上形成抗反射膜和用玻璃料通过加热将该被涂敷的面板粘结到锥体上时的生产加工时，包含由上述引证文件中所示的任何金属和合金构成的金属膜的抗反射膜存在缺点。具体地说，在通过加热进行粘结的步骤中，抗反射导电膜的电阻明显增大，透射率也增加。因此，难以提供既具有光吸收性能又具有极好的抗静电性能的阴极射线管。换言之，任何现有技术在形成抗反射导电膜方面均没有得到成功，这种抗反射导电膜的电阻或可见光透射率即使在阴极射线管组装的加热时都几乎不改变。
发明详述本发明的第一目的在于提供具有抗反射导电涂层的玻璃制品，作为第一玻璃制品，该玻璃制品包括玻璃基板和抗反射导电膜，在550nm的波长测量时，玻璃基板的折射率为1.4-1.7，抗反射导电膜包括叠置层，叠置层包括按该顺序形成于玻璃基板上的为金属膜的第一层、为高折射率透明介质膜的第二层、和为低折射率透明介质膜的第三层，在550nm的波长测量时，高折射率透明介质膜的折射率为2.0-2.4，低折射率透明介质膜的折射率为1.35-1.46，所述金属膜是镍铁合金膜，和所述玻璃制品的可见光反射率为1％或以下。(以下称为“第一实施例”)。
本发明的第二目的在于提供具有抗反射导电涂层的玻璃制品，作为第二玻璃制品，该玻璃制品包括玻璃基板和抗反射导电膜，在550nm的波长测量时，玻璃基板的折射率为1.4-1.7，抗反射导电膜包括叠置层，叠置层包括按该顺序形成于玻璃基板上的为金属膜的第一层、为高折射率透明介质膜的第二层、为中等折射率透明介质膜的第三层和为低折射率透明介质膜的第四层，在550nm的波长测量时，高折射率透明介质膜的折射率为2.0-2.4，中等折射率透明介质膜的折射率为1.7-1.9，低折射率透明介质膜的折射率为1.35-1.46，所述金属膜是镍铁合金膜，和所述玻璃制品的可见光反射率为1％或以下。(以下称为“第二实施例”)。
本发明的第三目的在于提供具有抗反射导电涂层的玻璃制品，作为第三玻璃制品，该玻璃制品包括玻璃基板和抗反射导电膜，在550nm的波长测量时，玻璃基板的折射率为1.4-1.7，抗反射导电膜包括叠置层，叠置层包括按该顺序形成于玻璃基板上的为金属膜的第一层、为高折射率透明介质膜的第二层、为金属膜的第三层、为高折射率透明介质膜的第四层和为低折射率透明介质膜的第五层，在550nm的波长测量时，高折射率透明介质膜的折射率为2.0-2.4，低折射率透明介质膜的折射率为1.35-1.46，分别作为第一和第三层的金属膜中的至少一个是镍铁合金膜，和所述玻璃制品的可见光反射率为1％或以下。(以下称为“第三实施例”)。
附图的简要说明
图1是本发明的具有抗反射导电涂层的玻璃制品一个实施例的剖面图。
图2是说明本发明的抗反射导电膜的多层结构的局部剖面图。
图3是表示本发明实例的可见光区透射率/反射特性的曲线图。
附图中的标号如下所述。1具有抗反射导电涂层的玻璃制品，2抗反射导电膜，3玻璃基板，4金属膜，5高折射率透明介质膜，6低折射率透明介质膜，7中等折射率透明介质膜，8底涂(undercoat)膜。
实施发明的最好方式在本发明第一实施例中的金属膜应该是镍和铁的合金膜。金属膜的镍含量优选为5wt％或以上，为10wt％或以上更好。最好的镍含量为70wt％或以上。低于5wt％的镍含量是不合需要的，它将导致金属膜的热性能与仅由铁构成的金属膜的类似，并且因加热其电阻率增大很多和透射率改变很多。
金属膜的镍含量优选为95wt％或以下。其镍含量超过95wt％是不合需要的，它将导致金属膜的热性能与仅由镍构成的金属膜的类似，并且特别是当其厚度小于4nm时其电阻率过高。
