专利名称：一种研磨抛光装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及研磨抛光领域，更具体的说涉及一种适用于石材、地砖以及瓷砖 的研磨抛光装置。
背景技术：
目前有一种可用于磨抛、涂抹和腹膜作业的行星式抛磨盘，该行星式抛磨盘具有 转盘、磨盘和转轴，该转轴穿过转盘的轴心而固定在转盘上，并驱动转盘转动；该磨盘为多 个并可转动地设置在转盘上，其中每个磨盘的非磨抛一侧还连接有齿轮，该转轴上还设有 太阳轮，该太阳轮可沿转轴轴向自由滑动，但其周向固定在机架上，使得该太阳轮不能转 动，故使得太阳轮和转盘之间产生转速差，并由于该太阳轮与所有齿轮通过同一条传送带 而相互传动以及该磨盘均可转动地连接在转盘上，从而带动磨盘实现自转。同时其还设置 有张紧轮，从而确保传送带处于张紧的状态而使得各个磨盘的线速度一致。但是，为了对被加工物的表面进行加工，该磨盘上还会施以诸如金刚石等磨料，从 研磨和抛光的理论与实践角度看，该磨盘必须具有足够大的线速度，才能生产满足实际所 需切削效果的切削力，这样采用上述结构就必须使得转盘高速运转，才能使磨盘具有磨抛 的效用；现有的自转仅能达到让内圈转到外圈而使得磨抛均勻而已，即上述结构产生的真 正切削力还必须靠转盘转速来达成，但是由于转盘的体积本来就比较大，从而在动平衡控 制上容易出现隐患而使得磨抛效果不理想。进一步，由于该张紧轮的设置不具有对称性，从 而会使得整个研磨抛光装置失去动平衡，最终造成整个转盘发生偏摆及振动，进而在磨抛 过程中直接影响到被加工物的平坦度、平面度以及光泽度。有鉴于此，本发明人针对现有技术中磨抛效果不好的缺陷深入研究，并有本案产生。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种研磨抛光装置，从而解决现有技术中磨抛效果不 好的问题。为了达成上述目的，本实用新型的解决方案是—种研磨抛光装置，包括转盘、可转动且对称设置在转盘上的多个磨盘以及与转 盘固定相连并驱动转盘转动的主转轴，每一磨盘非磨抛的一侧还设置有传送轮，该转盘轴 心处还设置有太阳轮，该太阳轮与所有传送轮通过传送带而相互传动，其中，该研磨抛光装 置还包括次转轴，该次转轴与太阳轮相连而保持同步转动，该主转轴与次转轴同轴设置。该主转轴通过轴承而套设在次转轴外周。该主转轴外侧形成与转盘平行设置的法兰盘，该法兰盘沿圆周方向等分地设置有 向下延伸而与转盘固定的固定柱。该主转轴和次转轴都具有动力输入端，该次转轴的动力输入端突出于该主转轴的 动力输入端。[0011]该太阳轮和转盘之间还设置有轴承。该次转轴通过轴承而套设在主转轴外周。该传送带为时规皮带。采用上述结构后，由于增设有带动太阳轮转动的次转轴，从而在实现磨盘的磨抛 效用时，本实用新型涉及的一种研磨抛光装置为了实现磨盘的高速转动，只需直接通过次 转轴的驱动而带动磨盘高速转动即可，该转盘为了达到全面磨抛而只需进行低速旋转。这 样由于转盘的转速偏低，故当需要增加转盘面积时可以轻易实现，通过由于磨盘的面积较 小，其动平衡好，故振动低，进而能实现极佳的磨抛效果，同时本实用新型不具有张紧轮，故 使得整个转盘的质量排布对称，进而使得整个转盘具有极佳的动平衡而提高了整体的磨抛 质量。
图1为本实用新型第一实施例的整体结构示意图；图2为图1中传动机构与转盘之间连接关系的局部放大示意图；图3为本实用新型第一实施例中传动机构的分解示意图；图4为图3中传动机构的剖视图；图5为本实用新型第二实施例的剖视图；图6为本实用新型第二实施例的整体结构示意图；图7为转盘上传送轮的一种排布示意图；图8为本实用新型中转盘、太阳轮及磨盘三者的分解示意图。图中研磨抛光装置100主转轴[0025]主转轴动力输入端11法兰盘[0026]固定柱13转盘2[0027]磨盘3传动轮31[0028]传送带32传动轴33[0029]固定件34弹性垫35[0030]太阳轮4次转轴5[0031]次转轴动力输入端51轴承6[0032]轴承7法兰8[0033]锁牙9法兰盘10
