专利名称：晶圆研磨定位环的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及晶圆研磨定位环，尤指一种定位环下缘设有若干个废物槽的晶圆研磨定位环。
参见
图1-3、分别为台湾专利第90219987号的立体图、反面示意图及另一废物槽的局部示意图。本案的晶圆研磨定位环的环体2下缘设有若干条废物槽7，是利用环体2旋转时的离心力摔出研磨所产生的废物；该废物槽7贯穿于环体2外周缘9与内周缘8之间，向旋转离心力作用线方向倾斜，与作用线方向越一致效果越佳(如图3所示)，并且以等距离设置为更佳。
参见图4、为台湾专利第90219986号的立体图。本案的晶圆研磨定位环的环体2构造与上一专利案基本相同，不同在于环体2下缘的若干个凹入环体的废物槽7，是接近于环体2内周缘8的内端，为封闭的弧形端10，该弧形端10两端沿晶圆研磨定位环旋转所产生的离心力方向，渐趋扩展延伸至外周缘9止，形成呈斜锥状外端开口的凹槽，用以利用晶圆研磨定位环旋转时的离心力摔出研磨所产生的废物。
参见图5，为台湾专利第90219986号的另一实施例，本案的晶圆研磨定位环的环体2下缘设有若个废物槽7，是配合晶圆研磨定位环旋转时的离心力方向设置的其他形状的斜锥状凹槽，同样可达到相同的效果。
上述二案定位环旋转的速度高，摔出废物的速度因过高而溅起，造成周围设备的污染。
发明内容
本实用新型的主要目的，是要提供一种将上述晶圆研磨定位环结构作更进一步的改进，在环体下缘设有若干个适当形状的废物槽，以降低摔出废物的速度，避免速度过高溅起，而对周围设备造成的污染。
本实用新型的技术方案一种晶圆研磨定位环，包括一环体，为圆环体，由具有极佳承载性、耐磨性及耐腐蚀性的晶状塑胶一体成形，其内径与所套合且同轴旋转的待研磨晶圆的外径相配合；其环体周壁顶缘设有同体适当宽度与高度的环形凸缘，在环形凸缘上设有复数个等距离环形排列的凹孔；复数个螺护套与凹孔相配合并压嵌在凹孔内定位；若干出水孔设于环体内周壁，并贯穿环体周壁向外排水；该环体下缘设有若干凹入环体的废物槽；其特征在于该废物槽为内、外两端开口，呈斜锥状凹槽。
其中所述环体下缘的若干个废物槽，为开放式三角形的斜锥状凹槽。
所述环体下缘的若干个废物槽，为两侧呈弧形壁的凹槽。
所述环体下缘的若干个废物槽，为两侧斜直壁的正锥形凹槽。
所述环体下缘的若干个废物槽一侧为斜直壁，另一侧为弧形壁的凹槽。
所述环体下缘的若干个废物槽一侧为弧形壁，另一侧为斜直壁的凹槽。
本实用新型的有益效果由于充分利用各种适当形状的废物槽及研磨定位环旋转时的离心力，可降低研磨所产生废物的摔出速度，则避免了因速度过高所溅起的废物对周围设备的污染，并可充分利用若干各种适当形状的废物槽及研磨定位环旋转时的离心力，降低摔出研磨废物的速度。
图2、为
图1的反面立体图。
图3、为第90219987号另一废物槽的局部示意图。
图4、为台湾专利第90219986号的立体图。
图5、为第90219986号另一废物槽的局部示意图。
图6、为本实用新型的反面立体图。
图7-10、为本实用新型各实施例废物槽的局部示意图。
参见图6、为本实施例1的反面结构，其结构与第90219987号有不同之处，前述环体2下缘设有复数个凹入环体的废物槽7，该复数个废物槽7为开放式的三角形，即内外端开口呈斜锥状的凹槽，用以在晶圆研磨定位环1旋转时，减缓研磨所产生废物的摔出速度。
参见图7，为实施例2、其晶圆研磨定位环1的环体2废物槽7，为两侧呈弧形壁的凹槽，用以在晶圆研磨定位环1旋转时，减缓研磨所产生废物的摔出速度。
参见图8、为实施例3、其晶圆研磨定位环1的环体2废物槽7，为两侧斜缘壁呈正锥形的凹槽，用以在晶圆研磨定位环1旋转时，降低研磨所产生废物的摔出速度。
参见图9、为实施例4、其晶圆研磨定位环1的环体2废物槽7，为一侧斜缘壁另一侧弧形壁的凹槽，用以在晶圆研磨定位环1旋转时，减缓研磨所产生废物的摔出速度。
参见
图10、为实施例5、其晶圆研磨定位环1的环体2废物槽7，为一侧弧形壁另一侧斜缘壁的凹槽，用以在晶圆研磨定位环1旋转时，减缓研磨所产生废物的摔出速度。
综上所述，本实用新型由于采用各种不同形式的废物槽，该废物槽贯穿于环体外周缘与内周缘之间，向旋转离心力作用线方向倾斜，与作用线方向相一致，且以等距离设置，所以利用环体旋转时的离心力摔出研磨所产生的废物为更佳。
权利要求1.一种晶圆研磨定位环，包括一环体，为圆环体，由具有极佳承载性、耐磨性及耐腐蚀性的晶状塑胶一体成形，其内径与所套合且同轴旋转的待研磨晶圆的外径相配合；其环体周壁顶缘设有同体适当宽度与高度的环形凸缘，在环形凸缘上设有复数个等距离环形排列的凹孔；复数个螺护套与凹孔相配合并压嵌在凹孔内定位；若干出水孔设于环体内周壁，并贯穿环体周壁向外排水；该环体下缘设有若干凹入环体的废物槽；其特征在于该废物槽为内、外两端开口，呈斜锥状凹槽。
2.根据权利要求1所述的晶圆研磨定位环，其特征在于所述环体下缘的若干个废物槽，为开放式三角形的斜锥状凹槽。
3.根据权利要求1所述的晶圆研磨定位环，其特征在于所述环体下缘的若干个废物槽，为两侧呈弧形壁的凹槽。
4.根据权利要求1所述的晶圆研磨定位环，其特征在于所述环体下缘的若干个废物槽，为两侧斜直壁的正锥形凹槽。
5.根据权利要求1所述的晶圆研磨定位环，其特征在于所述环体下缘的若干个废物槽一侧为斜直壁，另一侧为弧形壁的凹槽。
6.根据权利要求1所述的晶圆研磨定位环，其特征在于所述环体下缘的若干个废物槽一侧为弧形壁，另一侧为斜直壁的凹槽。
专利摘要一种晶圆研磨定位环，包括一环体，由具有极佳承载性、耐磨性及耐腐蚀性的晶状塑胶一体成形，其内径与所套合并带动同轴旋转的待研磨晶圆的外径相配合；环体周壁顶缘设有同体适当宽度与高度的环形凸缘，凸缘上设有若干等距离环形排列的凹孔，复数个螺护套与凹孔相配合并压嵌在凹孔内定位，若干出水孔设于环体周壁，并贯穿环体周壁向外排水；其环体下缘设有若干个凹入环体的废物槽，该废物槽内、外两端开口呈斜锥状凹槽，用以降低研磨所产生废物的摔出速度。
文档编号B23Q3/18GK2538485SQ02204740
公开日2003年3月5日 申请日期2002年1月23日 优先权日2002年1月23日
发明者陈水源, 陈水生, 陈添丁 申请人:陈水源, 陈水生, 陈添丁