在本发明第一实施例中，金属膜的厚度优选为1.5-8nm。其厚度低于1.5nm是不合需要的，它将导致金属膜的电阻率过高。另一方面，其厚度超过8nm也是不合需要的，它将导致金属膜的透射率减小，引起显示图像发暗。
在本发明第一实施例中，可见光反射被调节到1％或以下。此外，从防止玻璃制品用于阴极射线管时产生的明显色调反射的观点来看，用作第二层的高折射率透明介质膜的厚度优选为5-140nm，用作第三层的低折射率透明介质膜的厚度优选为50-120nm。
在本发明第二实施例中的金属膜应该是镍和铁的合金膜。金属膜的镍含量优选为5wt％或以上，为10wt％或以上更好，为70wt％或以上最好。低于5wt％的镍含量是不合需要的，它将导致金属膜的热性能与仅由铁构成的金属膜的类似，并且因加热其电阻率增大很多和透射率改变很多。
金属膜的镍含量优选为95wt％或以下。其镍含量超过95wt％是不合需要的，它将导致金属膜的热性能与仅由镍构成的金属膜的类似，并且特别是当其厚度小于4nm时其电阻率过高。
在本发明第二实施例中，金属膜的厚度优选为1.5-8nm。其厚度低于1.5nm是不合需要的，它将导致金属膜的电阻率过高。另一方面，其厚度超过8nm也是不合需要的，它将导致金属膜的透射率减小，引起显示图像发暗。
在本发明第二实施例中，可见光反射被调节到1％或以下。此外，从防止玻璃制品用于阴极射线管时产生的明显色调反射的观点来看，用作第二层的高折射率透明介质膜的厚度优选为5-70nm，用作第三层的中等折射率透明介质膜的厚度优选为50-100nm，用作第四层的低折射率透明介质膜的厚度优选为50-120nm。
在本发明第三实施例中，金属膜也应该是镍和铁的合金膜。金属膜的镍含量优选为5wt％或以上，为10wt％或以上更好，为70wt％或以上最好。低于5wt％的镍含量是不合需要的，它将导致金属膜的热性能与仅由铁构成的金属膜的类似，并且因加热其电阻率增大很多和透射率改变很多。
金属膜的镍含量优选为95wt％或以下。其镍含量超过95wt％是不合需要的，它将导致金属膜的热性能与仅由镍构成的金属膜的类似，并且特别是当其厚度小于4nm时其电阻率过高。
在本发明第三实施例中，分别用作第一和第三层的金属膜的厚度分别优选为1.5-7.5nm，和其总厚度优选为9nm或以下。限制各金属层厚度的理由与上述第一和第二实施例中的相同。其总厚度超过9nm是不合需要的，当抗反射膜用于显示器正面上时，因该膜的透明度减小，它将导致显示图像发暗。
在本发明第三实施例中，可见光反射被调节到1％或以下。此外，从防止玻璃制品用于阴极射线管时产生明显色调反射的观点来看，用作第二层的高折射率透明介质膜的厚度优选为10-70nm，用作第四层的高折射率透明介质膜的厚度优选为10-70nm，用作第五层的低折射率透明介质膜的厚度优选为70-120nm，在本发明第一、第二和第三实施例的每一个中，玻璃基板可以是由玻璃或透明或无色玻璃板制成的面板。并不特别限制这些玻璃基板的玻璃成分。例如，如果需要，在经过诸如弯曲或回火之类的处理之后可采用含有钠钙硅酸盐成分、硼硅酸盐成分、铝硅酸盐成分、或铝硼硅酸盐成分的玻璃基板。
在本发明第一、第二和第三实施例的每一个中，高折射率透明介质膜的实例包括钛酸镨(PrTiO3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)和氧化锆(ZrO2)膜。其中优选钛酸镨。这是因为钛酸镨的透明和致密膜可通过汽相淀积形成而不需要导入氧气来进行淀积，因此，可防止所形成的金属膜氧化变质。
