甲基-2-羟基异丁酸酯和环己酮，将光刻胶组合 物层上的未曝光区域用显影剂去除，形成光刻胶图案。
[0018] 实施例4 (1) 准备一个光纤面板基板； (2) 在光纤面板基板的正面涂覆光刻胶组合物，组合物按重量比为ETA-735 0. 45份、 乙酸乙酯2. 5份、丙二醇甲醚醋酸酯16份、二甲基乙酰胺6. 5份、重氮萘醌磺酸酯3份、2-羟 基乙基丙烯酸甲酯5份、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯8份和甲基丙烯酸正丁酯4份，形成 光刻胶组合物层； (3) 在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层； (4) 在光刻胶组合物层上施加显影剂甲基-2-羟基异丁酸酯和环己酮，将光刻胶组合 物层上的未曝光区域用显影剂去除，形成光刻胶图案。
[0019] 实施例5 (1) 准备一个光纤面板基板； (2) 在光纤面板基板的正面涂覆光刻胶组合物，组合物按重量比为ETA-735 0. 48份、 乙酸乙酯3份、丙二醇甲醚醋酸酯14份、二甲基乙酰胺5份、重氮萘醌磺酸酯3份、2-羟基 乙基丙烯酸甲酯9份、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯4份和甲基丙烯酸正丁酯4份，形成光 刻胶组合物层； (3) 在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层； (4) 在光刻胶组合物层上施加显影剂甲基-2-羟基异丁酸酯和环己酮，将光刻胶组合 物层上的未曝光区域用显影剂去除，形成光刻胶图案。
[0020] 实施例6 (1) 准备一个光纤面板基板； (2) 在光纤面板基板的正面涂覆光刻胶组合物，组合物按重量比为ETA-735 0. 42份、 乙酸乙酯3份、丙二醇甲醚醋酸酯15份、二甲基乙酰胺5份、重氮萘醌磺酸酯2. 5份、2-羟 基乙基丙烯酸甲酯8份、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯5份和甲基丙烯酸正丁酯4份，形成 光刻胶组合物层； (3) 在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层； (4) 在光刻胶组合物层上施加显影剂甲基-2-羟基异丁酸酯和环己酮，将光刻胶组合 物层上的未曝光区域用显影剂去除，形成光刻胶图案。
[0021] 实施例7 (1) 准备一个光纤面板基板； (2) 在光纤面板基板的正面涂覆光刻胶组合物，组合物按重量比为ETA-735 0. 4份、乙 酸乙酯2. 5份、丙二醇甲醚醋酸酯14. 5份、二甲基乙酰胺5. 5份、重氮萘醌磺酸酯2份、2-羟 基乙基丙烯酸甲酯6份、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯6份和甲基丙烯酸正丁酯5份，形成 光刻胶组合物层； (3) 在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层； (4) 在光刻胶组合物层上施加显影剂甲基-2-羟基异丁酸酯和环己酮，将光刻胶组合 物层上的未曝光区域用显影剂去除，形成光刻胶图案。
[0022] 对比例 (1) 准备一个光纤面板基板； (2) 在光纤面板基板的正面涂覆光刻胶组合物，组合物按重量比为ETA-735 0. 4份、乙 酸乙酯8份、丙二醇甲醚醋酸酯2份、二甲基乙酰胺0.5份、重氮萘醌磺酸酯2份、2-羟基乙 基丙烯酸甲酯4份、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯2份和甲基丙烯酸正丁酯4份，形成光刻 胶组合物层； (3) 在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层； (4) 在光刻胶组合物层上施加显影剂环己酮，将光刻胶组合物层上的未曝光区域用显 影剂去除，形成光刻胶图案。
[0023] 实验例 利用本发明光刻胶形成浮雕图像，立即测量实施例1-实施例4以及对比例的膜厚度和 增加的曝光量，计算厚度损失，并且检测图案塌陷情况，结果如表1 :
表1 由表1可知，本发明实施例1-实施例4的制得光刻胶的厚度损失小，没有图案塌陷的 情况，质量显著高于对比例。
[0024] 上述详细说明是针对本发明其中之一可行实施例的具体说明，该实施例并非用以 限制本发明的专利范围，凡未脱离本发明所为的等效实施或变更，均应包含于本发明技术 方案的范围内。
【主权项】
1. 一种光刻胶图案的形成方法，其特征在于，包括以下步骤： 准备一个光纤面板基板； 在光纤面板基板的正面涂覆光刻胶组合物，形成光刻胶组合物层； 在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层； 在光刻胶组合物层上施加显影剂甲基-2-羟基异丁酸酯和环己酮，将光刻胶组合物层 上的未曝光区域用显影剂去除，形成光刻胶图案。2. 如权利要求1所述的光刻胶图案的形成方法，其特征在于，所述光刻胶组合物按重 量比为聚醚改性的有机硅流平剂0. 4-0. 55份、溶剂20-23份、光活性物质2-3份和树脂 16-18 份。3. 如权利要求2所述的光刻胶图案的形成方法，其特征在于，所述聚醚改性的有机硅 流平剂为ETA-735。4. 如权利要求2所述的光刻胶图案的形成方法，其特征在于，所述溶剂为乙酸乙酯、丙 二醇甲醚醋酸酯和二甲基乙酰胺。5. 如权利要求2所述的光刻胶图案的形成方法，其特征在于，所述乙酸乙酯、丙二醇甲 醚醋酸酯和二甲基乙酰胺的质量比为（2-3) :(14-18) : (4-7)。6. 如权利要求2所述的光刻胶图案的形成方法，其特征在于，所述光活性物质为重氮 萘醌磺酸酯。7. 如权利要求2所述的光刻胶图案的形成方法，其特征在于，所述树脂为2-羟基乙基 丙烯酸甲酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯和甲基丙烯酸正丁酯。
【专利摘要】本发明公开了一种光刻胶图案的形成方法，组合物包括有机硅流平剂0.4-0.55份、溶剂20-23份、光活性物质2-3份和树脂16-18份。形成方法包括（1）准备一个光纤面板基板；（2）在光纤面板基板的正面涂覆光刻胶组合物；（3）在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层；（4）在光刻胶组合物层上施加显影剂甲基-2-羟基异丁酸酯和2-庚酮，将光刻胶组合物层上的未曝光区域用显影剂去除，形成光刻胶图案。
【IPC分类】G03F7/027, G03F7/20, G03F7/016, G03F7/32
【公开号】CN105301916
【申请号】CN201510781896
【发明人】陈哲, 任鲁风, 殷金龙
【申请人】北京中科紫鑫科技有限责任公司
【公开日】2016年2月3日
【申请日】2015年11月16日