专利名称：一种湿刻设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及半导体制作工艺，特别是指一种湿刻设备。
背景技术：
在制作液晶平板显示器液晶平板显示器(TFT-LCD，Thin Film Transistor LCD)和半导体的工艺中需要应用到湿刻工艺，湿刻工艺对产品的性能和良率有重要影响。湿刻设备的刻蚀方式一般有两种浸泡模式和喷射模式；浸泡模式刻蚀图形的过程容易控制，喷射模式的刻蚀速率较快。喷射模式中，药液喷射的压力会对刻蚀速率造成影响，压力越大，刻蚀速率越快。如图I所示，现有设备采用锥形喷射方式，喷射药液所形成的液面为锥形。现有技术存在诸多问题喷射方式对压力泵的要求较高，如果压力泵的压力降低，或者新配方药液的粘稠度增大，喷射的锥形横截面就会变小，造成刻蚀过程中的均一性下降，制造的产品在点亮时出现姆拉，若更换新泵，则成本会非常高。
实用新型内容本实用新型要解决的技术问题是提供一种湿刻设备，用于解决现有技术中，喷射方式对压力泵的要求高，如果泵的压力降低，或者药液的粘稠度增大，会导致喷射的锥形横截面变小，造成刻蚀过程中的均一性下降的缺陷。为解决上述技术问题，本实用新型的实施例提供一种湿刻设备，包括多个喷嘴，一个所述喷嘴包括喷头本体；所述喷头本体的第一端具有用于进行机械固定的螺纹部分；所述喷头本体的第二端具有一个凹槽；贯通所述喷头本体的用于输送刻蚀药液的导流道，所述导流道的末端位于所述凹槽中；所述导流道的末端具有一喷射孔。所述的湿刻设备中，所述喷射孔呈丝网状。所述的湿刻设备中，所述喷射孔位于所述凹槽的正中位置，呈圆形，且边缘与所述凹槽相切。所述的湿刻设备中，所述喷头本体呈圆柱体，所述圆柱体具有所述第一端和第二端；所述凹槽位于所述第二端的中部，呈线性形状。所述的湿刻设备中，各个所述喷嘴位于生产线上不同的作业行上；每一作业行具有一个向该作业行上的各个喷嘴提供所述刻蚀药液的管道；所述管道与所述导流道贯通连接。所述的湿刻设备中，所述生产线具有四个作业行，分别是第一作业行、第二作业行、第三作业行和第四作业行。所述的湿刻设备中，与所述螺纹部分机械连接，用于改变所述喷头本体的角度的旋动部。所述的湿刻设备中，与各个所述旋动部连接，用于向所述旋动部输出角度控制信号的喷射角度调整部件。[0013]所述的湿刻设备中，位于第一作业行的各个所述凹槽与生产线所在直线之间的角度呈45°，位于第二作业行的各个所述凹槽与生产线所在直线之间的角度呈45°，且所述第一作业行的所述凹槽与所述第二作业行的同一列上的所述凹槽之间呈90°。所述的湿刻设备中，位于第一作业行的各个凹槽与生产线所在直线之间的角度呈45°，且相邻两个所述凹槽之间呈90° ;位于第二作业行的各个所述凹槽与生产线所在直线之间的角度呈45°，且相邻两个所述凹槽之间呈90°。本实用新型的上述技术方案的有益效果如下螺纹部分用于固定喷嘴，喷头本体是喷射药液的主要区域，这种结构保证了喷射药液所形成的液面为近似矩形，有效的增大了喷射的面积，减少了在刻蚀过程中药液的使用量，保证了刻蚀的效果，提高了刻蚀的速度。
·[0016]图I表示现有设备的锥形喷射方式示意图；图2表不湿刻设备的喷嘴结构不意图一；图3表示湿刻设备的喷嘴结构示意图二 ；图4表示喷射孔呈丝网状的示意图；图5表示扇形喷射方式示意图；图6表示多个喷嘴喷射药液的效果示意图；图7表示生产线上各个喷嘴之间的排列关系示意图一；图8表示生产线上各个喷嘴之间的排列关系示意图二 ；图9表示湿刻设备喷射药液的效果示意图。
