专利名称：化学镀装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种化学镀装置。
背景技术：
化学镀镍技术是采用金属盐和还原剂，在材料表面发生自催化反应获得镀层的方法。化学镀镍层具有较高的抗腐蚀性、高耐磨性、与基体结合力强、不受制件形状限制等优点。化学镀镍技术广泛应用于石油、化工、电子、航天、汽车等工业。
化学镀镍具有以下优越的工艺特点(1)不存在氢脆问题，即生成的氢气不会渗透到基体金属中，也不会渗透到镀层中。
(2)可沉积于各种材料表面。
(3)沉积层厚度可控，其工艺简单，操作方便，温度低，成本低。
(4)镀层厚度比电镀层均匀。化学镀镍可避免电镀层由于电流分布不均匀而带来的厚度不均匀，电镀层的厚度在整个零件尤其是形状复杂的零件上差异较大，零件的边角和离阳极近的部位，镀层较厚，而于内表面或离阳极远的地方镀层很薄，甚至镀不到，采用化学镀可避免电镀此不足。
但是，影响化学镀镍厚度均匀性的因素仍然存在。由于受欲镀件表面析出的氢气流和镀液浓度差异的影响，外壳的镀层均匀度仍有差异。为了保证外壳镀层的均匀性和理想的镀速，化学镀镍槽必须配备溶液搅拌装置，使镀液具有一定流速，以及时驱开欲镀件表面的气泡，消除镀液浓度差异，并避免镀液局部过热而造成镍于镀槽表面析出。
如图1所示，一般的化学镀装置10采用空气搅拌系统。该化学镀装置10包括一主体11，用于容纳镀液；一设于该主体11上方的吊臂挂台12，用于悬挂欲镀件13；一设于该主体11内部底端的多孔管道14，其外接充气装置(图未示)。该充气装置向多孔管道充气，该多孔管道14产生许多气泡向上运动，气泡可将欲镀件表面13产生的氢气微气泡带走并向外排放，这样可高速均匀地完成化学镀。但是，若欲镀件为平整外形，尚可镀出较均匀表面；若欲镀件为具有细小凹凸外形，则不易形成厚度均匀的镀层，并且易于欲镀件表面形成针孔性现象；而且使用空气搅拌容易带进油污，增加镀液热量损耗。
如图2所示，2002年8月14日公告的第98108482.6号中国专利揭露一种采用振动装置的化学镀装置20，其包括一主体21，用于容纳镀液；一振动支架22，其通过若干支撑弹簧27连接于主体21上端；该振动支架22包括两伸入槽液的振动幅架22a、22b；一振动棒28连接于该两振动幅架22a、22b，该振动棒28设有若干振动叶片29；一振动马达25连接该振动支架22和一重量平衡器26。该化学镀装置20通过振动马达25控制振动支架22和振动棒28，使振动叶片29搅拌槽液达到去除氢气泡的目的。但是，该化学镀装置20的振动结构过于复杂，而且其振动具有滞后性，振动经过几次传递以后造成过多能量消耗。
有鉴于此，提供一种具有结构简单、能耗低以及镀膜均匀性良好的化学镀装置实为必要。
发明内容以下，将以若干实施例说明一种具有结构简单、能耗低以及镀膜均匀性良好的化学镀装置。
为实现上述内容，提供一种化学镀装置，其包括一主体，用于容纳镀液；一承载装置，用于承载欲镀件；至少一搅拌器设于主体内部底端。
其中，该搅拌器外接驱动装置。
优选的，该承载装置可相对于主体转动。
进一步的，该承载装置包括一设于该主体上方的固定部和一承载部，其固定于该固定部，用于承载欲镀件。
