一种高精度的碳化硅化学抛光机的制作方法

专利名称:一种高精度的碳化硅化学抛光机的制作方法
【专利摘要】一种高精度的碳化硅化学抛光机，包括底座，其特征在于：所述底座的上侧面设有固定板以及由电机带动进行旋转的第一抛光平台和第二抛光平台，所述的抛光装置包括位于第二抛光平台正上方的抛光片，所述的抛光片连接于移动轴一端，移动轴另一端穿入固定板并与可通过自身转动调节移动轴穿入固定板长度的定位轴通过锯齿啮合。本实用新型通过设有打磨装置和抛光装置对于碳化硅进行抛光，这样可以对于碳化硅有一个初步的磨平棱角的工序，不仅方便了下面的抛光工序，而且使得抛光更为彻底，通过转动定位轴改变抛光片的位置，保证对抛光片进行全面的抛光，提高了抛光质量和精度，而且从一定程度上还可以节约抛光时间和成本，具有很强的实用性。
【专利说明】
一种高精度的碳化硅化学抛光机
技术领域
[0001]本实用新型涉及碳化硅化学抛光机技术领域，具体为一种高精度的碳化硅化学抛光机。
【背景技术】
[0002]在加工碳化硅的工序中需要对碳化硅的表面进行抛光处理，目前常用的方法是在抛光平台一侧固定抛光片，通过抛光平台的转动，抛光片对碳化硅进行抛光处理。然而，由于抛光片位置固定，不能结合碳化硅自身的条件来选择对哪部分进行重点抛光处理，哪部分轻微处理，即抛光精度不高，易造成碳化硅材料的浪费和部分区域抛光不彻底。对此我们提出一种高精度的碳化硅化学抛光机。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于提供一种高精度的碳化硅化学抛光机，以解决对碳化硅抛光精度不高的问题。
[0004]—种高精度的碳化硅化学抛光机，包括底座，所述底座的上侧面设有固定板以及由电机带动进行旋转的第一抛光平台和第二抛光平台，所述第一抛光平台的一侧设有垂直安装于底座的打磨装置，所述打磨装置包括位于第一抛光平台正上方的打磨棒;所述的固定板上设置有储液仓和抛光装置，储液仓底端连通抛光液输送管一端，抛光液输送管另一端连接有位于第二抛光平台正上方的喷头;所述的抛光装置包括位于第二抛光平台正上方的抛光片，所述的抛光片连接于移动轴一端，移动轴另一端穿入固定板并与可通过自身转动调节移动轴穿入固定板长度的定位轴通过锯齿啮合。
[0005]工作时，把需要加工的碳化硅放在第一抛光平台上进行初步加工，启动电机和打磨装置，转动第一抛光平台利用打磨棒进行打磨，对碳化硅上一些较大的棱角进行磨平，之后再把初步加工过的碳化硅放在第二抛光平台上，通过喷头在碳化硅上喷洒抛光液，再启动电机和抛光装置，转动第二抛光平台利用抛光片进行抛光，抛光过程中，通过转动定位轴改变抛光片的位置，对碳化硅进行精确的抛光。保证了抛光精度，提高工作效率。
[0006]为便于测量和调节抛光片的位置，所述的移动轴垂直穿入固定板，所述的定位轴垂直于移动轴。
[0007]所述移动轴一侧边设置有锯齿，对应定位轴与移动轴连接处，绕定位轴外周设有锯齿。可以通过控制定位轴转动，改变移动轴穿入固定板的距离，进而改变抛光片的位置。
[0008]所述底座为中空结构，且底座内部设有与第一抛光平台和第二抛光平台位置对应的转动轴，所述的转动轴下端连接电机，上端贯穿底座并且与第一抛光平台和第二抛光平台连接。
[0009]所述底座通过轴承与转动轴连接。摩擦阻力小，减小转动轴与底座之间的摩擦损伤，提高机械效率，便于安装拆卸，维修方便。
[0010]本实用新型的有益效果是:该高精度的碳化硅化学抛光机，通过设有的第一抛光平台和第二抛光平台并且通过打磨装置和抛光装置对于碳化硅进行抛光，这样可以对于碳化硅有一个初步的磨平棱角的工序，不仅方便了下面的抛光工序，而且使得抛光更为彻底，通过转动定位轴改变抛光片的位置，保证对抛光片进行全面的抛光，提高了抛光质量和精度，而且从一定程度上还可以节约抛光时间和成本，具有很强的实用性。
【附图说明】

