一种新型磁控轴瓦溅镀的制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种新型磁控轴瓦溅镀机，涉及溅渡装置【技术领域】，包括溅渡壳体，溅渡壳体内设有溅渡腔，溅渡腔设有溅射靶支撑架和轴瓦支撑架，溅渡壳体底部设有底座，溅射靶支撑架和轴瓦支撑架设置在溅渡壳体底部底座上，溅射靶支撑架中间设有溅射靶架轴，溅射靶架轴底部设有旋转环，旋转环通过连接杆与溅射靶架轴一侧的溅射靶支撑架边缘连接,溅渡壳体最下方设有电机，旋转环与电机输出轴相连接，溅射靶架轴两侧的溅射靶支撑架各活动设有一块溅射靶，溅射靶的双面设有凹槽，正面凹槽的底面为镍靶、背面凹槽的底面合金靶，通过两面靶，解决以往受降温以及更换靶材等步骤制约，增加了工作产量、提高了效率。
【专利说明】一种新型磁控轴瓦溅镀机
【技术领域】
[0001] 本发明涉及溅渡装置，尤其涉及一种新型磁控轴瓦溅镀机。
【背景技术】
[0002] 磁控溅射即在阴极靶表面形成一正交电磁场，在此区电子密度高，进而提高离子 密度，使得溅镀率提高(一个数量级)，溅射速度可达〇. 1- 1 um/min膜层附着力较蒸镀佳， 是目前最实用的镀膜技术之一，在磁控溅射中通常加工标准轴瓦的方法是：1、先制造钢背， 2、在钢背上烧结或浇筑铜基合金层，3、将该轴瓦基体送入溅镀设备分层溅镀镍栅层和减磨 合金层，本方法是安全环保的，但缺点是由于要溅镀两层(镍栅层和减磨合金层)，受目前溅 镀设备的限制，因此在溅镀完镍栅层后要降温冷却后更换镍靶换成合金材料靶，这种溅镀 方式受降温以及更换靶材等步骤制约，产量、效率很低。
【发明内容】
[0003] 针对上述问题，本发明提供了一种新型磁控轴瓦溅镀机。
[0004] 为解决上述技术问题，本发明所采用的技术方案是：一种新型磁控轴瓦溅镀机，包 括溅渡壳体，溅渡壳体内设有溅渡腔，所述溅渡腔设有溅射靶支撑架和轴瓦支撑架，所述溅 渡壳体底部设有底座，所述溅射靶支撑架和所述轴瓦支撑架设置在溅渡壳体底部底座上， 所述溅射靶支撑架中间设有溅射靶架轴，所述溅射靶架轴底部设有旋转环，所述旋转环通 过连接杆与溅射靶架轴一侧的溅射靶支撑架边缘连接，所述溅渡壳体最下方设有电机，所 述旋转环与所述电机输出轴相连接。
[0005] 进一步地，所述溅射靶架轴两侧的溅射靶支撑架各活动设有一块溅射靶，所述所 述溅射靶的双面设有凹槽，正面凹槽的底面为镍靶、背面凹槽的底面合金靶。
[0006] 进一步地，轴瓦支撑架表面设有多个挂柱，轴瓦支撑架各独自连接一个轴瓦支撑 架旋转电机。
[0007] 由上述对本发明结构的描述可知，和现有技术相比，本发明具有如下优点： 本发明，通过所述溅射靶架轴两侧的溅射靶支撑架各活动设有一块溅射靶，所述所述 溅射靶的双面设有凹槽，正面凹槽的底面为镍靶、背面凹槽的底面合金靶，当需要镍靶时， 合金靶互相贴合，只显现出镍靶，本种溅镀方式是安全环保的，通过两面靶，解决以往受降 温以及更换靶材等步骤制约，增加了工作产量、提高了效率。
【专利附图】
【附图说明】
[0008] 构成本申请的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实 施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中： 图1为本发明为一种新型磁控轴瓦溅镀机整体构示意图； 图2为本发明为一种新型磁控轴瓦溅镀机的合金靶面闭合示意图。
【具体实施方式】
[0009] 为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对 本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并 不用于限定本发明。 实施例
