专利名称：立式底装料真空回火炉的制作方法
技术领域：
本发明属于热处理行业领域，特别是一种高性能和高品质的真空回火炉。
背景技术：
目前常规的真空回火炉一般采用的是双层水冷结构，当回火炉在大气中打 开出料装料时，空气中的水分就会吸附在水冷炉臂的内臂，由于在加热的过程
中，不是高温，只在650'C以下，因炉壁如一个高效的冷井，故吸附在炉壁的水 分一时无法蒸发去除。只能在低温的状态下慢慢地蒸发。所以在整个过程中一 直有少量的氧分排出，而造成对工件有一定的氧化。加上保温层大部分采用的 是碳毡保温，所以也同样在打开炉门时有水分和氧份吸入，650'C以下的温度无 法一时将其排除，只能随时间的推移而挥发。从而也同样影响工件品质，易产 生少量的氧化而产品光亮度差。
发明内容
本发明是为了对一些高品质要求的工件的品质而设计的回火炉。它可以达 到回火产品的基本不氧化而达到95%以上光亮度的目的。该设备主要解决快速将 吸附在炉臂的水分和炉内的水分及时彻底地抽走。故在水冷炉臂的基础上另加 一真空隔层，以保证内壁有一定的温度而不吸附水分。另将保温层改为金属屏， 也减少了对空气中水分的吸收，在回火前也可充入部分气体，由热循环风机进 行搅拌而将吸附在炉壁和隔热屏内的水分彻底抽走，从而来保证回火工件的真 正光亮。
具体实施例方式
该设备主要由水冷隔热层和真空隔热层作为炉臂，炉内隔热层也采用全金属隔热屏，以减少其对空气中水分的吸收，在炉内设有热循环风机，可在低温 状态下充入高纯惰性气体而将极少部分的水蒸汽赶走。在保证炉内在基本无氧 状态下便可开始升温回火。这样便可确保工件的光亮和少无氧化。
权利要求
1. 炉内保温层采用金属屏进行保温。
2. 炉臂采用三层结构，外部为双臂水冷，内臂为真空隔热层。
3. 采用热导流风机循环将吸附在炉臂的水分能及时抽走。
4. 采用高真空机组，保证极限真空读在0.005pa以下。
全文摘要
本发明主要是热处理行业的一种回火设备，特别是一种高要求高品质的一种回火炉。目前的回火炉是双层水冷结构，有的保温层是碳毡结构，故易吸附水分，而回火温度只有650℃以下，所以水分一时不会马上被抽走，由于挥发慢故易使工件在升温的过程中产生氧化。该设备主要由水冷隔热层和真空隔热层作为炉臂，炉内隔热层也采用全金属隔热屏，以减少其对空气中水分的吸收，在炉内设有热循环风机，可在低温状态下充入高纯惰性气体而将极少部分的水蒸气赶走。在保证炉内在基本无氧状态下便可开始升温回火。这样便可确保工件的光亮和少无氧化。
文档编号C21D1/74GK101503754SQ20081024243
公开日2009年8月12日 申请日期2008年12月26日 优先权日2008年12月26日
发明者顾啸强 申请人:苏州市万泰真空炉研究所有限公司