[0011]图1为本实用新型结构不意图；
[0012]图2为电机与第二抛光平台的连接示意图；
[0013]图3为移动轴和定位轴的连接不意图；
[0014]图中:I底座、2第一抛光平台、3第二抛光平台、4定位轴、5打磨装置、6移动轴、7抛光液输送管、8喷头、9抛光片、1打磨棒、11电机、12固定板、13储液仓、14转动轴、15锯齿。
【具体实施方式】
[0015]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。如图1-2中所示，一种高精度的碳化硅化学抛光机，包括底座I，所述底座I的上侧面设有固定板12以及由电机11带动进行旋转的第一抛光平台2和第二抛光平台3，所述第一抛光平台2的一侧设有垂直安装于底座I的打磨装置5，所述打磨装置5包括位于第一抛光平台2正上方的打磨棒1;所述的固定板12上设置有储液仓13和抛光装置，储液仓13底端连通抛光液输送管7—端，抛光液输送管7另一端连接有位于第二抛光平台3正上方的喷头8，所述的抛光装置包括位于第二抛光平台3正上方的抛光片9和连接抛光片9和固定板12带有锯齿15的移动轴6，所述的移动轴6—侧设有与其垂直并带有锯齿的定位轴4，所述的定位轴4的锯齿与移动轴6的锯齿15相啮合。所述底座I为中空结构，且底座I内部设有与第一抛光平台2和第二抛光平台3位置对应的转动轴14，所述的转动轴14下端连接电机11，上端贯穿底座I并且与第一抛光平台2和第二抛光平台3连接，所述底座I通过轴承与转动轴14连接。
[0016]工作流程:首先，把需要加工的碳化硅放在第一抛光平台2上，启动电机11和打磨装置5，边转动边打磨，对碳化硅上一些较大的棱角进行磨平，之后再把初步加工过的碳化硅放在第二抛光平台3上，通过喷头8在碳化硅上喷洒抛光液，再启动电机11和抛光装置，边转动边抛光，抛光过程中，通过转动定位轴4改变抛光片9的位置，对碳化硅进行精确的抛光。
【主权项】
1.一种高精度的碳化硅化学抛光机，包括底座(I)，其特征在于:所述底座(I)的上侧面设有固定板(12)以及由电机(11)带动进行旋转的第一抛光平台(2)和第二抛光平台(3)，所述第一抛光平台(2)的一侧设有垂直安装于底座(I)的打磨装置(5)，所述打磨装置(5)包括位于第一抛光平台(2)正上方的打磨棒(10);所述的固定板(12)上设置有储液仓(13)和抛光装置，储液仓(13)底端连通抛光液输送管(7)—端，抛光液输送管(7)另一端连接有位于第二抛光平台(3)正上方的喷头(8);所述的抛光装置包括位于第二抛光平台(3)正上方的抛光片(9)，所述的抛光片(9)连接于移动轴(6)—端，移动轴(6)另一端穿入固定板(12)并与可通过自身转动调节移动轴(6)穿入固定板(12)长度的定位轴(4)通过锯齿啮合。2.根据权利要求1所述的高精度的碳化硅化学抛光机，其特征在于:所述的移动轴(6)垂直穿入固定板(12)，所述的定位轴(4)垂直于移动轴(6)。3.根据权利要求1所述的高精度的碳化硅化学抛光机，其特征在于:所述移动轴(6)—侧边设置有锯齿(15)，对应定位轴(4)与移动轴(6)连接处，绕定位轴(4)外周设有锯齿。4.根据权利要求1所述的高精度的碳化硅化学抛光机，其特征在于:所述底座(I)为中空结构，且底座(I)内部设有与第一抛光平台(2)和第二抛光平台(3)位置对应的转动轴(14)，所述的转动轴(14)下端连接电机(11)，上端贯穿底座(I)并且与第一抛光平台(2)和第二抛光平台(3)连接。5.根据权利要求1所述的高精度的碳化硅化学抛光机，其特征在于:所述底座(I)通过轴承与转动轴(14)连接。
【文档编号】B24B55/02GK205703564SQ201620386999
【公开日】2016年11月23日
【申请日】2016年4月29日
【发明人】宗艳民
【申请人】山东天岳晶体材料有限公司