阵列基板、显示面板和显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及显示装置领域，具体地，设及一种阵列基板、一种包括所述阵列基板的 显示面板和一种包括所述显示面板的显示装置。
【背景技术】
[0002] 双折射是光束入射到各向异性的晶体后分解为两束沿不同方向折射的光的现象， 分解后的两束光为振动方向互相垂直的线偏振光。光学聚合物的双折射主要包括取向双折 射和光弹性双折射两种。其中，光弹性双折射是由聚合物的弹性变形而引起的双折射。在 光学部件的使用过程中，如果光学部件的温度发生变化，那么光学部件的体积会发生收缩， 从而在材料中产生弹性变形，材料的弹性变形会引起光弹性双折射。
[0003] 在液晶显示面板的制造和使用的过程中会受到应力的作用，使液晶显示面板产生 弹性变形，因此，液晶显示面板的光弹性双折射率会发生改变，从而会导致漏光现象的产 生。
[0004] 在现有技术中，通常通过改变形成液晶显示面板的偏光片或保护层的树脂材料的 主链取向或者去除弹性变形来降低光学树脂的双折射性，但是该样会大大降低生产效率。
[0005] 因此，如何通过简单的方法消除光学双折射性成为本领域亟待解决的技术问题。
【发明内容】
[0006] 本发明的目的在于提供一种阵列基板、一种包括所述阵列基板的显示面板和一种 包括所述显示面板的显示装置，所述阵列基板不具有光学双折射性。
[0007] 为了实现上述目的，作为本发明的一个方面，提供一种阵列基板，所述阵列基板包 括透明基板和贴在所述透明基板上的偏光片，所述偏光片包括与所述透明基板接触的第一 保护层，其中，所述第一保护层和所述透明基板之间满足如下公式（1):
[0008]
( 1 )
[0009] 其中，C为综合光弹性系数；
[0010] Cl。。为透明基板的光弹性系数，C1。。具有第一预定值；
[0011] P为透明基板的密度，P具有第二预定值；
[0012] di。。为所述透明基板的厚度，d1。。具有第S预定值；
[0013] C,。。为所述第一保护层的光弹性系数；
[0014]P2。。为所述第一保护层的密度；
[0015] cU为所述第一保护层的厚度。
[0016] 优选地，所述第一保护层厚度不超过第四预定值，制成所述第一保护层的材料为 基体材料和添加剂的混合物，W使得所述第一保护层的光弹性系数满足所述公式（1)。
[0017] 优选地，所述基体材料为=醋酸纤维素或环締姪共聚物，所述添加剂为甲基丙締 酸甲醋、甲基丙締酸=氣己醋、甲基丙締酸=氯己醋、甲基丙締酸苯甲醋、甲基丙締酸=甲 基环己醋和甲基丙締酸五氣苯醋中的任意一种。
[001引优选地，所述透明基板的光弹性常数为（0. 5~如X10-叩3-1。
[0019] 优选地，所述偏光片还包括第二保护层和夹在所述第一保护层与所述第二保护层 之间的偏光层，所述偏光层的材料为聚苯己締改性的=醋酸纤维素或者环締姪共聚物。
[0020] 优选地，所述透明基板的厚度为100~300ym，所述第一保护层的厚度为65~ 85ym。
[0021] 作为本发明的另一个方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括本发明所提供 的上述阵列基板。
[0022] 优选地，所述阵列基板包括像素电路，所述像素电路设在所述透明基板上未设所 述第一保护层的表面上。
[0023] 优选地，所述阵列基板包括彩膜层，所述彩膜层设置在所述透明基板上未设所述 第一保护层的表面上。
[0024] 作为本发明的还一个方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括本发明所提供 的上述显示面板。
[0025] 在设计本发明所提供的阵列基板时，无需考虑对偏光片的材料进行改进，只需要 调节第一保护层的厚度或者第一保护层的材料即可确保最终形成的阵列基板在受到应力 的情况下光弹性双折射率变化为零（或者接近于零），从而可W消除或降低最终形成的显 示面板因光弹性双折射而产生的漏光现象。
【附图说明】
[0026] 附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具 体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：