具体实施方式
为使本实用新型要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。本实用新型中改进了湿刻设备的喷嘴，为此，本实用新型实施例提供一种湿刻设备，包括多个喷嘴，如图2和图3所示，一个所述喷嘴包括喷头本体I ;所述喷头本体I的第一端具有用于进行机械固定的螺纹部分2 ；所述喷头本体I的第二端具有一个凹槽3 ；贯通所述喷头本体I的用于输送刻蚀药液的导流道4，所述导流道4的末端位于所述凹槽3中；所述导流道4的末端具有一喷射孔5。应用所提供的技术方案，螺纹部分2用于固定喷嘴，喷头本体I是喷射药液的主要区域，这种结构保证了喷射药液所形成的液面为如图5所示的近似矩形的扇面，有效的增大了喷射的面积，减少了在刻蚀过程中药液的使用量，保证了刻蚀的效果，提高了刻蚀的速度。在一个优选实施例中，如图3所示，喷射孔5位于所述凹槽3的正中位置，呈圆形，且喷射孔5的边缘与凹槽3相切。[0034]如图4所示，喷射孔5呈丝网状。在一个优选实施例中，如图3所示，喷头本体I呈圆柱体，所述圆柱体具有所述第一端和第二端；所述凹槽3位于所述第二端的中部，呈线性形状。若凹槽3的宽度较窄，喷射时覆盖的近似矩形的扇面会大一些，相同压力下，力度也会大一些。凹槽3的底部到凹槽3的顶部的纵深高度，与凹槽3的宽度之间具有一个对应关系，该对应关系由喷射孔5喷射的刻蚀药液所覆盖的范围决定。如图6所示，喷射药液的过程中，每一个喷嘴喷射的药液会形成一个近似矩形，相邻的两个喷嘴形成的相邻的两个近似矩形之间会形成交叠区域；交叠区域的面积不宜过大，以此来保证刻蚀的均一'丨生。在一个优选实施例中，如图7所示，还包括各个喷嘴位于生产线上不同的作业行 上；纵向是喷嘴的摇动方向，横向-水平方向是基板的晃动前进方向；每一作业行对应有一个向该作业行上的喷嘴提供刻蚀药液的管道；所述管道与喷头本体I上的导流道4贯通连接。在刻蚀的过程中，由于管道会发生晃动，因此作业行上的喷嘴也会随着管道晃动，基板同样会晃动，从而使药液覆盖整个面板。只要保证喷射药液有足够的压力，就可以保证刻蚀速率和刻蚀结果的均一性。在一个优选实施例中，如图7和8所示，生产线具有四个作业行，分别是第一作业行、第二作业行、第三作业行和第四作业行。在一个优选实施例中，还包括与螺纹部分2机械连接，用于改变所述喷头本体I的角度的旋动部。在一个优选实施例中，还包括与各个所述喷嘴的所述旋动部连接，用于向各个所述旋动部输出角度控制信号的喷射角度调整部件。在对面板刻蚀的过程中，调整喷嘴喷射药液的方向，为此，喷嘴的排列方式有两种，在一个优选实施例中，如图7所示,包括位于第一作业行的各个所述凹槽3与生产线之间的角度呈45°，位于第二作业行的各个所述凹槽3与生产线之间的角度呈45°，且所述第一作业行的所述凹槽3与所述第二作业行的同一列上的凹槽3之间呈90。。如图8所示，纵向是喷嘴的摇动方向，横向是基板的前进方向；位于第一作业行的各个所述凹槽3与生产线之间的角度呈45°，且相邻两个所述凹槽3之间呈90° ;位于第二作业行的各个所述凹槽3与生产线之间的角度呈45°，且相邻两个所述凹槽3之间呈90°。在对面板刻蚀的过程中，调整喷嘴喷射药液的方向，设置相邻两个喷嘴各自的喷射小区域呈45°，喷射的结果如图5、6和9所示，可以保证各个喷嘴的喷射小区域交叠成一个近似矩形，更加有效的利用药液。在一个优选实施例中，应用所提供的技术方案中的喷射模式，保证了较快的刻蚀速率，但无法改善图案的形状；而浸泡模式可以有效的改善图案的形状，因此优选地采用喷射，浸泡，再喷射的模式步骤，并且控制好各个步骤的时间，如此不仅提高了刻蚀速度，而且通过浸泡改善了图案形状，保证了刻蚀的均一性。