相互垂直的倾斜轴线单独地且独立地倾斜，该些倾斜 轴线的第一个平行于X轴延伸，该两个倾斜轴线中的第二个平行于y轴延伸。两个倾斜轴 线位于相应单独反射镜45的单独反射表面中。
[0068] 单独反射镜45的反射表面承载多层反射涂层。
[0069] 第一分面反射镜8的单独反射镜45布置成原始照明光30i的相应部分束W与单 独反射镜反射表面上的法线N成入射角I而入射在单独反射镜45上，在原始照明光30i的 部分束在该单独反射镜45处的反射的情况下，单独反射镜有针对性地优选s，而不是p偏 振。该S偏振是原始照明光30i的部分束垂直于单独反射镜45的入射平面（图5的绘制 平面）振荡的偏振方向。该P偏振是原始照明光30i的部分束在单独反射镜45的入射平 面中振荡的偏振。在图5中，该S偏振由具有叉的圆圈来表示。或者，该S偏振由照明光 16i的部分束的光束路径上的大点来描述。该P偏振由照明光的光束路径上的双头箭头来 描述。
[0070] 在照明光30的部分束在单独反射镜45处反射的情况下，优选S偏振而不是P偏 振使得P偏振的原始照明光30的反射率化与S偏振的原始照明光30的反射率Rs之间的 比例化/Rs小于0. 8。在照明光30i的部分束在单独反射镜45处反射之后，该种对S偏振 优选在图5中仅由产生的S偏振分量表示。
[0071] 根据单独反射镜45的布置，可W预先确定在该单独反射镜45上的入射角I，使得 比例化/Rs小于0. 7、小于0. 6、小于0. 5、小于0. 4、小于0. 3、小于0. 2、小于0. 1、小于0. 05、 小于0. 02、小于0. 01、小于1X1CT3、小于1X1CT4、小于1X1CT5或甚至更小。
[0072] 在照明光3的光束路径中，第二分面反射镜9布置在第一分面反射镜8的下游（参 照图5)。第二分面反射镜9的相应一个分面49与第一分面反射镜8的单独反射镜45的至 少一个一起完成照明通道，W将照明光3i的部分束引导至照明场14。通常，该布置使得第 二分面反射镜9的分面49之一与第一分面反射镜8的一组单独反射镜45 -起完成用于若 干部分束3〇i的一组照明通道，第二分面反射镜8的该分面49与第一分面反射镜8的一组 单独反射镜属于所述照明通道。因此，第一分面反射镜8的该组单独反射镜45可将所有在 第二分面反射镜9的相同分面49上的照明光3i的部分束引导至照明场14。
[0073] 通过照明光3i的部分束在第二分面反射镜9的分面49处的反射，再一次优选照明 光3i的部分束的S偏振，因为在该情况下，也是W明显不同于0的入射角I反射。照明光 3i的部分束的两次反射（一次在单独反射镜45之一处，第二次在第二分面反射镜9的分面 49之一处）使得当照明光3i的部分束入射在照明场14上时，导致几乎完整或甚至整个完 整的S偏振。
[0074] 第二分面反射镜9的分面49布置在分面支撑件50上，分面支撑件在图5中由虚 线表示。分面支撑件50具有环形设计。分面支撑件50具有关于照明光3的入射轴k旋转 对称设计。第二分面反射镜9的分面49在分面支撑件50上的布置具有对应的旋转对称。
[0075] 总体上，照明光学单元5具有关于入射轴k的旋转对称布置。入射轴k穿过照明 场14的中屯、该入射轴k垂直于物面15
[0076] 第一分面反射镜8的单独反射镜45与第二分面反射镜9的分面49的布置的旋转 对称性使得可关于入射轴k旋转对称地引导（至少大致近似）原始照明光3〇i的部分束与 可用照明光线3i的部分束的光束。
[0077] 提供用于反射照明光3i的部分束（在XZ平面中由第一分面反射镜8的单独反射 镜45偏转）的第二分面反射镜9的分面49在图5中由虚线表示，并与入射轴k平齐。由 于分面支撑件50的环形设计，根据图5的绘制平面，该些场分面49自然地在正负X方向上 与该入射轴k有一距离。
[007引对应分面49在入射轴k周围沿周向方向均匀地分布在分面支撑件50上，使得原 则上，该样的结果是用于照明光30i与3 i的部分束的旋转对称反射布置。对于照明场5上 的每一点，该导致具有切向偏振的可用照明光3的照明。在图5中，对于照明场点51更为 详细地描述。
[0079] 从每个照明方向，可用照明光线3WS偏振入射在照明场点51上。因为W环形照 明角分布52 (由于场分面49的环形布置）照明照明场点51 (照明场点51 "看见"环形光 源），所W该在该环形照明角分布52的每点处导致S偏振，由图7中的圆圈表示，环形照明 角度化分布52的每一点处的一S偏振，由图7之一圆圈所示，S偏振将其本身补足成切向 偏振。偏振向量53在环形照明角分布52的每点处相对于环形照明角分布52切向地振荡。
[0080] 由于该切向偏振，可独立于照明角在照明场14中WS偏振的可用照明光3照明掩 模母版17。当使用照明光学单元5作为投射曝光设备1的组件时，该照明使得可获得最佳 的结构分辨率。