在本发明第一、第二和第三实施例的每一个中，低折射率透明介质膜的材料实例包括氟化镁和二氧化硅。其中因为氟化镁的折射率低至1.35，因而优选氟化镁。即，在氟化镁膜与高折射率透明介质膜之间可得到大的折射率差，从而容易减小反射率。
在本发明第二实施例中的中等折射率透明介质膜的材料实例包括氧化镁(MgO)、氧化铌(Nb2O5)和一氧化硅(SiO)。其中优选氧化镁。这是因为氧化镁的透明和致密膜可通过汽相淀积形成而不需要导入氧气来进行淀积，因此，可防止所形成的金属膜氧化变质。
在本发明第一、第二和第三实施例的每一个中，透明介质层(以下称为“底涂膜”)可形成在玻璃基板与作为第一层的金属膜之间。形成该底涂膜的目的是为了防止玻璃表面与作为第一层的金属膜接触，即，防止诸如水之类的玻璃表面上的杂质进入金属膜中，增大金属膜的电阻。
并不特别限制构成底涂膜的材料。可是，其优选实例包括钛酸镨、氧化镁和氟化镁(MgF2)。
从使光滑金属膜形成为第一层由此使金属膜的电阻减小的观点来看，底涂膜的厚度优选为3nm或以上。从减小底涂膜本身的表面粗糙度的观点来看，其厚度优选为7nm或以下，为5nm或以下更好。
为了例如精细地调节光吸收程度或反射色调的目的，只要第三金属的加入不会明显减小金属层的热阻，那么在本发明第一、第二和第三实施例的每一个中，可将第三金属加入包括镍和铁的金属层中。
可用例如汽相淀积或离子镀敷等常规技术来形成本发明第一、第二和第三实施例的每一个中的抗反射导电膜的各结构层。
采用通过加热将涂有本发明抗反射导电膜的面板粘结到锥体上的方法，或采用将面板粘结到锥体，然后用本发明的抗反射导电膜涂覆面板的方法，可产生本发明的阴极射线管。
下面参照附图和实例来说明本发明。
图1是本发明具有抗反射导电涂层1的制品一个实施例的剖面图。该制品1包括由玻璃制成的面板3和涂敷面板3的图像显示区域的抗反射导电膜2。
图2是本发明的用于说明抗反射导电膜2的多层结构的局部剖面图。图2(a)中所示的抗反射导电膜2由按此顺序形成在面板3上的膜构成，即，金属膜4、高折射率透明介质膜5和低折射率透明介质膜6。图2(b)中所示的抗反射导电膜2由按此顺序形成在面板3上的膜构成，即，金属膜4、高折射率透明介质膜5、中等折射率透明介质膜7和低折射率透明介质膜6。图2(c)中所示的抗反射导电膜2由按此顺序形成在面板3上的膜构成，即，底涂膜8、金属膜4、高折射率透明介质膜5、金属膜4、高折射率透明介质膜5和低折射率透明介质膜6。
图3示出了本发明在实例6中所得到的样品的可见光区域的反射/透射频谱特性。
在下面给出的实例和比较例中，下列材料用于通过汽相淀积形成各膜。
.实例中的镍铁膜有规定成分的镍铁合金丝。
.比较例1和3中的镍膜镍丝。
.比较例2中的铁膜铁丝。
.比较例4和5中的镍铁铬膜有规定成分的镍铁铬合金。
.比较例6中的镍铬膜有规定成分的镍铬合金丝。
.钛酸镨膜Merck & Co.，Inc.制造的SUBSTANCE H2(商标名)的丸。
.氧化镁膜粒状氧化镁。
.氟化镁膜粒状氟化镁。
实例1在真空淀积容器中放置尺寸为100mm×100mm×3mm(厚度)的充分清洗的钠钙硅酸盐玻璃板，然后利用设置于汽相淀积装置中的基板加热器将其加热到300℃。在这样加热玻璃板的同时，将具有表1的实例1的栏中所示的多层结构的抗反射导电膜淀积到玻璃板上。为了蒸发汽相淀积材料，使用电子束淀积方法。将含有各淀积材料的坩锅与玻璃板之间的距离调节到100cm，在旋转玻璃板的同时进行淀积。在淀积各结构膜之前，利用油扩散泵将容器抽真空到0.003Pa的真空度。在淀积镍铁合金、钛酸镨、氟化镁和氧化镁膜时，不导入氧气。