[0052]采用本方案之后的优势是通过对喷嘴的改造，将锥形喷射改为扇形喷射，改善了现有锥形喷射时带来的坡度角过陡的缺陷；有效的增大了喷射的面积，减少了在刻蚀过程中的药液使用量，增大了湿法刻蚀设备对药液的适应性，不仅适用于粘度较小的药液，也适用于粘稠度较大的药液；提高了产品在刻蚀过程中的均一性，减少了后期产品中可能出现的刻蚀姆拉；提高了湿法刻蚀设备的工 作效率，减少产品制作过程中的刻蚀不良，降低了生产成本。以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
权利要求1.一种湿刻设备，其特征在于，包括多个喷嘴，一个所述喷嘴包括 喷头本体； 所述喷头本体的第一端具有用于进行机械固定的螺纹部分； 所述喷头本体的第二端具有一个凹槽； 贯通所述喷头本体的用于输送刻蚀药液的导流道，所述导流道的末端位于所述凹槽中； 所述导流道的末端具有一喷射孔。
2.根据权利要求I所述的湿刻设备，其特征在于， 所述喷射孔呈丝网状。
3.根据权利要求2所述的湿刻设备，其特征在于， 所述喷射孔位于所述凹槽的正中位置，呈圆形，且边缘与所述凹槽相切。
4.根据权利要求I所述的湿刻设备，其特征在于， 所述喷头本体呈圆柱体，所述圆柱体具有所述第一端和第二端； 所述凹槽位于所述第二端的中部，呈线性形状。
5.根据权利要求I所述的湿刻设备，其特征在于， 各个所述喷嘴位于生产线上不同的作业行上； 每一作业行具有一个向该作业行上的各个喷嘴提供所述刻蚀药液的管道； 所述管道与所述导流道贯通连接。
6.根据权利要求5所述的湿刻设备，其特征在于， 所述生产线具有四个作业行，分别是第一作业行、第二作业行、第三作业行和第四作业行。
7.根据权利要求I所述的湿刻设备，其特征在于，还包括 与所述螺纹部分机械连接，用于改变所述喷头本体的角度的旋动部。
8.根据权利要求7所述的湿刻设备，其特征在于，还包括 与各个所述旋动部连接，用于向所述旋动部输出角度控制信号的喷射角度调整部件。
9.根据权利要求8所述的湿刻设备，其特征在于， 位于第一作业行的各个所述凹槽与生产线所在直线之间的角度呈45°， 位于第二作业行的各个所述凹槽与生产线所在直线之间的角度呈45°， 且所述第一作业行的所述凹槽与所述第二作业行的同一列上的所述凹槽之间呈90°。
10.根据权利要求8所述的湿刻设备，其特征在于， 位于第一作业行的各个所述凹槽与生产线所在直线之间的角度呈45°，且相邻两个所述凹槽之间呈90° ; 位于第二作业行的各个所述凹槽与生产线所在直线之间的角度呈45°，且相邻两个所述凹槽之间呈90°。
专利摘要本实用新型实施例提供一种湿刻设备，包括喷头本体；所述喷头本体的第一端具有用于进行机械固定的螺纹部分；所述喷头本体的第二端具有一个凹槽；贯通所述喷头本体的用于输送刻蚀药液的导流道，所述导流道的末端位于所述凹槽中；所述导流道的末端具有一喷射孔。螺纹部分用于固定喷嘴，喷头本体是喷射药液的主要区域，这种结构保证了喷射药液所形成的液面为近似矩形，有效的增大了喷射的面积，减少了在刻蚀过程中药液的使用量，保证了刻蚀的效果，提高了刻蚀的速度。
文档编号C23F1/08GK202730239SQ20122039799
公开日2013年2月13日 申请日期2012年8月10日 优先权日2012年8月10日
发明者赵德江, 张玉军, 崔伟, 祝杰 申请人:京东方科技集团股份有限公司