塑料薄膜镀铝方法

专利名称：塑料薄膜镀铝方法
技术领域：
本发明涉及一种真空镀铝材料的生产方法。
技术背景塑料薄膜本身的物理特性以及它的透明度所决定了它是不具备导电功能的。因此通过在聚酯薄膜表面均匀的镀上一层金属材料——铝，生产好以后经过24小时金属铝分子的结构固化以后，会使该产品具备了很强的导电功能。以 下是对该产品的简单介绍电子屏蔽镀铝膜电子工业作为二十一世纪的支柱产业，它的作用越来越 大，而作为电子产品的"保护神"——电子屏蔽包装袋则是电子产品中必不可 少的产物。那么电子屏蔽包装膜主要是根据物理原理法拉弟电笼原理而设计生 产的，而真空镀铝恰恰就是解决这个原理最好的一个工艺手段，PET薄膜经过真 空镀铝以后主要形成了以下几个方面的作用以及如果镀铝工艺不均匀也会造成 以下问题(1) PET薄膜经过真空镀铝以后，表面就形成了金属层，于是也就形成了 导电网络，但是如果普通的真空镀铝则(l)影响了包装的可视性；(2)屏蔽性 能达不到要求1分〈46dB电磁波。因此，如果真空镀铝厚度不均匀，根本就无法 保证屏蔽性能。(2) 如果真空镀铝均匀度不好的话，就会造成PET薄膜的铝层， 一边很透 明， 一边半透明，那么根据法拉弟电笼屏蔽的原理要求，产品的表面就会有盲点，造成有空洞区域，就无法保证产品的屏蔽性能。 发明内容本发明需要解决的技术问题是提供了一种塑料薄膜镀铝镀铝方法，旨在解 决上述的问题。为了解决上述技术问题，本发明是通过以下步骤实现的打开真空箱，将塑料薄膜装放于放巻轴上，固定于穿膜带上，自动穿膜，进入生产准备状态；在真空箱内安装N条材性是二硼化碳的蒸发舟；N是正整数；在真空箱内安装N盘普通铝丝，铝丝纯度为99.99%以上； 将真空箱关闭；进行抽气，将真空室内的真空度数值抽到3. 5X 10—4mbar以上； 将镀膜鼓的温度设定为0°C-2°C; 将蒸发舟的工作温度数值设定为130(TC 135(TC; 将铝丝的送丝速度设定为200讓/min 280mm/min; 将镀膜的巻绕速度设定为9. 5m/秒 13m/秒； 开启等离子装置-,将铝层厚度设定为3. 5 Q /□ (300A) - 54 Q /□ (60A); 观察镀铝层的均匀度，均匀度的要求在±2%以内。与现有技术相比，本发明的有益效果是镀铝层的厚度以及均匀度的误差 从±10%以上提到±3%的精度，满足了产品质量的要求。
具体实施方式
下面结合具体实施方式
对本发明作进一步详细描述由于产品本身的用途都是金属导电以及光线有关联，主要是通过导电作用达 到产品的最终用途，通过本发明生产此类产品与原来工艺相比镀铝层的厚度 以及均匀度的误差从±10%以上提到±3%的精度。打开真空箱，将塑料薄膜装放于放巻轴上，固定于穿膜带上，自动穿膜， 进入生产准备状态；在真空箱内安装N条材性是二硼化碳的蒸发舟；N是正整数； 在真空箱内安装N盘普通铝丝，铝丝纯度为99.99%以上；所述的N是22;对辅材铝丝纯度的对比a:现有技术生产普通镀铝膜产品，在蒸镀时只要求铝丝的纯度达到99.8% 即可；b:本发明生产电子屏蔽镀铝膜产品，在蒸镀时则要求铝丝纯度必须达到 99. 99%以上；本发明与现有技术的对比由于普通镀铝膜对表面的铝层覆盖面要求不高，而电子屏蔽镀铝膜对表面的铝层覆盖面要求高，因此，采用高纯度的铝丝，在 生产时，可防止亮点、铝溅射等现象，且送丝稳定，产品光泽度好。 真空度对比a、 现有技术 一般普通镀铝膜产品在蒸镀时对真空度的数值要求达到8.0 X10—4mbar以上即可；b、 本发明特殊镀铝膜产品在蒸镀时对真空度的数值要求非常高，必须达 到3.5X10—4mbar。本发明与现有技术的对比如果真空度不好的情况下生产电子屏蔽镀铝膜会造成均匀度很差。因此，此产品必须在高真空的状态下铝层才能非常均匀的蒸 镀在薄膜表面。
镀膜时镀膜鼓的温度设定对比
a、 现有技术 一般普通镀铝膜产品在蒸镀的时候要求镀膜鼓温度设为-10 °C -15°C;
b、 本发明在生产电子屏蔽镀铝膜过程中，镀膜鼓的温度要求必须设定在
0。C-2。C。
本发明与现有技术的对比在生产电子屏蔽镀铝膜的过程中如果镀膜鼓的 温度设定偏低会造成镀铝层的铝退化较快，那么如果温度设定偏高则会造成薄 膜收巻的时候基材受损及收縮。经过大量的实验证明把镀膜鼓的温度设定在0
t:-2卩是对该产品的基材以及铝层牢固度保护最好的。
蒸发舟加热温度以及材质对比(材质成分二硼化碳)
a:现有技术生产普通镀铝膜时，正常加热温度，蒸发舟的工作温度数值 须设定在145(TC 150(TC。生产普通镀铝膜所使用的蒸发舟一般只需要冷电阻 的材料，材料结构三组分即可。
b:本发明生产电子屏蔽镀铝膜时，蒸发舟的工作温度数值必须设定在1300
'C 135(TC方可进行生产。生产此产品时，所使用的蒸发舟必须要用热电阻， 材料结构为两组分。
