的第二方向照射。
[0151] 图16所示的掩模M的遮光区域、透反区域和透射区域可相同的尺寸分离地设 置，如图2所示，透射区域可W设置为对应于第一照射区R1的一半。
[0152] 根据本发明的示范性实施例，掩模的遮光区域、透反区域和透射区域可W根据要 形成的域的形式而形成为具有各种尺寸和形状，遮光区域和透反区域可W形成为具有预定 图案或形成为任意设置于掩模中。
[0153] 由于配向层的极角如图1和图2所示根据能量而具有不同值，所W照射能量可使 用包括透反区域的掩模来调节，如本发明示范性实施例中描述的那样。
[0154] 根据一示范性实施例，当如图16所示地进行第二光配向操作时，根据掩模的对应 区域形成液晶分子的具有不同极角0 1、0 2和0 3的区域，如图17所示。
[0巧5] 也就是说，如图15所示，在第一照射时仅被配向在一个方向上的液晶分子具有改 变的配向W根据第二照射时的照射能量而具有与第一极角01相反的方向，结果，液晶分 子配向为具有第二极角0 2和第=极角0 3。
[0156] 根据本发明一示范性实施例，斜率可根据透反区域的透射率而多样化，当透反区 域的透射率为约50%且照射能量为第一照射中的两倍大时，在对应于透反区域的部分中的 大部分液晶分子可配向为基本垂直于基板，在对应于透射区域的部分中的液晶分子可配向 为与对应于遮光区域的部分中的液晶分子的极角相反。
[0157] 现在参照图18至图34E，现在将描述由进行上述光配向方法而导致的各种液晶分 子配向。
[0158] 图18至图28是示出根据本发明的包括遮光区域T0,透反区域T1、T2,化及透射区 域T3的各种布局的光掩模的示范性实施例的图；图29A至图34E是示出根据本发明的使用 图18至图28的光掩模的光配向方法的示范性实施例的图。
[0159] 图18和图19所示的光掩模可包括遮光区域TO和透射区域T3,其每个形成两列一 行，或者可设置为形成像图20所示的光掩模那样的一列四行。
[0160] 此外，根据一示范性实施例，除了遮光区域TO和透射区域T3之外，图21至图28 所示的光掩模包括透反区域T1、T2。
[0161] 根据一示范性实施例，图21至图28的透反区域T1、T2可根据光透射水平而分成 第一透反区域T1和第二透反区域T2。第一透反区域T1中的光透射量可小于第二透反区域 T2中的光透射量。第一透反区域T1和第二透反区域T2的光透射量可根据要形成的液晶分 子的配向方向而在约0% <T1、T2的透射率<100%的范围内可变地设定。例如，第一透反区 域T1中的光透射量可设定为约25%，第二透反区域T2中的光透射量可设定为约75%，或 者第一透反区域T1中的光透射量可设定为约30%，第二透反区域T2中的光透射量可设定 为约70%。
[0162] 根据一示范性实施例，遮光区域TO、第一透反区域T1、第二透反区域T2和透射区 域T3可如图21所示地依次布置。备选地，如图22所示，第一透反区域T1、透射区域T3、遮 光区域TO和第二透反区域T2可依次布置，或者如图23所示，第二透反区域T2、透射区域 T3、遮光区域TO和第一透反区域T1可依次布置。
[0163] 备选地，如图20所示，根据另一示范性实施例，遮光区域TO和透射区域T3可交替 布置而不包括透反区域。
[0164] 备选地，如图24所示，根据另一示范性实施例，透射区域T3、遮光区域TO、第一透 反区域T1和第二透反区域T2可依次布置。
[01化]透射区域T3,遮光区域TO和透反区域T1、T2可如图25至图28所示地分成更小 的区域。
[0166] 图25至图28的光掩模设置为遮光区域T0,透射区域T3和透反区域T1、T2形成 两列四行。
[0167] 根据一示范性实施例，遮光区域TO、透射区域T3W及透反区域T1和T2可具有各 种尺寸和布局，并可根据域的形状和尺寸而不同地划分。
[0168] 现在将详细描述使用上述光掩模的光配向方法。
[0169] 对上配向层和下配向层中的每个进行光配向操作。两个配向层中的任一个可被配 向为图18至图20的光掩模之一，另一个可被配向为图21至图28的光掩模之一。
[0170] 如图29A所示，对下配向层11进行第一光配向操作而没有使用光掩模。光沿第一 方向照射，其可W是任意方向，为了更好的理解和描述的方便，在图29A中光从底部到顶部 照射。
[0171] 之后，如图29B所示，图18的光掩模设置在下配向层11上，然后进行第二光配向 操作。光沿与第一方向相反的第二方向照射。
[0172] 为了更好的理解，光的照射方向显示为箭头，传输到配向层11的照射能量通过改 变箭头的厚度来显示。箭头的直线的厚度越大，传输到配向层11的光能越多。
[017引接着，根据一示范性实施例，如图29C所示，对上配向层21进行第立光配向操作而 没有使用光掩模。光沿垂直于第一方向的第=方向照射。
[0174] 此外，根据一示范性实施例，图21的光掩模设置在上配向层21上，之后，进行第四 光配向操作，如图29D所示。光沿与第=方向相反的第四方向照射。
[0175] 根据一示范性实施例，当上配向层11和下配向层21使用图18和图21的光掩模 配向时，可形成具有不同配向方向的八个区域，如图29E所示。具体地，设置在配向层的中 央的四个区域形成第一组G1，形成第一组G1的四个区域布置为循环型液晶配向。
[0176] 此外，位于第一组G1的上部和下部中的四个区域形成第二组G2,形成第二组G2的 四个区域W与第一组G1相同的方向布置为循环型液晶配向。