与现有技术相比较，本技术方案的化学镀装置采用外接驱动装置的搅拌器，其能有效快速控制转速和旋转方向，使镀液具有一定流速，及时驱开欲镀件表面的气泡、避免镀液局部过热而造成镍在主体表面析出，使镀膜均匀性良好；且可转动的承载装置可控制旋转速度和旋转方向，配合搅拌器可以找出最佳的化学镀镍实验参数；另外，该承载装置的承载部可采用承载若干欲镀件的结构，也能提高产品产量。综上所述，本技术方案的镀槽具有结构简单、能耗低、产量高以及镀膜均匀性良好的优点。
图1是现有技术的化学镀装置结构示意图。
图2是第98108482.6号中国专利的化学镀装置结构示意图。
图3是本技术方案实施例的化学镀装置结构示意图。
具体实施方式
下面将结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。
请参阅图3，本发明实施例的化学镀装置30，其包括一主体31，用于容纳镀液；一承载装置(未标示)；至少一搅拌器34设于主体31内部底端，并外接驱动装置(图未示)；一温控加热器35，其一加热端伸入镀液中，用于控制镀液的温度。
本实施例的主体31可选用不锈钢壳体，并于该壳体内壁喷涂适当厚度的聚四氟乙烯。由于聚四氟乙烯具有良好的耐温性，绝缘性，耐酸、碱、盐腐蚀性，同时不粘镀液，容易清洗和修补，所以非常适用于化学镀。
本技术方案的承载装置可相对于主体31转动，其包括一设于该主体31上方的固定部32和一浸入镀液的承载部33，用于承载欲镀件。通过固定部32的旋转带动并控制承载部33的转动方向和速度。该固定部32与该承载部33可以一体成型，也可以采用相连接的方式分开成两部件组装。
本实施例中的固定部32和承载部33采用螺杆连接的方式相互结合。本实施例的承载部33为环状柱体，在其外缘表面设有多道凹槽331，并藉此以将柱体等分成多个等分，未设有凹槽331处即形成凸缘332，在每一凸缘332上都朝内设有多个承接孔333，各承接孔的内缘上、下侧呈一倾斜面(图未示)，用以承接欲镀件(图未示)，各凸缘332上的承接孔333与其两相邻的凸缘332上的承接孔333呈交错排列，以避免相邻欲镀件(图未示)过于紧密，影响镀层质量。该承载部33的环状柱体中心设有一螺纹开口，通过螺杆36与固定部32相连接。可以理解的是，本实施例的该固定部32与该承载部33的连接也可采用其它方便操作的活动连接方法。
本实施例的搅拌器34为叶形，其包括一旋转轴341和固定于该旋转轴341侧面的若干叶片342。该叶片342可采用金属、合成树脂等材料。如采用金属材料，可选用钛、铝、铜、钢、不锈钢或其合金；如采用合成树脂，可选用聚碳酸酯、氯乙烯基树脂、聚丙烯等。另，可以理解的是，本实施例的叶形搅拌器34，其结构并不限于若干叶片342固定于旋转轴341的结构，也可采用一体成形的叶片组件，其底座具有一与旋转轴搭配的固定装置，在该旋转轴的带动下叶片组件同样能起到搅拌镀液的效果。
本实施例的镀液可以采用硫酸镍、次磷酸钠和柠檬酸铵以适当比例调配。在使用该镀槽30进行化学镀镍时，需将配置好的镀液注入化学镀槽主体，使镀液保持适当高度；通过温控加热器35加热镀液，使镀液保持在40度左右；启动搅拌器34并一直保持工作状态。在镀液搅拌均匀后，将装好欲镀件(图未示)的承载部33浸入镀液，并通过固定部32控制承载部33的转速和方向。为了得到更好的镀层，其旋转方向可与搅拌器34旋转方向相反。
可以理解的是，本技术方案的承载部可以采用市面上已出现的各种夹具，只要其能满足固定欲镀件的功能且不与镀液发生反应即可，如具有单一或若干夹紧装置的夹具。本技术方案的搅拌器除了采用叶形搅拌器外，也可采用其它结构简单的机械式搅拌装置，只要其能满足于外部激活装置的作用下，该机械式搅拌器能有效快速控制转速和旋转方向进行低能耗的工作。另外，为了达到更好的搅拌镀液的效果，同样可于镀槽内部底端设置多个搅拌器。
