专利名称：铝制品及其制备方法
技术领域：
本发明涉及一种铝制品及其制备方法。
背景技术：
铝及铝合金因其质轻以及优良的机械加工性能，使得铝及铝合金被广泛地应用于各种家用电器、汽车、电子产品的外壳。为了获得较好的外观效果，通常通过阳极氧化、电泳涂装、喷漆等表面装饰处理在铝或铝合金产品表面形成某种颜色的装饰层，然而，经上述处理获得的装饰层的颜色通常是固定不变的，缺乏变化和多样性。随着消费水平的提高，这种外观已经不能满足消费者对这些产品的外观追求。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种颜色多变、具有较佳装饰效果的铝制品。另外，有必要提供一种上述铝制品的制备方法。一种铝制品，包括铝基体及形成于该铝基体上的无色透明真空镀膜层，该铝基体包括经化学蚀刻形成的多孔表面，该多孔表面分布有多个纳米孔，所述纳米孔的深度分布在20 300nm范围内，该真空镀膜层形成于该多孔表面上。一种铝制品的制备方法，包括如下步骤提供铝基体；化学蚀刻处理，以使该铝基体形成多孔表面，该多孔表面分布有多个纳米孔，所述纳米孔的深度分布在20 300nm范围内，孔径分布在30 250nm范围内；真空镀膜处理，以于该多孔表面形成一层无色透明的真空镀膜层。相较于现有技术，上述铝制品先通过化学蚀刻处理在该铝基体上形成多孔表面， 再通过真空镀膜方法于该多孔表面形成该无色透明的真空镀膜层。由于多孔表面分布有所述纳米孔，使该真空镀膜层在不同的位置具有不同的厚度，即真空镀膜层于所述纳米孔处的厚度大于未形成纳米孔处的厚度。在光的照射下，不同厚度的真空镀膜层对光线的反射与折射的光程差不同，因此不同位置处的真空镀膜层可形成不同颜色的干涉光，使得同一铝制品表面呈现多种颜色，具有较佳的装饰效果。该铝制品的制备方法工艺简单。
图1为本发明较佳实施例的铝制品的剖视示意图。主要元件符号说明铝制品100铝基体10多孔表面12纳米孔122
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真空镀膜层30
具体实施例方式请参阅图1，本发明较佳实施例的铝制品100包括铝基体10及形成于铝基体10上的一层无色透明的真空镀膜层30。铝基体10的材料为纯铝或铝合金。铝基体10包括经化学蚀刻形成的多孔表面12，该多孔表面12上分布有多个纳米孔122。所述纳米孔122的孔径分布在30 250nm范围内，较佳为30 150nm。纳米孔 122的深度分布在20 300nm范围内，较佳为20 lOOnm。该真空镀膜层30形成于铝基体10的多孔表面12上。由于多孔表面12分布有所述纳米孔122，真空镀膜层30将所述纳米孔122部分或完全填充，使真空镀膜层30在不同的位置具有不同的厚度，即真空镀膜层30对应于纳米孔122位置的厚度大于未形成纳米孔 122位置的厚度。真空镀膜层30可以由金属、金属氧化物或非金属氧化物形成，其中金属可以为钛、铬、铝、锌及锆等，金属氧化物可以为钛、铬、铝、锌及锆的氧化物，非金属氧化物可以为二氧化硅。当真空镀膜层30由所述金属形成时，其厚度在50 150nm范围内，其厚度为150nm以下时，真空镀膜层30接近无色透明，超过150nm时，真空镀膜层30自身的颜色在肉眼观察下开始变得较为明显。当真空镀膜层30由所述金属氧化物或非金属氧化物形成时，其厚度在50nm至2 μ m范围内。上述铝制品100在形成该真空镀膜层30前，具有多孔表面12的铝基体10为铝材原色。当多孔表面12形成该真空镀膜层30后，由于多孔表面12分布有所述纳米孔122，使真空镀膜层30在不同的位置具有不同的厚度，即真空镀膜层30于纳米孔122处的厚度大于未形成纳米孔122处的厚度。在光的照射下，不同厚度的真空镀膜层30对光线的反射与折射的光程差不同，因此不同位置处的真空镀膜层30可形成不同颜色的干涉光，使得同一铝制品100表面呈现多种颜色。上述铝制品100的制备方法，包括如下步骤首先，提供该铝基体10。对铝基体10进行预处理。预处理包括对铝基体10除油及化学抛光。其中，所述除油步骤可以用丙酮清洗大约5分钟后，于乙醇中超声振动大约30min，然后用水清洗。