专利名称：电浆制程设备的制作方法
技术领域：
本发明是有关于一种电浆制程设备，特别是有关于与一处理平面成一倾斜角度之 电浆制程设备。
背景技术：
目前在各国绿色能源政策趋导下，太阳能产业正蓬勃发展，其中最受瞩目首推为 太阳能薄膜电池。太阳能薄膜电池在同一受光面积之下可较太阳能硅晶圆电池大幅减少原 料的用量，形成可产生电压的薄膜厚度仅需数微米；薄膜太阳能电池除了使用平面的玻璃 基板之外，也可使用具有可挠性材质来当作基板，因此可制作成非平面的构造，更可与建筑 物结合或是变成建筑体的一部份。也因如此，基板于制作中必须均勻受热及受电，然此基板 于薄膜太阳能电池之电浆辅助化学气相沉积(PECVD)制程中，于形成一光电反应层之过程 时，存在着受热不均勻之问题，却无法被改善，此一问题影响着太阳能电池中最重要的光电 转换效率；再者基板于处理过程中所需之制程设备过于繁琐，不具有经济效益。因此现有习 知之技术确有待改进之空间。
发明内容
有鉴于习知技术之问题，本发明之目的就是提供一种电浆制程设备，该电浆制程 设备与一处理平面成一倾斜角度，使得基板得以均勻受热。根据本发明之目的，提出一种电浆制程设备。其包含一腔体、一承载装置、至少一 个制程模块、至少一个均温板、至少一个反应室、至少一个气体室及至少一个电极板。其中 制程模块依序置放于承载装置中，承载装置可选择性置放于腔体中；均温板系设置于制程 模块中；反应室系设置于制程模块中，反应室并与均温板接触；气体室系设置于制程模块 中，气体室并与反应室接触；电极板系设置于制程模块中，电极板并与气体室接触。上述之均温板嵌附有一加热器；另外反应室中得以选择性置放基板，此基板可为 玻璃基板、塑料基板或陶瓷基板。根据本发明之目的，更提出一种电浆制程设备，系用以处理基板。其包含一腔体、 至少一支撑组件、一承载装置、至少一个制程模块、至少一个均温板、至少一个反应室、至少 一个气体室及至少一个电极板。支撑组件之一端放置于处理平面上，另一端与腔体连接，支 撑组件用以使腔体与处理平面成一倾斜角度。另外，制程模块依序置放于承载装置中，更可 选择性增加置放于该承载装置中之制程模块；此承载装置可推入并置放于该腔体中。各制程模块包含一均温板、一反应室、一气体室及一电极板。其中反应室与均温板 接触。另外反应室得以选择性置放基板；藉由腔体与处理平面成一倾斜角度，使得基板与均 温板因重力而紧密贴合，遂均勻受热。另外气体室设置于反应室旁，并与反应室接触；电极 板设置于气体室旁，并与气体室接触。承上所述，因依本发明之电浆制程设备，其可具有一或多个下述优点(1)此电浆制程设备用以将加热与受电功能结合于一制程设备上，深具经济效益。
(2)此电浆制程设备，使得基板与均温板因重力而紧密贴合，因此得以均勻受热。
图1系为本发明之电浆制程设备之示意图一；图2系为本发明之电浆制程设备之示意图二 ；以及图3系为本发明之电浆制程设备之示意图三。主要组件符号说明100腔体；
110支撑组件；
200承载装置；
300制程模块；
310均温板；
311加热器；
320反应室；
330气体室；
340电极板；
400处理平面；以及
410倾斜角度。
具体实施例方式以下将参照相关图式，说明依本发明之电浆制程设备之实施例，为使便于理解，下 述实施例中之相同组件系以相同之符号标示来说明。请参阅图1，其系为本发明之电浆制程设备之示意图一。图中包含一腔体100、一 承载装置200、至少一个制程模块300、至少一个均温板310、至少一个反应室320、至少一个 气体室330及至少一个电极板340。其中制程模块300依序置放于承载装置200中，另可 选择性增加置放于该承载装置200中之制程模块300 ；此承载装置200可选择性推入并置 放于该腔体100中；每一个制程模块300包含一个均温板310、一个反应室320、一个气体室 330及一个电极板340。