将所得到的样品从汽相淀积装置中取出并检查透射率(波长550nm)、涂敷侧的反射率(波长550nm)和作为抗静电性能量度的表面电阻率。通过化学分析确定金属膜的成分。上述检查和确定结果示于表2中。并且，在空气中于450℃对样品热处理1小时，然后检查透射率、涂敷侧的反射率和表面电阻率。所得到的结果示于表2中实例1的栏。
实际应用需要的样品的反射率为1％或以下。经过热处理后其反射率几乎不改变，仍保持在1％或以下。样品的表面电阻率为282Ω/□，这对抗静电性能来说是足够低的。通过热处理，样品的电阻率减小而不是劣化(增大)。样品透射率从66.5变化到67.2％，其变化小至0.7％。热处理之后的透射率值在40到80％的范围内，这是阴极射线管的面板或粘到透明面板上的前面玻璃屏板所需要的。
按与实例1相同的方式，在玻璃板上淀积分别具有表1中所示层结构的抗反射导电膜。对这样得到的样品进行与实例1相同的测试，其结果示于表2中。在初始阶段和在热处理之后，实例2到10的样品的反射率为1％或以下。在初始阶段，样品的表面电阻率低至500Ω/□以下，并且发现通过热处理减小而不是明显增加。各样品经过热处理之后透射率的改变小至2.2％或以下。
实例4的样品的膜结构与实例2的膜结构相同，只是前者附加有钛酸镨的底涂膜。实例7的样品的膜结构与实例6的膜结构相同，只是前者附加有钛酸镨的底涂膜。比较实例2和4以及比较实例6和7表明附加形成底涂膜对减小表面电阻率有效。
表1
上面表示的是膜材料、下面表示的是膜厚(单位nm)，金属膜的成分含量为wt％。
表2
之前热处理之前之后热处理之后差值(热处理之后的值)--(热处理之前的值)比较例1用与实例1中所示相同的方式淀积具有表3的比较例1的栏中所示层结构的抗反射导电膜，其中金属膜仅由镍制成，得到比较样品。用与实例1中相同的方法评价该比较样品，其结果示于表4的比较例1的栏中。该比较样品的反射率为1％或以下，其显示出令人满意的透射率的热稳定性。可是，在初始阶段和经过热处理之后，其表面电阻率高于2MΩ/□，表明比较样品不能具有令人满意的抗静电性能。
比较例2用与实例1中所示相同的方式淀积具有表3的比较例2的栏中所示层结构的抗反射导电膜，其中金属膜仅由铁制成，得到比较样品。用与实例1中相同的方法评价该比较样品，其结果示于表4的比较例2的栏中。尽管该比较样品的初始反射率低至0.43％，但通过热处理，其透射率和反射率分别增加到18.7％和4.08％。并且，在初始阶段和经过热处理之后，其表面电阻率高于2MΩ/□，表明比较样品不能具有令人满意的抗静电性能。
比较例3
淀积具有表3的比较例3的栏中所示层结构的抗反射导电膜，得到比较样品。该层结构含有仅由镍制成的金属膜和插在玻璃板与作为第一层的金属膜之间的钛酸镨底涂膜。用与实例1中相同的方法评价该比较样品，其结果示于表4的比较例3的栏中。在热处理之前和之后，该比较例的反射率为1％或以下，并且呈现令人满意的透射率的热稳定性。可是，在初始阶段和经过热处理之后，其表面电阻率高于2MΩ/□，表明比较样品不能具有令人满意的抗静电性能。
比较例4和5淀积分别具有表3的比较例4的栏和比较例5的栏中所示层结构的抗反射导电膜，得到比较样品。在这些层结构中，各金属膜是镍、铁和铬的三元(ternary)膜。用与实例1中相同的方法评价该比较样品，得到的结果示于表4的比较例4的栏和比较例5的栏中。通过热处理，其中金属膜的铬含量为28wt％的比较例4的反射率增加9.8％，而各个金属膜的铬含量为16wt％的比较例5的反射率增加9.2％。由此，这些比较例具有很低的透射率稳定性。其表面电阻率不规则地改变。即，通过热处理，比较例4的表面电阻率增加，而比较例5的表面电阻率减小。
