一种曲拐拐径高精度抛光设备的制造方法

文档序号:9058937阅读:627来源:国知局
一种曲拐拐径高精度抛光设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于用于磨削或抛光的机床、装置或工艺;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给的技术领域,特别涉及一种能稳定抛光进而保证曲拐拐径的粗糙度、抛光方向和直径大小要求的曲拐拐径高精度抛光设备。
【背景技术】
[0002]曲拐是曲轴总成中的三大组成部件之一,主要用于与连杆装配连接,通过活塞内部燃烧爆炸借助连杆将动力推向曲轴总成,使曲轴总成旋转工作。工作过程中,曲拐拐径与轴瓦接触,两者的接触面会通过曲拐拐径上的油孔输入机油形成一层润滑油,用于在曲拐拐径与轴瓦相对旋转过程中起到润滑作用,因此,在加工曲拐拐径的过程中,其粗糙度、抛光方向和直径大小要求是至关重要的。
[0003]现有技术中,对曲拐拐径的粗糙度的控制主要以涂有类似抛光膏的抛光剂的核桃钳夹住曲拐拐径进行抛光,在抛光前必须保证抛光钳上有足够的抛光膏,并且一定要保证抛光钳内不得有其他颗粒物,如铁肩等杂质,才能进行抛光作业,因为一旦有此类杂质将直接影响到产品的表面,产生划痕,影响曲拐的正常工作。现有技术的加工法抛光结果不稳定,加工过程不可控,产品精度低,抛光时间过长,抛光成本高,抛光膏容易飞溅导致环境污染,工作台环境差。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型解决的技术问题是,由于现有技术中,对曲拐拐径的粗糙度的控制主要以涂有类似抛光膏的抛光剂的核桃钳夹住曲拐拐径进行抛光,在抛光前必须保证抛光钳上有足够的抛光膏,并且一定要保证抛光钳内不得有其他颗粒物才能进行抛光作业,而导致的抛光结果不稳定,加工过程不可控,产品精度低,抛光时间过长,抛光成本高,抛光膏容易飞溅导致环境污染,工作台环境差的问题,进而提供了一种优化结构的曲拐拐径高精度抛光设备。
[0005]本实用新型所采用的技术方案是,一种曲拐拐径高精度抛光设备,包括工作台,所述工作台上设有导轨,所述导轨上方配合设有支架;所述支架上设有抛光带盘,所述抛光带盘前侧部设有上加压气缸,所述抛光带盘的下方配合设置有下加压气缸和收带轮,所述支架前侧设有动力盘,所述动力盘上设有抛光工位,所述抛光工位的上端和下端设有上传送轮和下传送轮,所述抛光带盘、上加压气缸、上传送轮、抛光工位、下传送轮、下加压气缸和收带轮通过抛光带顺次配合设置;所述动力盘、上加压气缸、下加压气缸和收带轮连接至触发机构。
[0006]优选地,所述触发机构包括推送气缸,所述推送气缸设于所述支架后侧,所述推送气缸与所述支架连接;所述支架下部还设有与所述推送气缸连接的位移传感机构。
[0007]优选地,所述位移传感机构包括支撑板,所述支撑板上设有若干指令柱,所述支架下端设有电磁感应器,所述电磁感应器与所述指令柱配合设置。
[0008]优选地,所述支架前端通过上传送轮支撑杆和下传送轮支撑杆分别连接至上传送轮和下传送轮。
[0009]优选地,所述抛光工位顺次通过抛光工位支撑杆和弹簧连接至支架前端。
[0010]优选地,所述抛光工位和支架间设有I?3组抛光工位支撑杆和弹簧。
[0011]优选地,所述支架后端设有收带长度调节杆,所述收带长度调节杆与所述收带轮配合设置,所述收带长度调节杆通过支撑架设于工作台上。
[0012]优选地,所述动力盘上设有可调节平衡块。
[0013]优选地,所述动力盘为偏心盘。
[0014]本实用新型提供了一种优化结构的曲拐拐径高精度抛光设备,通过在工作台的导轨上设置支架,在支架上设置抛光带盘用于存储抛光带,在抛光带盘的前侧部设置上加压气缸用于工作中在抛光带上施加一定压力保证抛光带的顺利、平整送出,在抛光带盘的下方配合设置下加压气缸和收带轮用于在完成抛光作业的抛光带上施加一定压力保证抛光带的顺利、平整收回;在支架前侧设置动力盘,并在动力盘上设置抛光工位,在抛光工位的上端和下端对应设置上传送轮和下传送轮,以动力盘的运动带动抛光带的运动、与曲拐做相对运动进而对曲拐拐径进行抛光打磨处理;本实用新型的设备通过抛光带将抛光带盘、上加压气缸、上传送轮、抛光工位、下传送轮、下加压气缸和收带轮顺次连接为一个整体,同时,动力盘、上加压气缸、下加压气缸和收带轮连接至触发机构,保证了能在适当的时间触发完成动力盘、上加压气缸、下加压气缸和收带轮的开启和关闭,使得能在适当的阶段完成一截曲拐拐径的抛光打磨作业。本实用新型可以直接采用抛光带对曲拐拐径进行抛光操作,杂质相对较少,对于曲拐的抛光作业影响小,抛光结果更为稳定,加工过程整体可控可调,曲拐成品率高,精度高,抛光时间缩短,抛光成本低,且抛光带本身在经过抛光作业后直接由收带轮收紧,废料处理难度降低,环境友好。