均温板310内嵌设有一加热器311，在均温板310旁设置有反应室 320，均温板310与反应室320接触，反应室320形成一基板之制程环境空间，基板得以置放 于该反应室320中，并使得该基板与均温板310紧密贴合；在反应室320旁设置有一气体室 330，反应室320与气体室330接触，此气体室330充填化学物质；并在气体室330旁设置有 一电极板；340，电极板340并与该气体室330接触。其中上述之均温板310与电极板340可 当作电极之阴阳两极。此电浆制程设备包含电极板340及加热器311，其优点为受电及加热之制程，于 同一设备中进行；再者不需另行加热，以确保于基板制程过程中，温度得以维持在一定之状 态。上述反应室320用以薄膜太阳能电池之电浆辅助化学气相沉积(PECVD)制程，其 中该制程形成一光电反应层于一基板上。基板可为玻璃基板、塑料基板或陶瓷基板。此反 应室320之功用为举例性，而非为限制性者。
请参阅图2，其系为本发明之电浆制程设备之示意图二。此电浆制程设备用以处理 基板，该基板应用于薄膜太阳能电池之电浆辅助化学气相沉积(PECVD)制程，其可为玻璃 基板、塑料基板或陶瓷基板。图2中，包含一腔体100、至少一支撑组件110及一处理平面 400 ；支撑组件110之一端连接腔体100，另一端放置于处理平面400上，其用以使腔体100 与处理平面400成一倾斜角度410，此倾斜角度410较佳为6度。图2中更包含至少一个制程模块300、至少一个均温板310、至少一个反应室320、 至少一个气体室330及至少一个电极板340。其中制程模块300依序设置于承载装置200 中，另可选择性增加置放于该承载装置200中之制程模块300 ；此承载装置200可选择性推 入并置放于该腔体100中；每一个制程模块300包含一个均温板310、一个反应室320、一个 气体室330及一个电极板340 ；各均温板310内嵌设有一加热器311，在均温板310旁设置 有一反应室320，基板得以置放于该反应室320中，均温板310与反应室320接触，此反应室 320形成一空间用以处理基板，其系为基板之制程环境空间，并使得该基板与均温板310紧 密贴合；在反应室320旁设置有一气体室330，气体室330与反应室320接触，另再设置一 电极板；340，电极板340与气体室330接触。其中上述之均温板310与电极板340可当作电 极之阴阳两极。其中，藉由该腔体100与该处理平面400成一倾斜角度410使得该基板与均温板 310因重力而紧密贴合，遂均勻受热。请参阅图3，其系为本发明之电浆制程设备之示意图三。此电浆制程设备用以处 理基板，该基板应用于薄膜太阳能电池之电浆辅助化学气相沉积(PECVD)制程，其可为玻 璃基板、塑料基板或陶瓷基板。图3中，包含一腔体100、一承载装置200、至少一支撑组件 110 ；此承载装置200可选择性置放于该腔体100中，且该承载装置200选择性放置于该腔 体100内；至少一支撑组件110，其一端放置于该腔体100内，另一端与该承载装置200连 接，该支撑组件110用以使承载装置200与腔体100成一倾斜角度410，此倾斜角度410较 佳为6度。图3中更包含至少一个制程模块300、至少一个均温板310、至少一个反应室320、 至少一个气体室330及至少一个电极板340。其中制程模块300依序设置于承载装置200 中，另可选择性增加置放于该承载装置200中之制程模块300 ；此承载装置200可选择性推 入并置放于该腔体100中；每一个制程模块300包含一个均温板310、一个反应室320、一个 气体室330及一个电极板340 ；各均温板310内嵌设有一加热器311，在均温板310旁设置 有一反应室320，基板得以置放于该反应室320中，均温板310与反应室320接触，此反应室 320形成一空间用以处理基板，其系为基板之制程环境空间，并使得该基板与均温板310紧 密贴合；在反应室320旁设置有一气体室330，气体室330与反应室320接触，另再设置一 电极板；340，电极板340与气体室330接触。