本发明与现有技术的对比热电阻的蒸发舟比冷电阻所使用的耐用性以及
稳定性更好。 送铝丝速度的对比
a:现有技术生产普通镀铝膜时，要求蒸镀的时候铝丝的送丝速度一般设定为1200mm/min;
b:本发明生产电子屏蔽镀铝膜时，要求蒸镀的时候铝丝的送丝速度必须 设定在260咖/min 280mm/min。
本发明与现有技术的对比电子屏蔽镀铝膜的产品虽然对功能性要求很高， 但表面铝层含量却很少，因此在蒸镀时送丝量及速度必须控制在260ram/min。否 则，送丝速度过快，则会造成薄膜表面铝层过厚，对产品质量造成影响。
开机速度的对比
a:现有技术生产普通镀铝膜时，蒸镀的速度一般控制在6m/秒；
b:本发明生产电子屏蔽镀铝膜时，蒸镀速度必须控制在9.5m/秒 13m/秒。
本发明与现有技术的对比由于电子屏蔽镀铝膜的表面铝层含量很少，因
此，蒸镀时速度太慢将造成铝层过厚，不能保证质量的稳定性，铝层均匀度也 会不好。
等离子处理的对比
a:现有技术生产普通镀铝膜时， 一般不需要进行等离子处理； b:本发明生产电子屏蔽镀铝膜时，必须进行等离子处理，而且等离子的 正常功率必须设定为2. OKW、进气是氧气220ccra、氩气300ccm。
本发明与现有技术的对比由于电子屏蔽镀铝膜的表面铝层含量很少，因
此对铝层的附着力要求很高，开启等离子处理后，大大增加铝层的附着力，同 时能防止铝层退化。 镀铝层厚度的对比
a:现有技术生产普通镀铝膜铝层厚度一般为1.3Q/口(380A);b:本发明生产电子屏蔽镀铝膜时，铝层厚度最高为54Q/口(60A)，最低
为3. 5Q/口(300A);
本发明与现有技术的对比由于电子屏蔽镀铝膜表面的铝层主要是起导电
网络的作用，如果铝层厚度过厚，它的屏蔽性能就达不到要求(l分〈46db电磁 波)；而且还影响包装的可视性。 镀铝层均匀度的对比
a:现有技术生产普通镀铝膜铝层均匀度在±10%以上。
b:本发明生产电子屏蔽镀铝膜铝层均匀度必须控制在±2%以内。
本发明与现有技术的对比由于电子屏蔽镀铝膜的功能要求是根据法拉利
电笼屏蔽的原理，因此，如果表面铝层均匀度不好，产品表面就会有盲点，造
成有空洞区域，就无法保证产品的屏蔽性能。
当一巻产品生产完毕后，按失效键、按充气键、镀膜鼓进入自动加热状态，
镀膜鼓恢复正常温度，PLOYCO拉达进入自动除霜状态，加热、除霜完毕后，系 统将自动放空；
按真空室打开键，打开真空箱，按张力消除键消除张力；
将生产完毕后的薄膜从收巻轴上卸下，包装入库。
权利要求
1. 一种塑料薄膜镀铝方法，是通过以下步骤实现的(1)、打开真空箱，将塑料薄膜装放于放卷轴上，固定于穿膜带上，自动穿膜，进入生产准备状态；(2)、在真空箱内安装N条材性是二硼化碳的蒸发舟；N是正整数；(3)、在真空箱内安装N盘普通铝丝，铝丝纯度为99.99％以上；(4)、将真空箱关闭；(5)、进行抽气，将真空室内的真空度数值抽到3.5×10-4mbar以上；(6)、将镀膜鼓的温度设定为0℃-2℃；(7)、将蒸发舟的工作温度数值设定为1300℃～1350℃；(8)、将铝丝的送丝速度设定为200mm/min～280mm/min；(9)、将镀膜的卷绕速度设定为9.5m/秒～13m/秒；(10)、开启等离子装置；(11)、将铝层厚度设定为3.5Ω/口()-54Ω/口()；(12)、观察镀铝层的均匀度，均匀度的要求在±2％以内。
2. 根据权利要求1所述的塑料薄膜镀铝方法，其中在步骤(2)中N二22;在步骤(10)中等离子的正常功率设定为2.0KW、进气是氧气220ccm、氩气300ccm。
全文摘要
本发明涉及一种塑料薄膜镀铝方法，是通过以下步骤实现的打开真空箱，将塑料薄膜装放于放卷轴上，固定于穿膜带上，自动穿膜，进入生产准备状态；在真空箱内安装N条材性是二硼化碳的蒸发舟；在真空箱内安装N盘普通铝丝，铝丝纯度为99.99％以上；将真空箱关闭；进行抽气，将真空室内的真空度数值抽到3.5×10^-4mbar以上；将镀膜鼓的温度设定为0℃-2℃；将蒸发舟的工作温度数值设定为1300℃～1350℃；将铝丝的送丝速度设定为200mm/min～280mm/min；将镀膜的卷绕速度设定为9.5m/秒～13m/秒；开启等离子装置；将铝层厚度设定为3.5Ω/□(300)-54Ω/□(60)；观察镀铝层的均匀度，均匀度的要求在±2％以内；镀铝层的厚度以及均匀度的误差从±10％以上提到±3％的精度，满足了产品质量的要求。
文档编号C23C14/24GK101503790SQ20081003352
公开日2009年8月12日 申请日期2008年2月4日 优先权日2008年2月4日
发明者曾文东, 洪晓冬 申请人:上海永超真空镀铝有限公司