比较例6用与比较例1相同的方式得到比较例6，只是在金属膜的位置上形成镍铬二元膜。如表4中比较例6的栏所示，通过热处理，该比较例的透射率改变达到12.5％，其表面电阻率增加三个数量级。
表3
上面表示的是膜材料，下面表示的是膜厚(单位nm)，金属膜的成分含量为wt％。
表4
之前热处理之前之后热处理之后差值(热处理之后的值)-(热处理之前的值)如上所述，对于热处理来说，没有任何比较例在透射率和表面电阻率上是稳定的。相反，按照本发明的各实例样品，对于热处理来说，其透射率和反射率都是稳定的。其表面电阻率经过热处理后减小而不是增加。这些结果表明本发明的样品保持抗静电性能和电磁波屏蔽性能。
在使被加速的电子射线轰击荧光物质以显示图像的显示器例如阴极射线管中，位于图像显示区域正面上的具有抗静电性能的抗反射导电膜优选具有可使其表面电阻率约为1kΩ/□或以下的导电性能。为了使抗反射导电膜具有可遮蔽由显示器发射的电磁波以便减小其对人体不利影响的能力，膜的表面电阻率优选约为500Ω/□或以下。由这些观点可看出，本发明的实例所得到的样品的抗反射导电膜具有足以供实际应用的电性能。
如上所述，通过使用镍铁合金膜代替镍膜或铁膜，可消除现有技术的问题，该问题是当对具有包括仅由镍或仅由铁制成的至少一层金属膜和一层或多层透明介质膜的多层结构的抗反射导电膜进行热处理时，其电阻劣化(增大)。即，用实验方法发现合金膜令人惊奇地改善了电阻稳定性。基于该出乎意料的效果，实现了本发明。
本发明产生下列作用。由于作为本发明的抗反射导电膜的结构层的金属膜是镍铁合金膜，因而抗反射导电膜具有极好的热稳定性。由此，抗反射导电膜的透射率或反射率经过热处理之后几乎不改变。并且，由于在各抗反射导电膜中的金属膜是镍铁合金膜，因而其表面电阻率即使是在高温热处理之后也保持不变。
工业利用可能性本发明的抗反射导电膜的光学性能和电阻是热稳定的。即使利用玻璃料通过加热将涂有本发明的抗反射导电膜的前面板粘结到锥体上时，也可维持粘结之前已涂敷的面板所具有的性能。因此，可生产阴极射线管而不会损害已涂敷的面板的光学性能或抗静电性能。
权利要求
1.一种具有抗反射导电涂层的玻璃制品，该玻璃制品包括玻璃基板和抗反射导电膜，在550nm的波长测量时，玻璃基板的折射率为1.4-1.7，抗反射导电膜包括叠置层，叠置层包括按该顺序形成于玻璃基板上的为金属膜的第一层、为高折射率透明介质膜的第二层、和为低折射率透明介质膜的第三层，在550nm的波长测量时，高折射率透明介质膜的折射率为2.0-2.4，低折射率透明介质膜的折射率为1.35-1.46，所述金属膜是镍铁合金膜，所述玻璃制品的可见光反射率为1％或以下。
2.按照权利要求1所述的具有抗反射导电涂层的玻璃制品，其中，金属膜的镍含量为5wt％到95wt％。
3.按照权利要求1或2所述的具有抗反射导电涂层的玻璃制品，其中，金属膜的厚度为1.5-8nm。
4.按照权利要求1-3中任一项所述的具有抗反射导电涂层的玻璃制品，其中，作为第二层的高折射率透明介质膜的厚度为5-140nm，作为第三层的低折射率透明介质膜的厚度为50-120nm。