[0027] 图1是本发明所提供的阵列基板的剖视示意图。
[002引 附图标记说明
[0029] 100;透明基板200;第一保护层
[0030] 300 ;偏光层400 ;第二保护层
【具体实施方式】
[0031]W下结合附图对本发明的【具体实施方式】进行详细说明。应当理解的是，此处所描 述的【具体实施方式】仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
[0032] 作为本发明的一个方面，提供一种阵列基板，如图1所示，所述阵列基板包括透明 基板100和贴在该透明基板100上的第一保护层200,其中，第一保护层200和透明基板100 之间满足如下公式（1):
[00对
…
[0034]其中，C为综合光弹性系数；
[00对 Cl。。为透明基板的光弹性系数，C1。。具有第一预定值；
[0036]P1。。为透明基板的密度，P1。。具有第二预定值；
[0037]di。。为所述透明基板的厚度，d1。。具有第S预定值；
[003引C,。。为所述第一保护层的光弹性系数；
[0039]P2。。为所述第一保护层的密度；
[0040] cU为所述第一保护层的厚度。
[0041] 需要指出的是，此处的C=0是一种理想的情况，在工业生产中有可能达不到该理 想情况。因此，在工业生产中，只要使得|c|无限接近于0即可。
[0042] 在本领域中，通常利用W下公式（2)来计算阵列基板的光弹性双折射变化率：
[0043] Anph= CX〇(2)
[0044] 其中，Ariph为材料的双折射变化率；
[0045] C为阵列基板的光弹性系数；
[0046] 0为阵列基板的应力。
[0047] 如公式（1)中所示，阵列基板的综合光弹性系数C为零，因此，无论阵列基板内部 是否存在应力，阵列基板的光弹性双折射都是零。
[0048] 在设计阵列基板时，透明基板100是由设计人员预先选定的，因此，透明基板的光 弹性系数Cl。。、透明基板100的密度P1。。、透明基板的厚度di。。是已知的。
[0049] 第一保护层200的密度P2。。和该第一保护层的光弹性系数C,。。都是由第一保护层 200的材料所确定的。也就是说，只要确定了第一保护层200的材料是确定的，那么就可W 确定第一保护层200的密度P2。。和该第一保护层的光弹性系数C2。。。
[0化0] 通过上述关系式（1)可W获得第一保护层200的厚度dw。、第一保护层200的密度 P2。。与其光弹性系数〔2。。之间的关系。得知了上述S者的关系之后，可W按照如下方式设 计所述阵列基板：
[0051] S1、利用现有的用于制作第一保护层200的材料的光弹性系数和密度计算该材料 制成的第一保护层的厚度；
[0化2] S2、判断上述厚度是否超过预定值，如果超过预定值则表明第一保护层过厚，如果 上述厚度未过厚的话，则利用上述材料制作具有上述厚度的第一保护层；如果上述厚度过 厚，则需要通过提高第一保护层的光弹性系数来降低厚度，此时需要对现有的用于制作第 一保护层的材料进行改性，得到改性后的材料；
[0化3] S3、利用改性后的材料的的光弹性系数和密度计算该改性后的材料制成的第一保 护层的厚度。
[0化4] 重复上述=个步骤，直至得到厚度未超过预定值的第一保护层为止，从而确定了 制作偏光片中第一保护层的材料。
[0化5] 容易理解的是，在本发明中，所述偏光片应当具有液晶显示装置中偏光片的功能。 因此，所述偏光片应当包括偏光层300,偏光层300设置在第一保护层200上，第一保护层 200的主要作用有两个，一个是与透明基板100配合防止漏光的产生，另一个作用则是对偏 光层300进行防水保护。并且，第一保护层200和偏光层300都是由有机材料制成，在透明 基板100上先设置第一保护层200还可W增加偏光层300贴附的牢固程度。
[0化6]总之，在设计本发明所提供的阵列基板时，无需考虑对偏光片中其他膜层（例如， 偏光层300W及下文中将提到的第二保护层400)的材料进行改进，只需要调节第一保护层 200的厚度cU。或者选择第一保护层的材料即可确保最终形成的阵列基板在