其中上述之均温板310与电极板340可当作电 极之阴阳两极。其中，藉由该承载装置200与该腔体100成一倾斜角度410使得该基板与均温板 310因重力而紧密贴合，遂均勻受热。以上所述仅为本发明的优选实施例，对本发明而言仅是说明性的，而非限制性的； 本领域技术人员理解，在本发明权利要求所限定的精神和范围内可对其进行许多改变，修 改，甚至等效变更，但都将落入本发明的保护范围内。
权利要求
1.一种电浆制程设备，系用以处理基板，其特征在于其包含 一腔体；一承载装置，系选择性置放于该腔体中； 至少一制程模块，系依序置放于该承载装置中； 至少一均温板，系设置于该制程模块中；至少一反应室，系设置于该制程模块中，该反应室并与该均温板接触，该反应室用以置 放该基板；至少一气体室，系设置于该制程模块中，该气体室并与该反应室接触；以及 至少一电极板，系设置于该制程模块中，该电极板并与该气体室接触。
2.如权利要求1所述的电浆制程设备，其特征在于该均温板内嵌设有一加热器。
3.一种电浆制程设备，系用以处理基板，其特征在于其包含 一腔体；至少一支撑组件，其一端放置于一处理平面上，另一端与该腔体连接，该支撑组件用以 使该腔体与该处理平面成一倾斜角度；一承载装置，系选择性置放于该腔体中； 至少一制程模块，系依序设置于该承载装置中； 至少一均温板，系设置于该制程模块中；至少一反应室，系设置于该制程模块中，该反应室并与该均温板接触，该反应室用以置 放该基板；至少一气体室，系设置于该制程模块中，该气体室并与该反应室接触；以及 至少一电极板，系设置于该制程模块中，该电极板并与该气体室接触； 其中，藉由该腔体与该处理平面成一倾斜角度，使得该基板与该均温板因重力而紧密 贴合，遂均勻受热。
4.如权利要求3所述的电浆制程设备，其特征在于该均温板内嵌附有一加热器。
5.如权利要求3所述的电浆制程设备，其特征在于该制程模块系可选择性增加置放 于该承载装置中。
6.如权利要求3项所述的电浆制程设备，其特征在于该倾斜角度为6度。
7.一种电浆制程设备，系用以处理基板，其特征在于其包含 一腔体；一承载装置，系选择性放置于该腔体内；至少一支撑组件，其一端放置于该腔体内，另一端与该承载装置连接，该支撑组件用以 使该承载装置与该腔体成一倾斜角度；至少一制程模块，系依序设置于该承载装置中； 至少一均温板，系设置于该制程模块中；至少一反应室，系设置于该制程模块中，该反应室并与该均温板接触，该反应室用以置 放该基板；至少一气体室，系设置于该制程模块中，该气体室并与该反应室接触；以及 至少一电极板，系设置于该制程模块中，该电极板并与该气体室接触； 其中，藉由该承载装置与该腔体成一倾斜角度，使得该基板与该均温板因重力而紧密遂均勻受热。
8.如权利要求7所述的电浆制程设备，其特征在于该均温板内嵌附有一加热器。
9.如权利要求7所述的电浆制程设备，其特征在于该制程模块系可选择性增加置放 于该承载装置中。
10.如权利要求7所述的电浆制程设备，其特征在于该倾斜角度为6度。
全文摘要
本发明系揭露一种电浆制程设备，其包含一腔体、一承载装置、至少一支撑组件、至少一制程模块、至少一均温板、至少一反应室、至少一气体室及至少一电极板。均温板内嵌附有一加热器。其中腔体与一处理平面成一倾斜角度，使得反应室内之基板与均温板因重力而紧密贴合，遂均匀受热。此发明更具有将加热与受电功能结合于一制程设备上，达到降低成本之目的。
文档编号C23C16/50GK102071408SQ20091024666
公开日2011年5月25日 申请日期2009年11月25日 优先权日2009年11月25日
发明者郑博仁, 黄泳钊 申请人:北儒精密股份有限公司