具体实施方式
为了进一步解释本实用新型的技术方案，下面通过具体实施例来对本实用新型进 行详细阐述。请参照图1到图6所示的本实用新型涉及的一种研磨抛光装置100及适用在该研 磨抛光装置100上的传动机构，该研磨抛光装置100包括主转轴1、转盘2以及磨盘3，该主 转轴1固定连接在转盘2上并驱动转盘2转动，该转盘2可转动地设置有多个磨盘3，该多 个磨盘3对称地设置在转盘2上，每一磨盘3的一侧为磨抛面，另一侧则均设置有传动轮31，该转盘2轴心处还设置有太阳轮4，该太阳轮4与所有传动轮31之间还通过传送带32 相互传动，从而使得太阳轮4与各个传动轮31同步转动，该研磨抛光装置100还包括次转 轴5，该次转轴5与太阳轮4相连而保持同步转动，该主转轴1与次转轴5同轴设置。这样，一方面各个传动轮31之间通过传送带32而保持同步转动，从而使各个磨盘 3的线速度保持一致，避免磨损不一致而造成对石材、地砖以及瓷砖局部的过度打磨以及个 别磨盘3的过度磨损；另一方面该磨盘3的转动均由次转轴5带动，故能使得磨盘3保持高 转速运行而达到磨抛效果，此时就降低了对转盘2转速的需求，这样由于对转盘2转速的要 求降低，故当需要增加转盘2面积时可以轻易实现，因为由于转速小，整个转盘2的动平衡 可以容易地被控制。在磨抛时将磨盘3设置为高转速，由于磨盘3面积较小，故其具有良好 的动平衡，即具有振动低的效用，进而能实现较佳的磨抛效果，同时本实用新型不采用对传 送带32进行张紧的张紧轮，故使得整个转盘2的质量排布对称，进而使得整个转盘2具有 较佳的动平衡而提高了整体的磨抛质量。如图1到图4所示，其示出了本实用新型第一实施例的结构示意图，在第一实施例 中，该主转轴1套设在次转轴5外周，且同时为了确保主转轴1和次转轴5之间能互不干扰 地运转，该主转轴1和次转轴5之间还设置有轴承6。为了确保主转轴1和次转轴5均能被独立地带动，该主转轴1和次转轴5上端分 别向外引出有各自的动力输入端11、51，该主转轴1的动力输入端11与次转轴5的动力输 入端51在本实施例中采用皮带轮的方式，但其并不限于此，比如其均可以采用诸如齿轮等 本领域常用的动力输入端的方式，只要能实现动力输入即可，进一步，为了方便各自动力输 入端11、51的引出，该主转轴1的动力输入端11突出设置在次转轴5的动力输入端51。为了确保太阳轮4能相对稳定地转动，该太阳轮4和转盘2之间还设置有轴承7， 一方面该轴承7能将该太阳轮4固定在转盘2上，另一方面该太阳轮4与转盘2可独立地 进行各自的转动。为了使得该主转轴1与转盘2之间能实现良好地固定，该主转轴1外侧形成法兰 盘12，该法兰盘12与转盘2平行设置，且该法兰盘12沿圆周方向等分地设置有固定柱13， 在本实施例中，该法兰盘12圆周方向设置有三根固定柱13，该三根固定柱13将该法兰盘 12圆周等分，即相邻固定柱13与传动盘轴心形成的夹角为120度，当然并不限定为三根，只 要是将圆周等分地设置为至少两根即可。为了使得传送带32能与传动轮31始终保持同步转动，该传送带32优选为时规皮 带，该时规皮带能确保与传动轮31之间不打滑。作为该次转轴5与太阳轮4之间的连接关系的一种具体实施方式
，该次转轴5与 太阳轮4之间设置有花键结构，从而确保次转轴5与太阳轮4保持同步转动。如图5及图6所示，其示出了本实用新型第二实施例的结构示意图，其大部分结构 均与第一实施例相同，相同部分在此就不再赘述，其与第一实施例的不同之处在于，该次转 轴5套设在主转轴1外周，且同时为了确保主转轴1和次转轴5之间能互不干扰地运转，该 主转轴1和次转轴5之间还设置有轴承6。与此相应的，该主转轴1直接通过锁牙9与转 盘2固定相连，该次转轴5也形成有法兰8而直接与太阳轮4向上延伸形成的法兰盘10固 定相连，具体可以直接通过螺钉锁固，进而使得该次转轴5直接带动太阳轮4转动，该太阳 轮4则与主转轴1之间套接，具体的，该太阳轮4与主转轴1之间可以间隙，并且两者之间不发生任何相互作用。作为多个磨盘3对称地设置在转盘2上的一种具体实施方式