[0177] 根据一示范性实施例，第一组G1和第二组G2的配向方位角的绝对值彼此不同，第 一组G1的方位角的绝对值可大于第二组G2的方位角的绝对值。
[0178] 图30A-30E绘示了示出使用图23和图27的光掩模进行的光配向方法的图。图 30A-30E的光配向方法类似于图29A-29E的光配向方法。
[0179] 也就是说，如图30A和图30C所示，进行下配向层11的第一光配向操作和上配向 层21的第=光配向操作而没有使用光掩模。然而，如图30B所示，第二光配向操作使用图 27的光掩模进行；如图30D所示，第四光配向操作使用图23的光掩模进行。
[0180] 该样，当使用图23和图27的光掩模进行光配向操作时，可W获得如图30E所示的 液晶分子配向，其中第一组G1的循环方向和第二组G2的循环方向彼此相反。根据一示范 性实施例，第一组G1的方位角的绝对值和第二组G2的方位角的绝对值可彼此不同。
[0181] 图31A示出使用图19和21的光掩模进行的光配向方法，其类似于图29A-2犯的 光配向方法。
[0182] 也就是说，如图31A和图31C所示，进行下配向层11的第一光配向操作和上配向 层21的第=光配向操作而没有使用光掩模。然而，如图31B所示，第二光配向操作使用图 21的光掩模进行；如图31D所示，第四光配向操作使用图19的光掩模进行。
[0183] 根据一示范性实施例，当使用图19和图21的光掩模进行光配向操作时，可W获得 如图31E所示的液晶分子配向，其具有从组G1和G2每个的中央向外散开的方向。第一组 G1的方位角的绝对值和第二组G2的方位角的绝对值可彼此不同。
[0184] 图32A-32E示出使用图20和图28的光掩模的光配向方法，其类似于图29的光配 向方法。
[0化5] 也就是说，如图32A和32C所示，进行下配向层11的第一光配向操作和上配向层 21的第=光配向操作而没有使用光掩模。然而，如图32B所示，第二光配向操作使用图20 的光掩模进行；如图32D所示，第四光配向操作使用图28的光掩模进行。
[0186] 根据一示范性实施例，当使用图20和图28的光掩模进行光配向方法时，第一组G1 形成从外向中央配向的集中配向，第二组G2形成散开配向，如图32E所示。在此情形下，第 一组G1的方位角的绝对值和第二组G2的方位角的绝对值可彼此不同。
[0187] 图33A-33E示出使用图18和图23的光掩模的光配向方法，其类似于图27的光配 向方法。
[0188] 也就是说，如图33A和33C所示，进行下配向层11的第一光配向操作和上配向层 21的第=光配向操作而没有使用光掩模。然而，如图33B所示，第二光配向操作使用图18 的光掩模进行；如图33D所示，第四光配向操作使用图23的光掩模进行。
[0189] 根据一示范性实施例，当使用图18和图23的光掩模进行光配向方法时，第一组G1 包括配向为集中型和散开型的部分，第二组G2形成循环型配向，如图33E所示。此外，第一 组G1的方位角的绝对值和第二组G2的方位角的绝对值可彼此不同。
[0190] 图34A-34E示出使用图18和图24的光掩模的光配向方法，其类似于图29的光配 向方法。
[0191] 也就是说，如图34A和34C所示，进行下配向层11的第一光配向操作和上配向层 21的第=光配向操作而没有使用光掩模。然而，如图34B所示，第二光配向操作使用图18 的光掩模进行；如图34D所示，第四光配向操作使用图24的光掩模进行。
[0192] 根据一示范性实施例，当使用图18和图24的光掩模进行光配向方法时，第一组G1 和第二组G2可包括配向为集中型和散开型的部分，如图34E所示。此外，第一组G1的方位 角的绝对值和第二组G2的方位角的绝对值可彼此不同。
[0193] 根据一示范性实施例，关于图29至图34的第一组G1和第二组G2,第一组G1可对 应于图13所示的第一像素电极的下部。根据另一示范性实施例，第一组G1和第二组G2甚 至可应用到第二像素电极19化，并在第一像素电极191a的基础上单独地位于第二像素电 极19化的上部和下部中。
[0194] 根据一示范性实施例，图18至图28的光掩模可根据将要形成的域或像素电极的 划分形状而适当地组合和使用。
[0195] 在一示范性实施例中，当更多样地形成光配向掩模的上述图案时，可W更有效地 防止纹理的形成。
[0196] 图35和图36是示出根据本发明的光掩模的示范性实施例的图。
[0197] 图35的光掩模包括第一透射区域T4、第二透射区域T5和第S透射区域T6。第一、 第二和第=透射区域T4、T5和T6分别具有不同的透射率。
[0198] 在一示范性实施例中，第一透射区域T4的透射率可小于第二透射区域T5的透射 率，第二透射区域T5的透射率可小于第=透射区域T6的透射率。
[0199] 在一示范性实施例中，当第一透射区域T4为具有0%的透射率的遮光区域且第S 透射区域T6为具有约100%的透射率的透射区域时，第二透射区域T5的透射率可W从0% 至约100%。
[0200] 此外，当第二透射区域T5和第=透射区域T6为透反区域时，第=透射区域T6的 透射率可高于第二透射区域T5的透射率。
[0201] 在一示范性实施例中，第一透射区域T4和第二透射区域T5设置为彼此水平地相 邻并水平地将像素一分为二。
[0202]