曝光机吸盘结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种曝光机吸盘结构，属于半导体领域。
【背景技术】
[0002]众所周知，半导体黄光工艺包含上光阻、曝光以及显影三道工序，其中上光阻是指借助离心力将光刻胶均匀地涂布于晶元，形成光刻胶膜的过程；曝光是利用曝光光束将覆有光刻胶膜的晶元进行照射，形成图案；而显影则是最后的操作，具体是将曝光形成的排列有序的图案再经显影工序显现出来，半导体领域所使用的曝光机配件吸盘的发明，涂布工序进行时，晶元放置于涂布机吸盘凸起部位，如果晶元背面接触吸盘凸起部位的区域受到污染，在进行下道工序即曝光工序时，曝光机吸盘与晶元之间由于颗粒物质的存在，曝光时晶元各区域并不处于同一水平面(存在高度差)，从而引发曝光离焦不良。
【发明内容】
[0003]针对上述现有技术存在的问题，本实用新型提供一种曝光机吸盘结构，不仅可以提升生产效率、生产良率提高，同时可以降低返工成本。
[0004]为了实现上述目的，本实用新型通过以下技术方案实现:一种曝光机吸盘结构，包括涂布机吸盘、凸起部位1、凹槽部位1、晶元、曝光机吸盘、凸起部位II和凹槽部位II，所述的涂布机吸盘表面一侧均匀等距设置有凸起部位I和凹槽部位I，涂布机吸盘表面另一侧为平面，晶元放在凸起部位I上，所述的曝光机吸盘表面一侧均匀等距设置有凸起部位II和凹槽部位II，曝光机吸盘表面另一侧为平面，晶元放在凸起部位II上。
[0005]所述凸起部位II位于凸起部位I内中外圈的中间，凸起部位II与凸起部位I相互错开。
[0006]所述的凸起部位I和凸起部位II的尺寸相同，凹槽部位I和凹槽部位II的尺寸相同。
[0007]本结构中涂布机吸盘与曝光机吸盘接触到的晶元背面位置错开，即使与涂布机吸盘接触的晶元背面附着颗粒物，污染源也不会蔓延至曝光机吸盘，从而避免了因颗粒物存在而出现曝光离焦不良，可以提升生产效率、生产良率提高，同时可以降低返工成本。
【附图说明】
[0008]图1是涂布机吸盘结构示意图；
[0009]图2是曝光机吸盘结构示意图；
[0010]图中:1、涂布机吸盘，11、凸起部位I，12、凹槽部位I，3、晶元，2、曝光机吸盘，21、
凸起部位II，22、凹槽部位II。
【具体实施方式】
[0011]下面结合附图对本实用新型做进一步说明。
[0012]如图1和图2所示，本曝光机吸盘结构，包括涂布机吸盘1、凸起部位I 11、凹槽部位I 12、晶元3、曝光机吸盘2、凸起部位II 21和凹槽部位II 22，所述的涂布机吸盘I表面一侧均匀等距设置有凸起部位I 11和凹槽部位I 12，涂布机吸盘I表面另一侧为平面，晶元3放在凸起部位I 2上，所述的曝光机吸盘2表面一侧均匀等距设置有凸起部位II 21和凹槽部位II 22，曝光机吸盘4表面另一侧为平面，晶元3放在凸起部位II 21上。
[0013]所述凸起部位II 5位于凸起部位I 2内中外圈的中间，凸起部位II 5与凸起部位
I2相互错开，因两种吸盘凸起部位错开，而不会污染到曝光机吸盘2，从而避免了离焦不良，不仅生产良率得到提升，而且降低了返工成本。
[0014]所述的凸起部位I 11和凸起部位II 21的尺寸相同，凹槽部位I 12和凹槽部位
II22的尺寸相同。
[0015]凸起部位I 11接触的晶元3背面，附着颗粒物被局部污染；当局部被污染的晶元3放置在曝光机吸盘2时，由于涂布机吸盘I与凸起部位II 21相互错开，故不会出现因颗粒物存在而产生晶元3倾斜，晶元3在接受曝光光束照射时处于同一水平面，对焦更为精准，曝光后形成的图形更为均匀有序。
【主权项】
1.一种曝光机吸盘结构，其特征在于，包括涂布机吸盘(I)、凸起部位I (11)、凹槽部位I (12)、晶元(3)、曝光机吸盘(2)、凸起部位II (21)和凹槽部位II (22)，所述的涂布机吸盘(I)表面一侧均匀等距设置有凸起部位I (11)和凹槽部位I (12)，涂布机吸盘(I)表面另一侧为平面，晶元(3)放在凸起部位I (2)上，所述的曝光机吸盘(2)表面一侧均匀等距设置有凸起部位II (21)和凹槽部位II (22)，曝光机吸盘(4)表面另一侧为平面，晶元(3)放在凸起部位II (21)上。
2.根据权利要求1所述的曝光机吸盘结构，其特征在于，所述凸起部位II(5)位于凸起部位I (2)内中外圈的中间，凸起部位II (5)与凸起部位I (2)相互错开。
3.根据权利要求1所述的曝光机吸盘结构，其特征在于，所述的凸起部位I(11)和凸起部位II (21)的尺寸相同，凹槽部位I (12)和凹槽部位II (22)的尺寸相同。
【专利摘要】本实用新型是一种曝光机吸盘结构，包括涂布机吸盘（1）、凸起部位Ⅰ（11）、凹槽部位Ⅰ（12）、晶元（3）、曝光机吸盘（2）、凸起部位Ⅱ（21）和凹槽部位Ⅱ（22），所述的涂布机吸盘表面一侧均匀等距设置有凸起部位Ⅰ和凹槽部位Ⅰ，涂布机吸盘表面另一侧为平面，晶元放在凸起部位Ⅰ上，所述的曝光机吸盘表面一侧均匀等距设置有凸起部位Ⅱ和凹槽部位Ⅱ，曝光机吸盘表面另一侧为平面，晶元放在凸起部位Ⅱ上；本实用新型不仅可以提升生产效率、生产良率提高，同时可以降低返工成本。
【IPC分类】G03F7-20
【公开号】CN204374611
【申请号】CN201520042567
【发明人】崔相玉, 魏明德, 金惠东, 金度亨
【申请人】徐州同鑫光电科技有限公司
【公开日】2015年6月3日
【申请日】2015年1月22日