【附图说明】
[0015]图1为本实用新型的结构示意图;
[0016]图2为本实用新型设置曲拐后的使用状态结构示意图。
【具体实施方式】
[0017]下面结合实施例对本实用新型做进一步的详细描述,但本实用新型的保护范围并不限于此。
[0018]如图所示,本实用新型涉及一种曲拐拐径高精度抛光设备,包括工作台1,所述工作台上设有导轨2,所述导轨2上方配合设有支架3 ;所述支架3上设有抛光带盘4,所述抛光带盘4前侧部设有上加压气缸5,所述抛光带盘4的下方配合设置有下加压气缸6和收带轮7,所述支架3前侧设有动力盘8,所述动力盘8上设有抛光工位9,所述抛光工位9的上端和下端设有上传送轮10和下传送轮11,所述抛光带盘4、上加压气缸5、上传送轮10、抛光工位9、下传送轮11、下加压气缸6和收带轮7通过抛光带12顺次配合设置;所述动力盘
8、上加压气缸5、下加压气缸6和收带轮7连接至触发机构。
[0019]本实用新型中,工作台I上设置有导轨2,导轨2上设置有支架3,支架3可以在导轨2上前后运动,用于调整抛光带12的收带长度。
[0020]本实用新型中,抛光带盘4、上加压气缸5、上传送轮10、抛光工位9、下传送轮11、下加压气缸6和收带轮7构成完整的抛光带12的行进路线。用于存储抛光带12的抛光带盘4设置在支架3上部,在抛光带盘4的前侧部设置用于工作中在抛光带12上施加一定压力以保证抛光带12能顺利、平整送出的上加压气缸5,在抛光带盘4的下方配合设置用于在完成抛光作业的抛光带12上施加一定压力保证抛光带12能顺利、平整收回的下加压气缸6和收带轮7,在支架3前侧设置动力盘8,并在动力盘8上设置用于放置待抛光的曲拐13的抛光工位9,在抛光工位9的上端和下端对应设置用于朝抛光工位9输入抛光带12的上传送轮10和用于将抛光完毕的抛光带12输出的下传送轮11,以动力盘8的运动带动抛光带12的运动、与曲拐13做相对运动进而对曲拐13拐径进行抛光打磨处理。
[0021]本实用新型中,动力盘8、上加压气缸5、下加压气缸6和收带轮7连接至触发机构,保证了能在适当的时间触发完成动力盘8、上加压气缸5、下加压气缸6和收带轮7的开启和关闭,使得能在适当的阶段完成一截曲拐13拐径的抛光打磨作业。
[0022]本实用新型可以直接采用抛光带12对曲拐13拐径进行抛光操作,杂质相对较少,对于曲拐13的抛光作业影响小,抛光结果更为稳定,加工过程整体可控可调,曲拐13成品率高,精度高,抛光时间缩短,抛光成本低。
[0023]本实用新型中,抛光带12本身在经过抛光作业后直接由收带轮7收紧,废料处理难度降低,亦没有使用到抛光膏等不易清理的制剂,在抛光的过程中环境友好。
[0024]所述触发机构包括推送气缸14,所述推送气缸14设于所述支架3后侧,所述推送气缸14与所述支架3连接;所述支架3下部还设有与所述推送气缸14连接的位移传感机构。
[0025]本实用新型中,触发机构包括设置在支架3后侧的推送气缸14,推送气缸14与支架3接触,直接作用于支架3使其前后运动,当抛光作业开始时,推送气缸14推动支架3,上加压气缸5压紧抛光带12,当抛光工位9触碰到抛光带12后,抛光带12贴合曲拐13拐径进行加工。
[0026]本实用新型中,支架3下部还设有与推送气缸14连接的位移传感机构,位移传感机构能传感到支架3的行进数据,到达准确的工位时不再前移,只进行抛光加工,当经过了一定的抛光时间后,推送气缸14拉回支架3停止抛光作业,完成加工。
[0027]本实用新型中,具体的加工时间可以依据曲拐13拐径的实际情况进行设置。
[0028]所述位移传感机构包括支撑板15,所述支撑板15上设有若干指令柱16,所述支架3下端设有电磁感应器17,所述电磁感应器17与所述指令柱16配合设置。
[0029]本实用新型中,位移传感机构包括支撑板15,支撑板15上设置指令柱16,支架3下端设有电磁感应器17,电磁感应器17与指令柱16配合设置,即当电磁感应器17感应到支架3的位置相对于指令柱16产生变化时即发出信号,进而控制动力盘8、上加压气缸5、下加压气缸6和收带轮7的具体运动。
[0030]本实用新型中,一般设置多个指令柱16,以不同的指令柱16控制不同的
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