专利名称：离子轰击电接触结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及真空镀膜用的工件清洗离子轰击电接触结构。
背景技术：
随后出现有物理气相沉积(PVD)技术，主要是在真空环境下进行表面处理，物理气相沉积本身分为三种真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜，近十年来发展相当快，已经成为当今最先进的表面处理方式之一。真空镀膜生产是实现膜层附着在工件表面，以获得需要的工件表面特性，然而，在实际生产时，工件表面都或多或少积累有污垢，这些污垢如不能有效除去，则会极大的影响膜层附着力，导致产品品质下降。因而需要进行清洁，但传统的方式是采用人工擦洗，这不仅增加了劳动量和生产成本，且生产率低，存在清洁不 彻底的缺陷。随后出现有利用离子轰击工件表面，使工件表面的污垢离化，从而达到清洁的功效，而离子轰击工作时的电源导通及断开是由手动实现，存在不稳定性及不安全性。为此，本申请人迎合市场发展的需求，秉持着研究创新、精益求精之精神，利用其专业眼光和专业知识，研究出一种适于产业利用的工件清洗离子轰击电接触结构。
发明内容本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种真空镀膜用的工件清洗离子轰击电接触结构，结构简单，成本低，动作稳定及安全。为达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案离子轰击电接触结构，其具有相互配合导通的第一接触头和第二接触头，所述第一接触头固定安装在真空室门上，而第二接触头以可浮动式安装在真空室主体上。所述第一接触头和第二接触头均为铜柱体，两接触头轴向对接导通，所述第二接触头的浮动方向与第一接触头和第二接触头所对接导通的轴线方向一致。所述第二接触头上设有可实现第二接触头浮动状态的压缩弹簧，压缩弹簧套接在第二接触头上。所述第一接触头与真空室门之间有绝缘座绝缘分隔；所述第二接触头与真空室主体之间有绝缘套绝缘分隔。本实用新型设计的真空镀膜用的工件清洗离子轰击电接触结构，可实现真空室门合上后自动导通功效，由此满足轰击棒通电配合氩气产生放电获得等离子，并以等离子撞击工件表面，使工件表面的污垢离化，从而达到清洁的功效，本实用新型结构简单，科学合理，投资成本低，体积小巧，安装、使用方便，动作稳定及安全。
附图I为本实用新型的较佳实施例结构示意图。
具体实施方式
[0015]
以下结合附图对本实用新型进一步说明参阅图I所示，本实用新型所述的离子轰击电接触结构，其具有相互配合导通的第一接触头I和第二接触头2，第一接触头I和第二接触头2均为铜柱体，两接触头通过轴向对接导通。所述第一接触头I固定安装在真空室门3上，并在第一接触头I与真空室门3之间有绝缘座6绝缘分隔，防止漏电；而第二接触头2以可浮动式安装在真空室主体4上，且第二接触头2与真空室主体4之间也有绝缘套7绝缘分隔，第二接触头2活动穿设于绝缘套7内中部。本实施例中，所述第二接触头2的浮动方向与第一接触头I和第二接触头2所对接导通的轴线方向一致，由此达到关门时内缩避让和确保第一接触头I和第二接触头2对接导通。图I所示，所述第二接触头2上设有可实现第二接触头2浮动状态的压缩弹簧5，压缩弹簧5套接在第二接触头2上。当真空室门3关闭时，压缩弹簧5提供第二接触头2内缩避让功能，由此可满足第一接触头I和第二接触头2轴向对接导通之动作要求，同时在 压缩弹簧5的作用下，还可使第一接触头I和第二接触头2能紧密的轴向对接，不易松脱，导通稳定及安全，也就使离子轰击电源与轰击棒稳定的导通，提升工作效能和质量。本实用新型设计的真空镀膜用的离子轰击电接触结构，可实现真空室门合上后自动导通功效，由此满足轰击棒通电配合氩气产生放电获得等离子，并以等离子撞击工件表面，使工件表面的污垢离化，从而达到清洁的功效，其结构简单，科学合理，投资成本低，体积小巧，安装、使用方便，动作稳定及安全。当然，以上图示仅为本实用新型的较佳实施例，并非以此限定本实用新型的实施范围，故，凡是依照本实用新型之原理做等效变化或修饰，均应涵盖于本实用新型的保护范围内。
权利要求1.离子轰击电接触结构，其特征在于具有相互配合导通的第一接触头(I)和第二接触头(2)，所述第一接触头(I)固定安装在真空室门(3)上，而第二接触头(2)以可浮动式安装在真空室主体(4)上。
2.根据权利要求I所述的离子轰击电接触结构，其特征在于所述第一接触头(I)和第二接触头(2)均为铜柱体，两接触头轴向对接导通，所述第二接触头(2)的浮动方向与第一接触头(I)和第二接触头(2)所对接导通的轴线方向一致。
3.根据权利要求2所述的离子轰击电接触结构，其特征在于所述第二接触头(2)上设有可实现第二接触头(2)浮动状态的压缩弹簧(5)，压缩弹簧(5)套接在第二接触头(2)上。
4.根据权利要求I所述的离子轰击电接触结构，其特征在于所述第一接触头(I)与真空室门(3 )之间有绝缘座(6 )绝缘分隔；所述第二接触头(2 )与真空室主体(4)之间有绝缘套(7)绝缘分隔。
专利摘要本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及离子轰击电接触结构，其具有相互配合导通的第一接触头和第二接触头，所述第一接触头固定安装在真空室门上，而第二接触头以可浮动式安装在真空室主体上。所述第一接触头和第二接触头均为铜柱体，两接触头轴向对接导通，所述第二接触头的浮动方向与第一接触头和第二接触头所对接导通的轴线方向一致。本实用新型可实现真空室门合上后自动导通功效，由此满足轰击棒通电配合氩气产生放电获得等离子，并以等离子撞击工件表面，使工件表面的污垢离化，从而达到清洁的功效，结构简单，科学合理，投资成本低，体积小巧，安装、使用方便，动作稳定及安全。
文档编号C23C14/22GK202595247SQ20122013055
公开日2012年12月12日 申请日期2012年3月31日 优先权日2012年3月31日
发明者赵铭 申请人:广东友通工业有限公司