所述化学抛光所用抛光液可以用体积比为8 1 1的磷酸(质量浓度为85%)、硝酸和水的混合溶液，抛光时抛光液温度在70 80°C之间，抛光时间大约为5分钟。对经上述预处理的铝基体10进行化学蚀刻处理，以在铝基体10上形成所述多孔表面12。该化学蚀刻处理的条件为以含20 50g/L三氯化铁和4. 2 5. 4mol/L盐酸的水溶液为蚀刻液，蚀刻液温度为20 40°C，蚀刻时间为3 15秒，蚀刻过程中可对蚀刻液进行搅拌。经上述化学蚀刻处理形成的多孔表面12形成所述多个纳米孔122。对经化学蚀刻的铝基体10进行真空镀膜处理，以在该多孔表面12形成该无色透明的真空镀膜层30。该真空镀膜方法可采用溅镀、蒸镀或离子镀。该步骤具体工艺可采用相应方法的常规镀膜工艺，镀膜过程中通过控制镀膜时间来控制真空镀膜层30的厚度在所述范围内，以保证该真空镀膜层30为无色透明。上述铝制品的制备方法在形成无色透明的真空镀膜层30前，先通过化学蚀刻处理在铝基体10表面形成多孔表面12，由于多孔表面12分布有所述纳米孔122，使真空镀膜层30在不同的位置具有不同的厚度，在光的照射下，不同厚度的真空镀膜层30对光线的折射与反射产生的光程差不同，不同的光程差可产生不同颜色的干涉光。因此，不同位置处的真空镀膜层30能产生不同颜色的干涉光，使得同一铝制品呈现多种颜色，具有较佳的装饰效果。该铝制品的制备方法工艺简单。
权利要求
1.一种铝制品，包括铝基体及形成于该铝基体上的无色透明真空镀膜层，其特征在于 该铝基体包括经化学蚀刻形成的多孔表面，该多孔表面分布有多个纳米孔，所述纳米孔的深度分布在20 300nm范围内，该真空镀膜层形成于该多孔表面上。
2.如权利要求1所述的铝制品，其特征在于所述纳米孔的孔径分布在30 250nm范围内。
3.如权利要求1所述的铝制品，其特征在于该真空镀膜层由金属形成。
4.如权利要求3所述的铝制品，其特征在于所述金属为钛、铬、铝、锌及锆中的一种。
5.如权利要求3所述的铝制品，其特征在于所述真空镀膜层的厚度为50 150nm。
6.如权利要求1所述的铝制品，其特征在于所述真空镀膜层由金属氧化物或者二氧化硅形成。
7.如权利要求6所述的铝制品，其特征在于所述金属氧化物为铬、铝、锌及锆的氧化物中的一种。
8.如权利要求6所述的铝制品，其特征在于所述真空镀膜层的厚度为50nm至2μm。
9.一种铝制品的制备方法，包括如下步骤提供铝基体；化学蚀刻处理，以使该铝基体形成多孔表面，该多孔表面分布有多个纳米孔，所述纳米孔的深度分布在20 300nm范围内，孔径分布在30 250nm范围内；真空镀膜处理，以于该多孔表面形成一层无色透明的真空镀膜层。
10.如权利要求9所述的铝制品的制备方法，其特征在于所述真空镀膜为蒸镀、溅镀及离子镀中的一种。
11.如权利要求9所述的铝制品的制备方法，其特征在于所述化学蚀刻是以含20 50g/L三氯化铁和4. 2 5. 4mol/L盐酸的水溶液为蚀刻液，蚀刻液温度为20 40°C，蚀刻时间为3 15秒。
12.如权利要求9所述的铝制品的制备方法，其特征在于该铝制品的制备方法还包括在所述化学蚀刻处理前，对铝基体进行预处理的步骤，该预处理包括对铝基体除油及化学抛光。
13.如权利要求9所述的铝制品的制备方法，其特征在于该真空镀膜层由金属形成， 真空镀膜层的厚度为50nm 150nm。
14.如权利要求9所述的铝制品的制备方法，其特征在于该真空镀膜层由所述真空镀膜层由金属氧化物或者二氧化硅形成，真空镀膜层的厚度为50nm 2μπι。
全文摘要
本发明提供一种铝制品，包括铝基体及形成于该铝基体上的无色透明真空镀膜层，该铝基体包括经化学蚀刻形成的多孔表面，该多孔表面分布有多个纳米孔，所述纳米孔的深度分布在20～300nm范围内，该真空镀膜层形成于该多孔表面上。该铝制品表面呈现多种颜色。本发明还提供一种上述铝制品的制备方法。
文档编号C23F1/20GK102480879SQ20101056155
公开日2012年5月30日 申请日期2010年11月26日 优先权日2010年11月26日
发明者张新倍, 徐华阳, 蒋焕梧, 陈文荣, 陈正士 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司