当然，本技术方案的化学镀装置不仅适用于化学镀镍，其同样可广泛适用于各种化学镀，如化学镀铜、化学镀金等。
本技术方案的化学镀装置采用外接驱动装置的搅拌器，其能有效快速控制转速和旋转方向，使镀液具有一定流速，及时驱开欲镀件表面的气泡、避免镀液局部过热而造成镍于主体表面析出，使镀膜均匀性良好；而且可旋转的承载装置可控制旋转速度和旋转方向，配合搅拌器可以找出最佳的化学镀镍实验参数；另外，该承载装置的承载部可以采用承载若干欲镀件的结构，也能提高产品产量。所以，本技术方案的镀槽具有结构简单、能耗低、产量高以及镀膜均匀性良好的优点。
另外，本领域技术人员还可在本发明精神内做其他变化，当然，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围的内。
权利要求
1.一种化学镀装置，其包括一主体，用于容纳镀液；一承载装置，用于承载欲镀件；其特征在于进一步包括至少一搅拌器设于该主体内部底端。
2.如权利要求1所述的化学镀装置，其特征在于主体为不锈钢壳体。
3.如权利要求2所述的化学镀装置，其特征在于不锈钢壳体内壁喷涂聚四氟乙烯层。
4.如权利要求1所述的化学镀装置，其特征在于镀液含有硫酸镍、次磷酸钠和柠檬酸铵。
5.如权利要求1所述的化学镀装置，其特征在于承载装置可相对于主体转动，其包括一设于该主体上方的固定部和一承载部，其固定于该固定部，用于承载欲镀件。
6.如权利要求5所述的化学镀装置，其特征在于承载部为一环状柱体，在其外缘表面设有多道凹槽，并藉此以将柱体等分成多个等分，未设有凹槽处即形成凸缘，在每一凸缘上都朝内设有多个承接孔，用以承接欲镀件。
7.如权利要求6所述的化学镀装置，其特征在于环状柱体中心设有一螺纹开口，用于与一螺杆相连接。
8.如权利要求5所述的化学镀装置，其特征在于固定部通过螺杆连接该承载部。
9.如权利要求1所述的化学镀装置，其特征在于搅拌器包括叶形搅拌器。
10.如权利要求9所述的化学镀装置，其特征在于叶形搅拌器包括一旋转轴和固定于该旋转轴侧面的若干叶片。
11.如权利要求9所述的化学镀装置，其特征在于叶形搅拌器包括一旋转轴和一叶片组件，其底座具有一与该旋转轴搭配的固定装置。
12.如权利要求10或11所述的化学镀装置，其特征在于叶片为金属或合成树脂材料制成。
13.如权利要求12所述的化学镀装置，其特征在于金属包括钛、铝、铜、钢、不锈钢或其合金。
14.如权利要求12所述的化学镀装置，其特征在于合成树脂包括聚碳酸酯、氯乙烯基树脂、聚丙烯。
15.如权利要求1所述的化学镀装置，其特征在于化学镀装置进一步包括一温控加热器，其一加热端伸入镀液中，用于控制镀液的温度。
全文摘要
本发明涉及一种化学镀装置，其包括一主体，用于容纳镀液；一承载装置，用于承载欲镀件；和至少一搅拌器设于主体内部底端。其中，该搅拌器外接驱动装置。本技术方案的化学镀装置具有结构简单、能耗低、产量高以及镀膜均匀性良好的优点。
文档编号C23C22/00GK1834290SQ20051003373
公开日2006年9月20日 申请日期2005年3月18日 优先权日2005年3月18日
发明者黄全德 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司