镀不妨碍视线图案的镜片制备方法

文档序号:3318462阅读:209来源:国知局
专利名称:镀不妨碍视线图案的镜片制备方法
镀不妨碍视线图案的镜片制备方法技术领域
本发明公开一种镀不妨碍视线图案的镜片制备方法,按国际专利分类表(IPC)划分属于镜片镀膜制造技术领域,尤其是涉及一种镜片镀不妨碍视线的图案膜层。
背景技术
普通的眼镜镜片上的图案会妨碍视线,影响佩带者正常的视觉效果,并且会对眼睛造成伤害,镜片传统镀膜的过程如下先镀铬粉,再镀上一层SiO (氧化硅),形成干涉图案,但由于铬是一种金属材料,镀出来的图案在基片上会有底色,而且镜片已镀的部分与未镀的部分穿透率不一样,所以影响到视觉效果,佩带者感觉会不舒服。
申请人之前申请的文献CN200910111752. 4公开一种光学基片镀不妨碍视线图案的制备方法,其工艺方法是将氧化硅(SiO) +五氧化三钛(Ti3O5) +氧化硅(SiO) —次成型,工艺要求低空状态下充满氧离子即可,但成型后镜片上的图案比较模糊、不明显。
如何研制出一不防碍视线的光学镜片让佩戴眼镜的消费者达到美观、实用之目的,并且不影响佩带者的视线效果,是本领域技术人员研究课题,本创作人经过长时间研究并结合大量的实验,才有本发明的提出。发明内容
针对现有技术的不足,本发明提供了一种结构合理、图案亮丽明显的镀不妨碍视线图案的镜片制备方法,通过二次成型制备的光学镜片具有安全健康、视觉效果不受影响, 并能达到镜片呈现图案的美观效果。
为达到上述目的,本发明是通过以下技术方案实现的 一种镀不妨碍视线图案的镜片制备方法,其步骤如下一)、基片清洁后,放置于高真空状态下的离子源真空机台内,在基片上先蒸镀一层高折射率的膜层后从真空机台取出;二)、再将所需要的镂空图案镀膜板贴于基片的膜层,再次放置于真空机内,在镂空部位蒸镀另一低折射率膜层干涉形成不妨碍视线的图案,利用低折射的镀膜材料的厚度不同使基材成现不同的颜色,机台内的真空状态恢复常压后取出形成图案的镜片;其中高折射率膜层厚度控制在650-1200nm,低折射率膜层厚度控制在600-1100nm。
进一步,所述的离子源真空机台内充满氩离子,且其内真空度真空度抽至至少10_3 到 IO^5Torr0
进一步,高折射率膜层是通过电阻加热或电子枪发射电子流的方式将一种高折射的镀膜材料蒸发后以分子的状态蒸着于镂空部分基片,形成高折射率膜层;低折射率膜层是通过电阻加热或电子枪发射电子流的方式将一种低折射的镀膜材料蒸发后以分子的状态蒸着于镂空图案处的混合膜层,形成低折射率膜层,低折射率膜层厚度的不同而呈现的颜色有金色、兰色、红色、银色等色彩。
进一步,所述高折射的镀膜材料为二氧化钛TiO2、二氧化锆、三氧化二钽Ta2O3、五氧化三钛Ti3O5任意一种,低折射的镀膜材料为二氧化硅SiO2,高折射率材料Ti02、 &02、Ta203、Ti305其中任何一种形成贴于基片的膜层,SW2蒸镀于上述膜层的镂空部位干涉形成不妨碍视线的图案。
进一步,所述高折射的镀膜材料为二氧化钛TiO2、二氧化锆、三氧化二钽 Ta2O3、五氧化三钛Ti3O5任意一种,低折射的镀膜材料为二氧化硅SiO,高折射率材料Ti02、 &02、Ta203、Ti3O5其中任何一种形成贴于基片的膜层,SiO蒸镀于上述膜层的镂空部位干涉形成不妨碍视线的图案。