，如图7所示，该多个 磨盘3相对应的传动轮31对称地分布在转盘2上，该传动轮31包括大小两组传动轮31， 该大传动轮31沿圆周对称形成为三个，而该小传动轮31也沿圆周对称形成为三个，该大小 传动轮31间隔设置。当然本实用新型涉及的对称设置并不限于此，其也可以为对称设置的 四个或者更多，只要确保该多个磨盘3可以对称分布在转盘2上即可。同时为了进一步让 转盘2、磨盘3及太阳轮4之间的连接关系更加清楚，如图8所示，该磨盘还包括连接磨盘3 和传动轮31的传动轴33，以及对该传动轮31进行定位的固定件34，进一步该转盘2为了 针对被加工件的不平表面而设置为两块，而在两块转盘2之间设置有弹性垫35。需要说明 的是，该主转轴和次转轴的表述只是名称上的区别，而并不意味着主次之分。本实用新型还提供一种传动机构，如图3和图4所示，其包括第一转轴和第二转 轴，该第一转轴通过轴承6套设在第二转轴外周并与第二转轴同轴设置。具体的，当其应用 在研磨抛光装置100上时，如图1到图4所示，该第一转轴为主转轴1，而该第二转轴为次转 轴5 ；如图5及图6所示，则该第一转轴为次转轴5，而该第二转轴则为主转轴1。为了进一步保证第一转轴和第二转轴的力能顺利输出，该第一转轴外周还形成有 法兰盘12，该法兰盘12沿圆周方向等分地设置有向下延伸的固定柱13，从而供旋转力的输 出o为了方便各自动力输入端的引出，该第一转轴和第二转轴都具有动力输入端，该 第二转轴的动力输入端突出于位于第一转轴的动力输入端，具体如图3及图4所示，由于此 时第一转轴为主转轴1，而第二转轴为次转轴5，故该主转轴1的动力输入端突出设置在次 转轴5的动力输入端。上述实施例和图式并非限定本实用新型的产品形态和式样，任何所属技术领域的 普通技术人员对其所做的适当变化或修饰，皆应视为不脱离本实用新型的专利范畴。
权利要求一种研磨抛光装置，包括转盘、可转动且对称设置在转盘上的多个磨盘以及与转盘固定相连并驱动转盘转动的主转轴，每一磨盘非磨抛的一侧还设置有传送轮，该转盘轴心处还设置有太阳轮，该太阳轮与所有传送轮通过传送带而相互传动，其特征在于，该研磨抛光装置还包括次转轴，该次转轴与太阳轮相连而保持同步转动，该主转轴与次转轴同轴设置。
2.如权利要求1所述的一种研磨抛光装置，其特征在于，该主转轴通过轴承而套设在 次转轴外周。
3.如权利要求2所述的一种研磨抛光装置，其特征在于，该主转轴外侧形成与转盘平 行设置的法兰盘，该法兰盘沿圆周方向等分地设置有向下延伸而与转盘固定的固定柱。
4.如权利要求2所述的一种研磨抛光装置，其特征在于，该主转轴和次转轴都具有动 力输入端，该次转轴的动力输入端突出于该主转轴的动力输入端。
5.如权利要求2所述的一种研磨抛光装置，其特征在于，该太阳轮和转盘之间还设置 有轴承。
6.如权利要求1所述的一种研磨抛光装置，其特征在于，该次转轴通过轴承而套设在 主转轴外周。
7.如权利要求2至6任一项所述的一种研磨抛光装置，其特征在于，该传送带为时规皮市o
专利摘要本实用新型公开一种研磨抛光装置，该研磨抛光装置包括转盘、可转动且对称设置在转盘上的多个磨盘以及与转盘固定相连并驱动转盘转动的主转轴，每一磨盘非磨抛的一侧还设置有传送轮，该转盘轴心处还设置有太阳轮，该太阳轮与所有传送轮通过传送带而相互传动，该研磨抛光装置还包括次转轴，该次转轴与太阳轮相连而保持同步转动，该主转轴与次转轴同轴设置。本实用新型涉及的研磨抛光装置转盘动平衡好，从而使得整体磨抛效果好。
文档编号B24B47/00GK201685153SQ20092018329
公开日2010年12月29日 申请日期2009年9月29日 优先权日2009年9月29日
发明者徐柏龄 申请人:徐柏龄