5.一种具有抗反射导电涂层的玻璃制品，该玻璃制品包括玻璃基板和抗反射导电膜，在550nm的波长测量时，玻璃基板的折射率为1.4-1.7，抗反射导电膜包括叠置层，叠置层包括按该顺序形成于玻璃基板上的为金属膜的第一层、为高折射率透明介质膜的第二层、为中等折射率透明介质膜的第三层和为低折射率透明介质膜的第四层，在550nm的波长测量时，高折射率透明介质膜的折射率为2.0-2.4，中等折射率透明介质膜的折射率为1.7-1.9，低折射率透明介质膜的折射率为1.35-1.46，所述金属膜是镍铁合金膜，所述玻璃制品的可见光反射率为1％或以下。
6.按照权利要求5所述的具有抗反射导电涂层的玻璃制品，其中，金属膜的镍含量为5wt％到95wt％。
7.按照权利要求5或6所述的具有抗反射导电涂层的玻璃制品，其中，金属膜的厚度为1.5-8nm。
8.按照权利要求5-7中任一项所述的具有抗反射导电涂层的玻璃制品，其中，作为第二层的高折射率透明介质膜的厚度为5-70nm，作为第三层的中等折射率透明介质膜的厚度为10-100nm，作为第四层的低折射率透明介质膜的厚度为50-120nm。
9.一种具有抗反射导电涂层的玻璃制品，该玻璃制品包括玻璃基板和抗反射导电膜，在550nm的波长测量时，玻璃基板的折射率为1.4-1.7，抗反射导电膜包括叠置层，叠置层包括按顺序形成于玻璃基板上的为金属膜的第一层；为高折射率透明介质膜的第二层，在550nm的波长测量时，该高折射率透明介质膜的折射率为2.0-2.4；为金属膜的第三层；为高折射率透明介质膜的第四层，在550nm的波长测量时，该高折射率透明介质膜的折射率为2.0-2.4；和为低折射率透明介质膜的第五层，在550nm的波长测量时，该低折射率透明介质膜的折射率为1.35-1.46，分别作为第一和第三层的金属膜中的至少一个是镍铁合金膜，所述玻璃制品的可见光反射率为1％或以下。
10.按照权利要求9所述的具有抗反射导电涂层的玻璃制品，其中，镍铁合金膜的镍含量为5wt％到95wt％。
11.按照权利要求9或10所述的具有抗反射导电涂层的玻璃制品，其中，分别作为第一和第三层的各金属膜的厚度为1.5-7.5nm，金属膜的总厚度为9nm或以下。
12.按照权利要求9-11中任一项所述的具有抗反射导电涂层的玻璃制品，其中，作为第二层的高折射率透明介质膜的厚度为10-70nm，作为第四层的高折射率透明介质膜的厚度为10-70nm，和作为第五层的低折射率透明介质膜的厚度为70-120nm。
13.按照权利要求9-12中任一项所述的具有抗反射导电涂层的玻璃制品，其中，透明介质膜形成于玻璃基板与作为第一层的金属膜之间。
14.按照权利要求9-13中任一项所述的具有抗反射导电涂层的玻璃制品，其中，玻璃基板是由玻璃制成的用于阴极射线管的面板。
15.通过利用玻璃料将具有权利要求14的抗反射导电涂层的玻璃制品热粘结到锥体上而得到阴极射线管。
全文摘要
具有抗反射导电涂层的玻璃制品,包括玻璃基板和抗反射导电膜,抗反射导电膜包括叠置层,叠置层包括按该顺序形成于玻璃基板上的金属膜、高折射率透明介质膜和低折射率透明介质膜,在550 nm的波长测量时,玻璃基板的折射率为1.4-1.7,高折射率透明介质膜的折射率为2.0-2.4,低折射率透明介质膜的折射率为1.35-1.46,金属膜是镍铁合金膜,玻璃制品的可见光反射率为1%或以下。抗反射导电膜的光学性能和电阻是热稳定的。
文档编号G02B1/11GK1307688SQ9980799
公开日2001年8月8日 申请日期1999年6月29日 优先权日1998年7月1日
发明者国定照房, 谷中保则, 中西功次, 荻野悦男 申请人:日本板硝子株式会社