进一步,所述的基片为压克力AC基片、聚碳酸酯Polycarbonate基片、尼龙Nylon 基片、CR-39基片、玻璃基片中的任意一种。
本发明是将AC、PC、Nylon、CR-39、玻璃基片等镀膜材质中的任何一种基片清洗干净后,然后放置于离子源设备机台内并抽高真空,先在基片上蒸镀一高折射率与低折射率的混合膜层,将所需要的镂空图案模板贴于上述膜层,以电阻加热或电子枪发射电子流的方式将低折射率镀膜材料SiO、SiO2其中任何一种材料蒸发后以分子的状态蒸着于高折射率膜层上,形成一个低折射率薄膜层,两膜层相互干扰,形成镂空图案。本发明用至的高折射率材料=TiA ( 二氧化钛)、ZrO2 ( 二氧化锆)、Ta2O3 (三氧化二钽)、Ti3O5 (五氧化三钛) 及SiO (氧化硅),因这些材料为金属氧化物,他们镀在基片上后没有底色,并且图案部分和其他部分的穿透率相差很小,因而不会影响佩戴者的视线,尤其是本发明通过二次成型,制备的镜片图案亮丽、明显,消费者更加喜欢,视觉效果更好。
具体实施方式
实施例一种镀不妨碍视线图案的镜片制备方法,其步骤如下一)、基片清洁后,放置于高真空状态下的离子源真空机台内,在基片上先蒸镀一层高折射率的膜层后从真空机台取出;二)、再将所需要的镂空图案镀膜板贴于基片的膜层,在镂空部位蒸镀另一低折射率膜层干涉形成不妨碍视线的图案,利用低折射的镀膜材料的厚度不同使基材成现不同的颜色,机台内的真空状态恢复常压后取出形成图案的镜片;其中高折射率膜层厚度控制在650-1200nm,低折射率膜层厚度控制在600-1100nm。
本发明中所述的离子源真空机台内充满氩离子,且其内真空度真空度抽至至少 10_3到10_5Torr。高折射率膜层是通过电阻加热或电子枪发射电子流的方式将一种高折射的镀膜材料蒸发后以分子的状态蒸着于镂空部分基片,形成高折射率膜层;低折射率膜层是通过电阻加热或电子枪发射电子流的方式将一种低折射的镀膜材料蒸发后以分子的状态蒸着于镂空图案处的混合膜层,形成低折射率膜层,低折射率膜层厚度的不同而呈现的颜色有金色、兰色、红色、银色等色彩。
本发明中所述高折射的镀膜材料为二氧化钛TiO2、二氧化锆、三氧化二钽 Ta2O3、五氧化三钛Ti3O5任意一种,低折射的镀膜材料为二氧化硅SW2或SiO,高折射率材料 TiO2, ZrO2, Ta203> Ti3O5其中任何一种形成贴于基片的膜层,SiO2或SiO蒸镀于上述膜层的镂空部位干涉形成不妨碍视线的图案。
本发明所述的基片为压克力AC基片、聚碳酸酯Polycarbonate基片、尼龙Nylon 基片、CR-39基片、玻璃基片中的任意一种。
本发明公开一种镀不妨碍视线图案的镜片制备方法,基片清洁后,放置于高真空状态下的离子源真空机台内,在基片上蒸镀一高折射率膜层并取出;将所需要的镂空图案镀膜板贴于基片的膜层,在镂空部位蒸镀另一低折射率膜层干涉形成不妨碍视线的图案, 机台内的真空状态恢复常压后取出形成图案的镜片,本发明通过二次成型,不但制备的镜片具有不防碍视线的效果,而且镜片上图案更亮丽、明显,视觉效果更佳。
本发明通过二次成型得到的图案亮丽明显的原因如下1、先镀上高折射率的材料,使基片上呈现镜面白的白光;2、再贴上镀膜板图案,再蒸着低折射率的材料使图案的图形呈现银色、黄色、兰色、粉红等颜色;3、镜面亮白色与银、黄、兰、粉红等图案呈现对比视觉,使整体美感更亮丽。