[0081] 分面反射镜8和9同时构成照明光学单元5的偏振设定装置44。
[0082] 使用照明光学单元5,可W大于照明角的下限的照明角照明照明场14,照明角的 下限由照明光30或3的光束路径的中屯、遮蔽（由单独反射镜支撑件46预先确定）限定。
[0083] 使用照明光学单元5,可实现环形照明设定或多极照明设定，例如偶极照明设定或 四极照明设定，例如C-四边照明设定。
[0084] 类似于图5,图6示出照明光学单元5的截面。后者实施成使得其将来自EUV光源 53 (其为基于电子束EUV光源2的另一替代实施例）的EUV原始输出光束30引导到物场 14。EUV光源53可为等离子源，例如GDPP(气体放电产生等离子）源或LPP(激光产生等离 子）源。对应于已经在上面参照图1到5解释过的组件和功能均由相同参考符号表示，且 不再详细讨论。
[0085] W圆形偏振从福射源53发出的EUV原始福射束30通过聚集器54聚焦。恰当的 聚集器从例如EP1225481A中可知。
[0086] 在聚集器54之后，EUV原始福射束30在入射到单独反射镜阵列56之后传播通过 中间焦点55。单独反射镜阵列56实施成微机电系统（MEM巧。其具有W行列布置成类似矩 阵的阵列的大量单独反射镜57,其中两个单独反射镜57在图6中示意性示出。单独反射镜 57可具有正方形或长方形反射表面。单独反射镜57分别连接到致动器58,并设计成可绕 在相应单独反射镜57的反射平面中彼此垂直的两个轴线倾斜。致动器58W未示出的方式 连接至中央控制装置48a，通过中央控制装置，致动器58可被致动成单独地倾斜单独反射 镜57。
[0087] 在附图中W更非常不明显的方式示出单独反射镜阵列56的反射镜57的数量。总 体上，单独反射镜阵列56具有大约100, 000个单独反射镜57。根据单独反射镜57的大小， 单独反射镜阵列还可具有例如1000、5000、7000或数十万，例如500, 000个单独反射镜57。 或者，还可有数量明显较小的单独反射镜57,可有例如数百个单独反射镜，例如200、250、 300或500个单独反射镜。就存在许多单独反射镜57来说，它们可组合成组，其中，在各情 况下，相同的单独反射镜倾斜角存在于单独反射镜组之一内。单独反射镜57可具有高度反 射的多个层，其针对EUV可用光3的相应入射角和波长而最佳化。
[008引光谱滤波器可布置在单独反射镜阵列56的上游，光谱滤波器将所利用的EUV原始 福射束30与福射源53的发射光的不会用于投射曝光的其它波长分量分开。该光谱滤波器 未示出。
[0089] 在单独反射镜阵列56的下游，EUV原始福射束30入射在场分面反射镜8上。场 分面反射镜8布置在照明光学单元5的平面中，该平面与物面15光学地共辆。
[0090] 在场分面反射镜8之后，EUV福射束3被光瞳分面反射镜9反射。光瞳分面反射镜 9位于照明光学单元5的入瞳平面中或与入瞳平面光学共辆的平面中。场分面反射镜8和 光瞳分面反射镜9分别由大量分面（还称为蜂巢）制成。场分面反射镜8的场分面60通 过传输光学单元成像在物场14中，传输光学单元由光瞳分面反射镜9形成，或者包括位于 光瞳分面反射镜9和物场14之间的其它组件。在此，场分面60均成像在整个物场14中， 假设物场14完全由照明光3照明。场分面60布置在环形分面反射镜支撑件61上，环形分 面反射镜支撑件在图1中示意性示出。
[0091]EUV原始福射束30W小于70°的入射角入射在单独反射镜阵列56上，即并非W 掠入射方式。原则上，掠入射也是可能的。场分面反射镜8的场分面60与光瞳分面反射镜 9的光瞳分面62承载了匹配于可用光线3的波长的多层反射涂层。光瞳分面62可具有圆 形、六边形或长方形设计。
[0092] 图6仅W示意性且放大的方式描述出分面反射镜8、9的一些场分面60和一些光 瞳分面62。场分面反射镜8具有几千个场分面60,例如3000个场分面60。光瞳分面反射 镜9具有几千个光瞳分面62,例如3000个光瞳分面62。场分面反射镜8的场分面60的数 量可等于光瞳分面反射镜9的光瞳分面62的数量。
[0093]W偏离场分面60和光瞳分面62上的多层反射涂层的布鲁斯特角至多25°的入射 角照射两个分面反射镜镜8、9。该布鲁斯特入射角可例如为43°。
[0094] 光瞳分面反射镜8布置在照明光学单元5的一平面上，该平面构成投射光学单元 16的光瞳平面，或者与投射光学单元16的光瞳平面光学共辆。借助光瞳分面反射镜8或传 输光学单元，场分面反射镜8的场分面60在物场14中彼此重叠地成像。
[0095] 场分面反射镜8的场分面60具有对应于物场14的x/y长宽比的x/y长宽比。因 此，场分面60具有大于1的x/y长宽比。场分面60的长分面侧在X方向上延伸。场分面 60的短分面