[0010] 通过参考图1和图2,一种新型磁控轴瓦溅镀机，包括溅渡壳体1，溅渡壳体1内设 有溅渡腔2,溅渡腔8设有溅射靶支撑架3和轴瓦支撑架4,溅渡壳体1底部设有底座7,溅 射靶支撑架3和轴瓦支撑架4设置在溅渡壳体1底部底座7上，溅射靶支撑架3中间设有 溅射靶架轴10,溅射靶架轴10底部设有旋转环11，旋转环11通过连接杆6与溅射靶架轴 10 -侧的溅射靶支撑架3边缘连接，溅渡壳体1最下方设有电机，旋转环11与电机输出轴 相连接，溅射靶架轴10两侧的溅射靶支撑架3各活动设有一块溅射靶2,溅射靶2的双面设 有凹槽，正面凹槽的底面为镍靶、背面凹槽的底面合金靶，轴瓦支撑架4表面设有多个挂柱 9，轴瓦支撑架4各独自连接一个轴瓦支撑架旋转电机。
[0011] 所谓溅镀，以目前了解为，在靶材和承载件上分别接入电源的正负极，在靶材和承 载件之间即可建立起一个电磁场，电源正极为电磁场阳极，电源负极为电磁场阴极。接通电 源后电磁场能量通过溅镀设备内的惰性气体对靶材轰击，将靶材轰击为中性离子溅射并沉 积到对面的轴瓦基体上本发明则通过在溅射靶架轴10两侧的溅射靶支撑架3各活动设有 一块溅射靶2,溅射靶2的双面设有凹槽，正面凹槽的底面为镍靶、背面凹槽的底面合金靶， 溅射靶支撑架3中间设有溅射靶架轴10,溅射靶架轴10底部设有旋转环11，旋转环11通 过连接杆6与溅射靶架轴10 -侧的溅射靶支撑架3边缘连接，溅渡壳体1最下方设有电 机，旋转环11与电机输出轴相连接。
[0012] 当需要镍靶面时，通过旋转环11转动360度，使合金靶面对面重合，如图2,使合金 靶面再一个密闭范围内，在对一面进行溅射不容易造成不同靶面的不同靶材的污染，才能 保持溅射靶2表面平整度，提高最终溅射效果，轴瓦支撑架4表面设有多个挂柱9,方便悬挂 瓦轴，当需要合金靶面时，再次回转360度，同样的原理运行一次，由于溅射靶2的双面设有 凹槽，正面凹槽的底面为镍靶、背面凹槽的底面合金靶，使不需要用的靶面处于更加密闭的 环境。
[0013] 以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精 神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【权利要求】
1. 一种新型磁控轴瓦溅镀机，包括溅渡壳体（1 )，溅渡壳体（1)内设有溅渡腔（2)，所述 溅渡腔（8 )设有溅射靶支撑架（3 )和轴瓦支撑架（4 )，所述溅渡壳体（1)底部设有底座（7 )， 其特征在于：所述溅射靶支撑架（3)和所述轴瓦支撑架（4)设置在溅渡壳体（1)底部底座 (7 )上，所述溅射靶支撑架（3 )中间设有溅射靶架轴（10 )，所述溅射靶架轴（10 )底部设有旋 转环（11 )，所述旋转环（11)通过连接杆（6 )与溅射靶架轴（10 ) -侧的溅射靶支撑架（3 )边 缘连接，所述溅渡壳体（1)最下方设有电机，所述旋转环（11)与所述电机输出轴相连接。
2. 根据权利要求1所述一种新型磁控轴瓦溅镀机，其特征在于：所述溅射靶架轴（10) 两侧的溅射靶支撑架（3)各活动设有一块溅射靶（2)，所述所述溅射靶（2)的双面设有凹 槽，正面凹槽的底面为镍靶、背面凹槽的底面合金靶。
3. 根据权利要求1所述一种新型磁控轴瓦溅镀机，其特征在于：轴瓦支撑架（4)表面设 有多个挂柱（9)，轴瓦支撑架（4)各独自连接一个轴瓦支撑架旋转电机。
【文档编号】C23C14/35GK104060233SQ201410296566
【公开日】2014年9月24日 申请日期:2014年6月27日 优先权日:2014年6月27日
【发明者】木俭朴 申请人:山东大丰轴瓦有限公司