以上所记载,仅为利用本创作技术内容的实施例,任何熟悉本项技艺者运用本创作所做的修饰、变化,皆属本创作主张的专利范围,而不限于实施例所揭示者。
权利要求
1.一种镀不妨碍视线图案的镜片制备方法,其特征在于步骤如下一)、基片清洁后,放置于高真空状态下的离子源真空机台内,在基片上先蒸镀一层高折射率的膜层后从真空机台取出;二)、再将所需要的镂空图案镀膜板贴于基片的膜层,再次放置于真空机内,在镂空部位蒸镀另一低折射率膜层干涉形成不妨碍视线的图案,利用低折射的镀膜材料的厚度不同使基材成现不同的颜色,机台内的真空状态恢复常压后取出形成图案的镜片;其中高折射率膜层厚度控制在650-1200nm,低折射率膜层厚度控制在600-1100nm。
2.根据权利要求1所述的镀不妨碍视线图案的镜片制备方法,其特征在于所述的离子源真空机台内充满氩离子,且其内真空度真空度抽至至少10_3到l(T5T0rr。
3.根据权利要求1所述的镀不妨碍视线图案的镜片制备方法,其特征在于步骤一) 中,高折射率膜层是通过电阻加热或电子枪发射电子流的方式将一种高折射的镀膜材料蒸发后以分子的状态蒸着于镂空部分基片,形成高折射率膜层;低折射率膜层是通过电阻加热或电子枪发射电子流的方式将一种低折射的镀膜材料蒸发后以分子的状态蒸着于镂空图案处的混合膜层,形成低折射率膜层,低折射率膜层厚度的不同而呈现的颜色有金色、兰色、红色、银色、黄色、粉红颜色。
4.根据权利要求1或3所述的镀不妨碍视线图案的镜片制备方法,其特征在于所述高折射的镀膜材料为二氧化钛TiO2、二氧化锆、三氧化二钽Ta2O3、五氧化三钛Ti3O5任意一种,低折射的镀膜材料为二氧化硅SiO2,高折射率材料Ti02、&02、Ta203、Ti305其中任何一种形成贴于基片的膜层,SiO2蒸镀于上述膜层的镂空部位干涉形成不妨碍视线的图案。
5.根据权利要求1或3所述的镀不妨碍视线图案的镜片制备方法,其特征在于所述高折射的镀膜材料为二氧化钛TiO2、二氧化锆、三氧化二钽Ta2O3、五氧化三钛Ti3O5任意一种,低折射的镀膜材料为二氧化硅SiO,高折射率材料Ti02、Zr02、Ta203、Ti3O5其中任何一种形成贴于基片的膜层,SiO蒸镀于上述膜层的镂空部位干涉形成不妨碍视线的图案。
6.根据权利要求1所述的镀不妨碍视线图案的镜片制备方法,其特征在于所述的基片为压克力AC基片、聚碳酸酯Polycarbonate基片、尼龙Nylon基片、CR-39基片、玻璃基片中的任意一种。
全文摘要
本发明公开一种镀不妨碍视线图案的镜片制备方法,基片清洁后,放置于高真空状态下的离子源真空机台内,在基片上蒸镀一高折射率膜层并取出;将所需要的镂空图案镀膜板贴于基片的膜层,在镂空部位蒸镀另一低折射率膜层干涉形成不妨碍视线的图案,机台内的真空状态恢复常压后取出形成图案的镜片,本发明通过二次成型,不但制备的镜片具有不防碍视线的效果,而且镜片上图案更亮丽、明显,视觉效果更佳。
文档编号C23C14/10GK102505108SQ20111043249
公开日2012年6月20日 申请日期2011年12月21日 优先权日2011年12月21日
发明者杨敏男 申请人:厦门美澜光电科技有限公司
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